硅功率器件液相钝化的研究与试验

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1、硅功率器件液相钝化的研究与试验

2、第1500)this.style.ouseg(this)">500)this.style.ouseg(this)">上述结果说明液相钝化条件恰当时，就能在硅表面得到几千埃厚的生成膜。此膜是以Si－O键为主体的SiO2膜。2.2钝化试验样品为用锡连接在一起的多片管芯，目的是在暴露的芯片四周表面进行初次保护。将样片两端用黑胶保护后，采用HF：HNO3＝1：6的腐蚀液腐蚀，继而进行液相钝化处理，用去离子水冲净后烘干。为了比较，抽测了部分样品如表1所示表1管芯耐压测试（单位：V／mA）编号腐蚀后钝化后隔24小时后1正500/0.04700/0.02700

3、/0.02反500/0.06700/0.04700/0.042正600/0.06900/0.02900/0.02反400/0.06700/0.02700/0.013正600/0.061300/0.041250/0.04反600/0.06800/0.02800/0.024正400/0.02700/0.06600/0.08反800/0.04700/0.04600/0.075正1100/0.062500/0.022400/0.03反800/0.12500/0.042400/0.04表中数据是由未解开的管芯柱测得，因此是数个管芯耐压数值的总和。随后，取若干个管芯柱解开成一个个管芯片，再

4、进行测量，结果，各个单独管芯片测得的数值之和与开始测得的管芯柱的数值基本相符，且解开后的单个管芯伏安特性仍然较好。这就说明，液相钝化膜起到了钝化和保护作用.3结论当硅器件表面处于清洁活泼状态时，在适当比例浓度HF－HNO3溶液中，很容易得到一层几千埃厚的薄膜。此液相生成膜主要是硅的氧化物（SiO2），另含有硅的氢化物和氟化物等。通过数次钝化试验HF－HNO3液相生成膜可以有效地保护器件表面，并能够在空气中持续一段时间而不被污染，说明膜层起到了钝化和保护作用。它虽不能提供全部的机械和化学保护作用，但能够降低表面态，防止后续工艺的污染，从而稳定了器件的表面特性，所以用来作为器件的初

5、次钝化膜是完全可以的。液相钝化方法简单，易于掌握，完全可以应用到生产实际中。值得注意的是：1)腐蚀液和钝化液试剂纯度要高，比例应控制好。2)器件金属部分要掩蔽严密，尽量不暴露于腐蚀和钝化液中。表中数据是由未解开的管芯柱测得，因此是数个管芯耐压数值的总和。随后，取若干个管芯柱解开成一个个管芯片，再进行测量，结果，各个单独管芯片测得的数值之和与开始测得的管芯柱的数值基本相符，且解开后的单个管芯伏安特性仍然较好。这就说明，液相钝化膜起到了钝化和保护作用。3结论当硅器件表面处于清洁活泼状态时，在适当比例浓度HF－HNO3溶液中，很容易得到一层几千埃厚的薄膜。此液相生成膜主要是硅的氧化物

6、（SiO2），另含有硅的氢化物和氟化物等。通过数次钝化试验HF－HNO3液相生成膜可以有效地保护器件表面，并能够在空气中持续一段时间而不被污染，说明膜层起到了钝化和保护作用。它虽不能提供全部的机械和化学保护作用，但能够降低表面态，防止后续工艺的污染，从而稳定了器件的表面特性，所以用来作为,器件的初次钝化膜是完全可以的。液相钝化方法简单，易于掌握，完全可以应用到生产实际中。值得注意的是：1)腐蚀液和钝化液试剂纯度要高，比例应控制好。2)器件金属部分要掩蔽严密，尽量不暴露于腐蚀和钝化液中。3)整个过程不要让管芯暴露在空气中。