lcd 基础器件及相关技术解疑

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1、《液晶之家》——www.fpdclub.netLCD基础器件及相关技术解疑本文由《液晶之家》rogerguan供稿，信天游整理1、光罩A、分类：阵列电路用的TFT/STN；CF颜料分散发法之光微影光罩；电著法之光罩；印刷法之网版光罩；遮光层图案用之光罩；ITO蒸著用之光罩等B、光罩制作流程：玻璃基板——光罩毯形成工程（基板表面研磨、基板洗净、检验、功能性薄膜形成）——光阻剂涂布（光阻剂涂布、烘培处理、检查）——光罩毯——设计工程（电路图案设计、布局设计、数据线输入）——电路图案形成工程（光罩设定、描绘图案、光阻剂显影、后续烘培、蚀刻、光阻咯、剥离）——检查工程

2、（检查、测试）（修正工程）——（薄片贴附工程）光罩成品——出货C、材料和厚度：以具有低膨胀系数，低Na离子含量，高化学安定性，高光穿透性之石英玻璃为主。（1000ÅCr膜，200ÅcrO膜减少反射。保护膜）D、作用——将设计的图案转移到光阻上。E、光罩制作方法：在设计工程中所完成的画面或CAD的数据资料将起转换并制作成光罩纲版，一般是使用电子束描绘装置制作出主光罩，然后再利用微影技术复制工程用光罩网版2、玻璃基板A、种类：钠玻璃；硼玻璃；铅玻璃；石英玻璃。B、一代线：320mmx400mm;二代线：370mmx400mm;三代线：550mmx650mm;三点五

3、代线：600mmx720mm;四代线：680mmx880mm;五代线：1000mmx1200mm.C、材料特性：D、制作方法：流动床法（低成本的量产型）、熔融向下拽法、沟槽式向下拽法、CVD法和在拽引法。C、TFT因碱性离子会对其电的特性产生负面效应，玻璃基板不含碱性离子之玻璃为主。D、TN型（用苏打石灰玻璃）STN（用苏打玻璃和中性硼硅玻璃NeutralBorosilicateGlass）而AM型：HTPS（用熔融石英玻璃）a-SiLTPS和MIN（非碱性金属铝硅酸玻璃）。LCD一般用非碱金属玻璃（Non-alkalineGlass仍然含0.1wt%碱金属,

4、会破坏半导体薄膜的特性，而在制程中均于表面镀上SiO2保护膜。价格占13%。E、特性——耐热性、耐热冲击性、热伸缩性、热膨胀系数。玻璃材料加热后的尺寸将比加热前的来得小——热收缩现象。（影响图案化处理的精密度和元件特性）（方法是用高耐热性的玻璃材料或预先退火处理可以得到高尺寸安定性的玻璃基板）3、CF加法混色——在一块玻璃上设计R，G，B著色层。（轻薄）。减法混色——由蓝绿，紫红，黄色三层液晶层叠积。（斜方向观察色泽不明解析度不高，方法是减少玻璃的厚度或使用塑料基板）RGB著色层厚1.0-2.0μm，宽度90μm，而不同著色层之间则相隔10μm；保护膜Acry

5、lResist/EpoxyResist2.5μm；保护层上镀1500Å透明共通电极（ITO膜）；颜料Azo系、酞青系和各种多环系。A、制造商：日本凸版印刷、DNP、Toray、日本IBM、光村印刷等。台湾：世界颠峰、剑1《液晶之家》——www.fpdclub.net度科技、展茂科技等。B、影响LCD的色彩特性、大幅度左右著面板的Contrast、Luminance,LightOutput,reflect.等。透过率（30~65%）。C、四大部分：遮光用的BM；彩色表示用的RGB之著色图案；保护膜；驱动液晶电极的透明电极膜。D、光阻剂用的光阻剂墨汁（Resist

6、Ink）又称（ColorResist）主要由颜料、分散剂、添加剂、结合剂、接合树脂和反应性稀析剂等单体并包含光聚合启始剂和溶剂作为RGB三原色之著色材料。颜料平均粒径0.1μm以下。分散剂的功能是是颜料化合物物均匀的分布，而不产生凝结现象。接合树脂材料是耐光性和透明性好的甲基压克力树脂、架桥性单体的多功能基压克力；光聚合启始剂则是而甲基苯系化合物。E、ColorResist涂布缺陷的改善方法是LAPPING，LAPPING利用表面张力将膜面的凹凸面予以平坦化处理。（降伏值小、表面张力大、黏度值小）溶煤的沸点和蒸发的速度也应控制。F、BM（BlackMatrix

7、）a、结构：b、材料：Cr遮光层/碳黑（厚1μm）的树脂厚度：Cr（0.12μm）树脂（1.2μm）；金属膜的话，1000~1500Å，宽度：20-30μm。c、制作流程：光学微影4、颜料分散法A、（颜料光阻剂和微影组合技术）是用颜料作为著色层并将颜料和接合剂予以分散的方法。{聚乙烯醇类，200℃；颜料：压克力类240-250℃。染色法，颜料：聚乙硫类260-270℃；染料：酪蛋白，180℃}5、著色感材法在透明的感光性树脂中将微粒花的颜料均匀地分散作为著色感材光阻涂布，后经微、显影和R、G、B三原色工程三次反复操作而形成所需的图案。6、蚀刻法利用蚀刻方式将著

8、色树脂形成图案。7、染色法利用PEP将