用185nmUV水中总有机碳

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1、用185nmUV降低水中总有机碳(TOC)的研究邓守权1闻瑞梅2(1英顺达科技有限公司上海201114；2同济大学电子信息学院上海200092)[摘要]本文研究了185nmUV降解水中有机物的机理，185nmUV首先光解高纯水，并通过实验测出所形成的H2O2，证实了185nmUV照射水时，可以产生活性中间体·OH等。185nmUV应用到高纯水制备系统中的新工艺，能有效地将高纯水中的TOC降低到很低水平(≤0.3μg/L)，满足超大规模集成电路用水的需要。同时185nmUV对废水中有机物的TOC也有较好降解作用，是一种降

2、解水中难生物降解的有毒有害的有机污染物的新方法，有利于丰富高级氧化技术的研究以及环境保护。[关键词]185nmUV总有机碳双氧水高纯水废水[中文图书分类号][文献标识号][文章编号]TheAbatementofTOCinAqueousSolutionsby185nmUVRaysDengShouquan1,WenRuimei2(1Inventec(Shanghai)Co.,Ltd.,Shanghai201114,China;2SchoolofElectronicInformation,TongjiUniversity,S

3、hanghai20092,China)Abstract:Somemechanismofphoto-gradationoforganicmattersinaqueoussolutionsby185nmUVraysisinvestigatedinthispaper.Thedissociationofwatermoleculesinto·OHandotheractiveintermediatesistheprimarystepofphoto-gradationoforganicmatters.H2O2isdetectedin

4、thisexperiment,whichinturnconfirmsthisprimarystepofphoto-gradationoforganicmatters.Thisnewmethodof185nmUVraysisappliedtotheprocessofpreparationofultra-purewaterandTOCinproductsisjustonly0.3μg/L,whichsolvessuccessfullythekeytechnicalproblemforUltraLargeScaleInteg

5、ratedCircuits(ULSI).Meanwhile185nmUVraysarealsogoodtoabateTOCinwastewater,andanovelmethodtodegradenon-biodegradable,noxiousanddeleteriousorganicmattersinaqueoussolutionsandtoexpandtheoreticallysometheoryofAdvancedOxidationProcesses(AOP).Alltheseinvestigationsare

6、favorableforprotectingenvironment.Keywords:185nmUV;TOC(TotalOrganicCarbon);H2O2;Ultra-pureWater;Wastewater水中有各种杂质，如果总有机碳(TOC)含量高，TOC中碳残留物会影响光刻胶的覆盖，造成针孔和缺陷，引起离子注入时的内部结深变化。含碳的有机物污染可使硅片局部氧化速度加快，使氧化层不均匀。碳化物残留在硅片上，造成新的颗粒性的污染，破坏了器件的完整性。因此高纯水的质量是影响超大规模集成电路(ULSI)成品率的重要因

7、素[1]。随着超大规模集成电路的发展，光刻线条越来越细，对高纯水中TOC浓度的要求也越来越严格。1986年已提出将1MDRAM用高纯水的TOC浓度<20μg/L[2]。若为256Mbit位电路则TOC浓度要求<0.5μg/L[3]。目前大规模集成电路已达1G(1×109)位,光刻线条宽为0.13μm.,对水质的要求越来越高。因此在制备ULSI用水中对TOC浓度提出了严格的要求。现在已有许多的技术和设备能将高纯水做得很好，用一般的纯水制备工艺和设备是不能达到TOC浓度<2μg/L或更低。而本文用185nmUV技术可将TO

8、C浓度降低到0.3μg/L左右，满足超大规模集成电路用高纯水的需求。同时，研究185nmUV对废水中有机物的降解，在实际环境保护和环境污染控制中，是对研究去除水中难生物降解的有毒有害的有机污染物的一种新方法，也是对高级氧化技术(AOP)研究内容的丰富。在废水治理中，研究降解废水中有机物时，TOC浓度也是一个重要的指标，它反映了废水