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《碲化铋热电薄膜的电沉积制备与形貌分析-论文.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在行业资料-天天文库。
1、2014拄河北大学学报(自然科学版)2014第34卷第1期JournalofHebeiUniversity(NaturalScienceEdition)Vo1.34NO.1DOI:10.3969/j.issn.1000—1565.2014.01.005碲化铋热电薄膜的电沉积制备与形貌分析刘磊,苏杰,马昊,张汉,高玉微(1.河北大学电子信息工程学院,河北保定071002;2.中国科学院半导体研究所,北京100083)摘要:采用电化学沉积法在不锈钢衬底上制备了碲化铋(Bi。Te。)化合物热电薄膜,并利用xRD(X线衍射分析)、SEM(扫描电镜)和AFM(原子力显微镜)对薄
2、膜进行物相分析和形貌观察.首先通过循环伏安法分别对Bi计和HTeO+以及他们共存的HNO。溶液进行了测试,确定了BiTe。的电化学生长为互诱导二元共沉积过程.然后在一50mV电位,20mA·cm电流密度进行电沉积得到BiTe。多晶薄膜,XRD分析显示薄膜沿着(1l0)晶向存在一定程度的择优取向生长.进一步改变沉积电流密度发现,提高沉积电流密度使薄膜晶粒尺寸变小.关键词:BiTe。薄膜;电沉积;热电材料中图分类号:O649;TQ153文献标志码:A文章编号:1000—1565(2014)01—0023—05Preparationbyelectr0dep0siti0nan
3、dmorphologyanalysisofbismuthtelluridethermoelectricfilmsLIULei,SUJie,MAHao,ZHANGHan,GAOYuweiCollegeofElectronicandInformationalEngineering,HebeiUniversity,Baoding071002,China;2.InstituteofSemiconductors,ChineseAcademyofSciences,Beijing100083,China)Abstract:Bi2Te3thermoelectricfilmswerep
4、reparedbyelectrodepositiononstainlesssteelsuhstrates,thestructureandmorphologyofthefilmswerecharacterizedbyXRD,SEMandAFM.Firstly,cyclicvol—tammogramwasusedtostudytheBi计,HTe0andtheircoexistentsolutionsinHNO3.Theelectro—chemistrygrowthofBi2Te3wasconfirmedtobemutuallyinducedcodepositionpro
5、cess.ThenBi2Te3poly—crystallinefilmswerepreparedatpotentia1of一50mVwithcurrentdensityof2OmA·cmI。.andthefilmswerefoundtObe(110)preferentia1orientation.Itwasalsofoundthatincreasingelectrodepositoncurrentdensitieswouldreasultinsmallergrainsizes.Keywords:Bi2Te3films;electrodepositon;thermoel
6、ectricmateria1热电材料所独有的Seeheck效应和Peltier效应使其在温差发电与温差制冷方面有着广泛的应用,如空间飞行器的电源、测温热偶,以及CCD相机与激光器的制冷器等方面.同时,电子技术与微纳技术的不断发展对热电材料的要求越来越高,而相对于传统的块体材料,热电薄膜材料具备更优异的物理性能与工艺适收稿日期:2013—03—1O基金项目:国家自然科学基金资助项目(61204079);河北大学自然科学研究计划项目(2009—171);河北省自然科学基金资助项目(F2013201196)第一作者:刘磊(1979一),男,河北正定人,河北大学讲师,主要从事
7、热电材料与器件制备研究.E-mail:beimiugzy@126.com河北大学学报(自然科学版)第34卷配性_2].BizTe。以及其衍生化合物被认为是近室温范围内热电优值最好的热电材料,近年来Bi。Te。薄膜与其低维纳米材料的制备与研究工作备受国内外研究者关注[3].Bi。Te。薄膜的制备主要利用快速蒸发[10]、有机物气相淀积(MOVCD)⋯和分子束外延(MBE)技术],但这些制备工艺往往需要复杂的设备,工艺成本较高.而电沉积技术具有薄膜制备温度低、沉积薄膜面积大、成本低等优点,非常适用于BiTe。薄膜的制备.目前国外利用电沉积技术制备Bi。T
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