设施的环境特点及调节控制_.ppt

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1、设施栽培的环境特点及调节控制技术濮阳县职业技术学校周始杰2014.12.5什么是环境:定义:指生物有机体生活空间的外界自然条件的总合,不仅包括对其有影响的非生物环境,而且还包括生物有机体彼此的影响有作用自然环境太阳大气圈对流层(厚度为11km的大气层)水圈岩石圈和土壤圈生物圈人工环境广义:包括所有的作物栽培、家畜家禽的饲养驯化、人工森林、草地以及一些人工的保护区等狭义:是指人工控制下的动植物的环境(温室环境是狭义的人工环境)环境控制技术的发展现状:目前国外设施栽培技术比较先进的国家有:西欧的荷兰、法国、英国、意大利、西班牙,北美的美国、加拿

2、大,非洲和中东的以色列、土耳其,亚洲和大洋洲的日本、韩国、澳大利亚等。这些国家由于政府重视设施栽培的发展,在资金和政策上都给予了大力支持,因此现代设施栽培的研究起步早,发展快,综合环境控制技术水平高。总的来说,设施分布情况是:西北欧国家由于常年天气较冷,夏季短,故以建造玻璃设施为主;其它地区及南欧塑料设施的比重较大。国外几个设施栽培综合环境控制技术最先进的国家,由于其地理位置、自然环境和经济基础不同,其发展的侧重点也不同日本的农产品以生产水稻为主。塑料大棚和其它设施在日本得到普遍的应用。被称为“第四高技术农业”的植物工厂,已在日本普及。开发

3、了采用微机和专用设施栽培控制机组成的网络系统,该网络可将多台计算机控制系统集中管理美国有着发达的设施栽培技术,农业设施造商有100多家,其综合环境控制技术水平非常高。如“生物圈2号”就是一种特殊的保护设施,它是相对于我们居住的被称为“生物圈1号”的地球而言的,主要是研究将来人在宇宙空间和其它星球,如何维持生活,进行生产和工作。经过4年的研究,发现尽管出现不少问题,但“生物圈2号”内作物的产量比常规种植高16倍,“生物圈3号”和“生物圈4号”将分别建在南极和北极,而“生物圈5号”将发射到月球。以色列在设施栽培综合环境控制技术中,对透光和降温的

4、要求不高,而对灌溉系统要求很高,其灌溉技术特别是滴灌技术和设备发展很快,处于世界先进水平荷兰建造了大量的现代农业设施荷兰由于温度变化很小,故降温、通风问题考虑很少,而采光问题考虑得较多,因此主要是玻璃设施我国设施栽培综合环境控制技术的现状:总体上说,我国目前设施栽培综合环境控制技术水平低,调控能力差,并且以单个环境因子的调控设备为主,带有综合环境自动控制的高科技温室主要靠从国外引进。设施环境特点及调控:在外界环境条件不适时,能够人为地调控设施内的栽培环境,使其满足蔬菜生长发育需要。设施的环境特点及调节控制湿度土壤温度光照气体退出本节温室环境

5、因素环境调控技术土壤温度温度加温、保温、可再生能源利用空气温度空气湿度通风、降温CO2环境---------------CO2施肥光照---------------光照调控根圈环境(水份、养分)---------灌溉与施肥一、光照(一)设施光照环境特点(二)设施光照环境调控(一)设施光照环境特点光照度光照时数光  质南北延长大棚光照分布西东下午上午123光是设施环境中的主要因子。光照条件好坏直接影响光合作用的强弱。光照是设施的主要热源,光照条件好,设施温度才能提高。设施内自然利用率只有外界环境的40~60%。主要因为建筑覆盖材料反光,骨架材

6、料遮光。另一方面,受山墙、后坡、防寒覆盖物(草苫子或棉被)、高棵作物和入射光角度的影响,光照强度在空间上分布不均匀。日光温室内形成东西山墙及后墙内侧的弱光区。光照度光照时数光  质(一)设施光照环境特点东西延长棚光照分布北南123日光温室光照分布光照度光照时数光  质(一)设施光照环境特点123光照度光照时数草苫光  质(一)设施光照环境特点设施内光照时数随着纬度,季节、天气变化而改变,如果设计方位不合理,或者冬季覆盖草苫保温防寒,都会人为地缩短光照时数。另外人工补光措施,可以增加光照时数,满足蔬菜对光周期的需要。光照时数光  质紫外线减少

7、光照度(一)设施光照环境特点设施栽培中,由于透明覆盖材料的光学特性,促使进入设施内的光质发生变化。例如:玻璃能阻隔紫外线透过,利用玻璃温室培育番茄幼苗,易发生徒长现象;紫色薄膜能够透过更多的红外线,较无色棚膜温度增加3℃左右。(二)设施光照环境的调节控制设计布局选择材料栽培管理遮  光后屋面前屋面前屋面采光角后屋面仰角设计合理的前屋面采光角和后屋面仰角设计布局设施规模建筑时,要考虑设施合理搭配,间距适宜,有利于采光,防止遮阳。(二)设施光照环境的调节控制合理间距设计布局选择材料栽培管理遮  光设计布局东西延长温室、大棚前后间距可以参考下面公

8、式计算。L=h×cotH0L—东西延长温室、大棚前面设施最高点到地面投影处与后面设施间距h—前面设施最高点高度H0—冬至时当地中午的太阳高度角高纬度地区L是h的2~2.5倍。(二

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