q3a 新原料药中的杂质

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1、新原料药中的杂质ICH三方协调指导原则在2002年2月76日ICH指导委员会上进入ICH进程的第四阶段，被推荐给三方管理当局采纳。目录1介绍2杂质的分类3杂质报告和控制的说明3.1有机杂质3.2无机杂质3.3溶剂4分析方法5各批次产品杂质含量的报告6规范中所列的杂质检查项目7杂质的界定8术语附件1：阈值附件2：申报表中鉴定或界定的报告杂质结果表附件3：鉴定和界定判断图新原料药中的杂质1介绍本文件旨在为那些尚未在任何地区或成员国注册的化学合成的新原料药在注册时，对其杂质的含量和界定的申报提供指导。本指导原则不适用于临床研究期间所用的新原料药。本文件

2、不涵盖生物/生物制品、肽、寡聚核苷酸、放射性药物、发酵和半合成产品、草药以及来源于动、植物的粗制品。新原料药中的杂质应分两个方面阐述：²化学方面：包括对杂质的分类和鉴定、报告生成（reportgeneration）、规范中杂质的检查项目以及对分析方法的简要讨论。²安全性方面：对用于安全性研究和临床研究的新原料药批次中不存在或含量很低的那些杂质的界定的指南。1杂质的分类杂质可分为下列类型：²有机杂质（与工艺和药物有关的）²无机杂质²溶剂有机杂质可能会在新原料药的生产过程和/或储存期间有所增加。这些杂质可能是已鉴定的或者是未鉴定的、挥发性的或者非挥发

3、性的。包括：²起始物²副产物²中间体²降解产物²试剂、配位体、催化剂无机杂质可能来源于生产过程，它们通常是已知的和已鉴定的，包括：²试剂、配位体、催化剂²重金属或其他残留金属²无机盐²其他物质溶剂是在新原料药合成过程中用于制备溶液或混悬液的有机或无机液体，由于他们一般具有已知毒性，故较易选择控制方法（见ICH指导原则Q3C残留溶剂项下）。不包括在本文件中的杂质为：（1）外源性污染物；不应该存在于新原料药中，可以用GMP来控制的；（2）多晶型；（3）对映体杂质。2杂质报告和控制的说明2.1有机杂质申报者应对新原料药在合成、精制和储存过程中最可能产生

4、的那些实际存在的和潜在的杂质进行综述。该综述应建立在对合成所涉及的化学反应、由原材料引入的杂质及可能的降解产物进行合理地、科学地评估的基础上。可以局限于根据化学反应以及相关条件下可能会产生的杂质进行讨论。此外，申报者还应对新原料药中杂质检测的实验室研究工作进行综述。其内容包括对研制期间的和模拟上市的所有批次产品的试验结果，以及为鉴定在储存期间可能产生的潜在杂质而进行强力破坏试验的结果（见ICH指导原则Q1A稳定性项下）。同时应对那些模拟上市的原料批次中的杂质概况和用于研制开发过程的原料批次中的杂质概况进行比较，并讨论任何不同之处。申报资料中应对那

5、些在新原料药中实际存在的、含量大于（＞）附录1中鉴定阈值的杂质（例如：以原料药的响应因子计算）的结构特征进行描述。应该注意，在模拟上市生产的批次中，所有出现的大于（＞）鉴定阈值的杂质应于鉴定；也应同样鉴定在推荐的放置条件下的稳定性研究中发现的大于（＞）鉴定阈值的降解产物；当某个杂质无法鉴定时，申报资料中应包括对该杂质所进行的不成功的试验研究的概述，如果已尝试国鉴定含量不大于（≤）鉴定阈值的杂质，那么把这些研究结果也进行报告是很有用的。通常没有必要对含量在阈值以下（≤）的杂质进行鉴定。然而，对那些含量不大于（≤）阈值但可能产生不寻常功效或毒性药理作

6、用的潜在杂质，则应力求鉴定它们。所有杂质均应按照本指导原则后续章节中的要求来界定。1.1无机杂质无机杂质通常按药典或其他适当的方法来检测和定量。在新药的研制过程中应对遗留在新原料药中的催化剂进行评估。在新原料药规范中是否收载无机杂质检查项目，应进行讨论。认可标准应根据药典标准或已知的安全性数据来制定。1.2溶剂应按ICHQ3C“残留溶剂”指导原则的要求，对新原料药生产过程中所用溶剂的残留量的控制进行讨论和申报。2分析方法注册申请中应提供书面文件，证明分析方法是经过论证并适用于杂质的检测和定量（见ICHQ2A及Q2B分析方法论证指导原则项下）。技术

7、因素（如生产能力与质控方法）可用于说明为什么在准备上市产品中采用其他阈值。阈值采用两位小数（见附录1）并不代表常规质量控制中分析方法的精度。因此，只需经过验证和论证，可以使用较低精度的技术（如薄层色谱法）。如果研发中所采用的分析方法和准备上市产品的分析方法不同，在申报资料中应予以讨论。分析方法的定量限度应不大于（≤）报告阈值。可用各种技术测定有机杂质的含量，这些技术包括把杂质的响应值与适当的参比标准品的响应值比较或与药物本身的响应值比较。应根据使用目的，对分析过程中用于控制杂质的参比标准品进行定性和定量。可用原料药作为标准物质来估计杂质的量，如果

8、原料药和杂质的响应因子不接近，只要应用了校正因子或测得的杂质量高于实际的杂质量，该方法仍是可行的。用于估计已鉴定或未鉴定杂质的认可标准和