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1、PVD技術/制程簡介2ContentPVD原理介紹PVD生產流程介紹PVD顏色介紹及開發系統PVD信賴性測試項目介紹31.PVD原理及特點PVD(PhysicalVaporDeposition)即物理氣相沉積技朮﹐即在電場作用下形成的等離子體中,塊體材料被濺射出來,而沉積在工件表面,形成一定厚度的薄膜.濺射出的靶材粒子氣體離子電子靶材工件4第一步氣體離化e¯Ar+Ar能量離子化Argon氣體團Ar+eAr++2e5第二步濺射靶材被濺射出的靶材粒子Power氣體離子Ar+Ar++TiTi(Atom)+Ar+接地6第
2、三步反應成膜Ar++N22N+Ar+Ti+NTiN基底材料7PVD技術應用于金屬外殼之優點高金屬質感和艷麗飽滿的色彩效果優異的功能性(與基材的良好結合﹐高的硬度和耐磨性等)底材選擇的多樣化(如不鏽鋼﹐鈦合金﹐甚至鋁合金)制程的良好的穩定性和再現性適應現代環保潮流82.1不銹鋼產品PVD清洗流程圖SSProductCleaningFlowChart上挂Racking除蠟Dewax氧化Oxidation烘烤Baking除蠟Dewax酸洗Acidrinsing下挂Unracking純水洗Purewatercleanin
3、gNLV-LHPVD廠承制脫脂Degrease92.2真空鍍膜流程圖PhysicalVaporDepositionFlowChart打靶Targetburnishing清潔擋板Shieldcleaning清潔轉架Spindlefixturecleaning清潔腔體Chambercleaning冷卻Substratecooling離子濺射Sputtering抽氣Vacuuming裝工件Partsloading洗靶Targetcleaning放氣Venting出爐Unloading輝光清洗GlowdischargeN
4、LV-LHPVD廠承制102.3防指紋烤漆流程圖Anti-FingerprintPaintingFlowChart上治具Racking靜電除塵Staticdust-disposal噴塗Painting進爐Loading冷卻Substratecooling固化Curing流平Levelling下治具Unracking全檢InspectionNLV-LHPVD廠承制出爐Unloading11T1T2:工件:工件的運動軌跡:靶材Tn:反應氣體(N2,C2H2)T3T4T5T6T7T83.PVD設備Type1:連續式鍍膜
5、機123.PVD設備Type2:單筒式鍍膜機:工件:工件的運動軌跡:靶材Tn:反應氣體真空室前門T1T2T3T4134.PVD技術魚骨圖挂具設計設備真空系統電控系統激發系統加熱系統气体材料靶材基材制程偏壓電源氣路膜系設計真空度鍍膜時間工件旋轉速度濺射電源旋轉方式裝夾系統遮蔽系統材料（SUS,Ti）等離子監控儀(PEM)氣體分壓控制器(OGC)殘余氣體分析儀(RGA)氣體流量控制器(MFC)監控系統膜厚可靠度耐磨耗光澤度色差硬度附著力檢測系統環境濕度潔淨度防震動防靜電溫度流量分壓位置電流電壓功率電流電壓佔空比O2A
6、rC2H2N2TiNiCrZrSUSTi塑膠公轉自轉可操作性形狀尺寸彈性導電性145.PVD成色膜係TiN,ZrN,HfN,及這些金屬氮化物與Au的復合膜係如TiN+AuTiC,TiAlN,SixNy,CrAlC,SUSC單純的金屬膜Me,及金屬的氮化物MeN如:CrN金屬(Ti,Cr,Zr,Al,In)的氧化物形成的干涉膜稀有金屬的硼化物如:CeB6,SmB6TiCN,ZrCN,CrAlN15收到目標色TargetSample測量色差和光澤L,a,b&Gloss顏色調試ColorTuning全套STR測試STR
7、Testing顏色重復性驗証ColorStableVerification簽認金樣GoldenSampleSignature製作1X5（or3x3）限度樣板Prepare1x5（or3x3）LimitRange新色承認NewColorApproval制程能力驗証ProcessCapabilityVerification1X5（or3x3）限度樣板承認1x5LimitRange（or3x3）Signature新專案/新色需求NewProject/ColorDemand送候選金樣GoldenSample6.PVD新色
8、開發流程PVDColorDevelopmentFlowchart16PVD新色承認PVDNewColorApprovalItemsPVD新色承認樣品製作SamplePreparation參數記錄DevelopmentRecord性能測試SPRTest製程能力分析ProcessCapabilityAnalysis新色樣品標示SampleMarking顏色限度樣板ColorL
