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1、《文献检索》课程论文偏压对大尺寸活性屏离子渗氮的影响班级：学号：姓名：11材料成型2班1136230034杨宁完成时间：2014年11月2日《文献检索》课程论文偏压对大尺寸活性屏离子渗氮的影响杨宁（台州学院机械工程学院，浙江台州318000）摘要：通过对45钢进行活性屏离子渗氮处理,研究了在活性屏离子渗氮工艺过程中工件所加的偏压对渗氮层的影响.试验结果表明,在不加偏压或偏压较低的情况下,对距离活性屏较近的工件,其表面有一定厚度的渗氮层形成,硬度提高；而距离活性屏较远的工件,其表面几乎没有渗氮层的形成,但当增大偏压至400～450V时,工件表面产生弱的辉光放电
2、,距离活性屏较远的工件表面也有渗氮层形成.通过控制偏压值,可以使工件表面形成厚度均匀的渗氮层,提高工件硬度；同时也可以避免直流离子渗氮过程中产生的打弧、边缘效应等问题关键词：活性屏离子渗氮；直流离子渗氮；偏压；渗氮层；辉光放电中图分类号：TG156TheInfluenceofBiasandIn-SituCleaningonThroughCage(TC)orActiveScreenPlasmaNitrided(ASPN)SteelsYangning(SchoolofMechanics,ElectronicsandArchitectureEngineering,
3、TaizhouUniversity,Taizhou318000)Abstract:Throughthestudyoftheactivescreenof40csteelionnitriding,werestudiedduringtheprocessofactivescreenionnitridingprocessworkpiecebytheinfluenceofthebiasofnitridinglayer.Thetestresultsshowthatwithoutbiasorbiasundertheconditionoflow,closetotheactiv
4、escreendistanceoftheworkpiece,thesurfacehasacertainthicknessofnitridinglayerformation,hardnessincreased;Activescreenfarawayanddistanceoftheworkpiece,theformationofthesurfacealmostnonitridedcase,butwhenincreasingthebiasto400~450V,thesurfaceproduceweakglowdischarge,farawayfromtheacti
5、vescreensurfacenitridinglayerformation.Bycontrollingthebiasvalue,canmakethesurfacethicknessofnitridinglayerformation,improvethehardness.Atthesametimealsocanavoidthedcionnitridingprocesstoproducetheproblemsuchasbowl,edgeeffectKeywords:Ofactivescreenionnitriding;Dcionnitriding;Bias；T
6、henitridinglayer；Glowdischarge前言“离子渗氮技术是一种常用的化学热处理方法，具有渗氮速度快，热效率高等优点，且辉光放电可均匀覆盖于工件表面，适用于形状复杂的工件表面处理u-2J。这项技术已在工业生产中得到广泛应用，它所带来的经济效益与El俱增，但是由于受气体放电特性的影响，传统的直流离子渗氮(D(刖)技术一直存在一些难以解决的问题，如：工件打、温度测量困难弧、电场效应、空心阴极效应和电场效应、温度测量和电源保护等问题电源过流保护等问题，这些问题也制约了该技术在实际生产中的大规模推广。1实验方法1.1试验材料与试验设备传统的台式测
7、量仪器是由仪器厂家设计并定义好功能的一个封闭结构,它有固定的输入/输出接口和仪器操作面板,每种仪器实现一类特定的测量功能,并以确定的方式提供给用户。1.1.1实验设备试验是在自制的保温式多功能离子化学热处理设备中进行，设备的示意图见图1，产生辉光放电的主电源采用斩波式直流脉冲电源，频率为1kHz，偏压电源采用平滑的直流电源。炉内活性屏是用带孔的低碳钢板卷制而成，尺寸为0600m×8009《文献检索》课程论文mm。活性屏接主电源的负极，偏压电源的负极与工件相接，主电源与偏压电源的正极均接在炉壳上，并接地。1.1.2实验材料试验材料为调质处理的45钢，试样尺寸为
8、020m×4m。1.2实验过程在距离活性屏不同距离的
