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时间:2019-05-17
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1、??TN304:分类号.2学校代码10697密级:公开学号;201520917NorthwestUniversity士字位论文MAS’TERSDISSERTATIONIiUl^N材料的掺杂及其吸附性能理论研究学科名称:物理电子学作者:李好婷指导老师:王雪文教授负江规副教授西北大学学位评定委员会二〇一八年六月TheoryStudyontheDopingofInxAl1-xNandItsAdsorptionPropertiesAthesissubmittedtoNorthwestUn
2、iversityinpartialfulfillmentoftherequirementsforthedegreeofMasterinPhysicalElectronicsByLiTingtingSupervisor:WangXuewenProfessorJune2018摘要InxAl1-xN作为Ⅲ-Ⅴ族氮化物系列中一种禁带宽度可调范围最大的合金材料,禁带宽度可从0.7eV(InN)到6.2eV(AlN)内连续可调,发光波长能够从200nm(AlN)到1770nm(InN)变化,覆盖红外到紫外波段。InxAl1-xN具有临界击穿电压高,导热系数
3、高,能抵抗强辐射以及化学性质稳定等优点,使其在高功率、高频电子设备及传感器中有着潜在的应用。利用基于第一性原理MaterialStudio软件研究组分可调的InxAl1-xN(x=0,x=0.25,x=0.5,x=0.75,x=1)合金。结果表明:InxAl1-xN(x=0,x=0.25,x=0.5,x=0.75,x=1)合金均为直接带隙,随着In组分x增加,晶胞体积变大,且晶格常数遵循Vegard变化规律;光学曲线显示,随着x的增大:主能量峰从9.58eV向4.96eV低能量方向红移,从而证明了InxAl1-xN的电子之间跃迁能力比AlN好;
4、介电常数增加;吸收光谱移至长波方向,即“红移”;能量损失函数强度减小,且逐渐移至低能方向。首先,对本征InxAl1-xN(x=0,x=0.25,x=0.5,x=0.75,x=1)合金进行Mg、Si、O掺杂。研究结果发现,Mg掺杂能使InxAl1-xN材料变为p型半导体,Mg替位式掺杂In(Mg-In掺杂)比Mg替位式掺杂Al(Mg-Al掺杂)更稳定,且抗损耗能力强,光学吸收效果好,但是在形成P型半导体方面Mg-Al效果更好。Si掺杂有利于InxAl1-xN变为n型半导体,Si-In掺杂比Si-Al掺杂更能稳定存在,但Si-Al抗损耗能力强,光学
5、吸收效果好,更有力于形成n型半导体。同样,O掺杂能使InxAl1-xN为n型半导体,且导电性提高,O-Al掺杂与O-In掺杂使费米能级附近存在两条杂质态能级,但是O-N较O-In,O-Al更易形成,更能提高InxAl1-xN的导电性能,且在可见光区域的光吸收效果强,说明O-N更有利于形成n型半导体。同时发现,制备n型InxAl1-xN比p型所需能量低且易制备。其次,研究O2、H2吸附在InxAl1-xN(x=0.5)的(0001)面不同位置的吸附能、电荷转移等吸附性质。对于O2吸附,吸附最稳定的位置为中心位,当周围In原子数多于Al原子数时,电
6、荷转移量最多;O原子会与表面In、Al原子成键,使得InxAl1-xN材料表面形成氧化层,O2吸附能够削弱表面态。H2吸附最稳定的位置也为中心位,但H原子没有与表面的N原子有电荷转移,说明H2与表面没有交互作用,为物理吸附,I并且H2吸附表面时并没有削弱表面态。最后,研究O2吸附Mg掺杂InxAl1-xN(x=0.5)表面,无论是Mg-Al还是Mg-In掺杂,均形成稳定的化学吸附,且Mg-In吸附能明显提升。Mg掺杂能够提高InxAl1-xN和O2之间的电荷传递,从而改进电荷在两者中的输运能力,更有效地增强InxAl1-xN与O2的交互作用。关
7、键词:InxAl1-xN材料,第一性原理,掺杂,电荷转移,表面态IIABSTRACTInxAl1-xNisoneofthealloymaterialswiththelargestbandgapwidthinadjustablerangeIII-Vnitridesfamily,whichcanbecontinuouslychangefrom0.7eV(InN)to6.2eV(AlN)withwavelengthrangingfrom200nm(AlN)to1770nm(InN),coveringtheinfraredtoultravioletba
8、nd.InxAl1-xNhastheadvantagesofhighcriticalbreakdownvoltage,highthermalcondu
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