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时间:2018-12-08
《zaoh透明导电薄膜中h的掺杂行为研究》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在学术论文-天天文库。
1、武汉科技大学研究生学位论文创新性声明小人jcI;m,!iI!jj:所譬交的。学侮}=仑文址小人n:导Oflifil'!}F,j!【l●:进}¨Jf究所l仪褂的成果。除,文中L绛滓I咖川Ij的内弈或启旺合11;聊}究儿时完成的I:作外。小论艾/fi他含fr.fl-fjC他个人成浆休已经发丧成撰’,;过的作;IflJ戍粜。对小文的研哆芒做哐婴贞献的个人删集体,均已舀j义,l·以I!JJ协力‘j弋柄i叫。IIli占学位论丈与资料符订/1<实之处,.水人水担·切川父贵ft。论文作者签名:至堡一.u期:型!:!:2.研究生学位论文版权使用
2、授权声明木论文的研究成果”f武汉科技人一jl"s阱71铂。,jC研究内锌小褂以jC它单f妒的私义笈太。本人党食,’解戚i:义科妓人‘乏仃火队翩、他川学他涂文的规定,l,iJ虑,≯:校株铆jil;,J-fJ.父部
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7、鸯鱼拯蘧垂I:1期:.丝型:』:』武汉科技大学硕士学位论文第1页摘要透明导电氧化物薄膜(TCO)因其具有低的电阻率和高的透光率而被广泛的应用于平板显示器、太阳能电池、发光二极管、以及节能玻璃等领域中。其中,铝掺杂的氧化锌(ZAO)薄膜由于具有原料丰富、价格便宜、无毒以及在氢等离子体中稳定等优点,从而被认为是将来最有希望取代传统In203:Sn02(ITO)薄膜的透明导电材料。理论和实验已经证明,H不仅可以影响ZAO薄膜的结构,还会扮演施主的角色提高薄膜的导电性,故H的掺杂有利于获得高性能ZAO透明导电薄膜。但是目前关于H在ZAO
8、薄膜中的掺杂行为尚存争议,阐明H的掺杂机理对ZAO透明导电薄膜的发展具有重大意义。本文采用射频磁控溅射的技术,通过在溅射气氛中加入H2的方法,在普通玻璃上制备ZAO:H薄膜,并对所制得的薄膜进行真空退火处理。利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、霍尔效应测试平台以及紫外一可见分光光度计等表征手段,研究了H2流量和退火温度对ZAO:H薄膜结构和性能的影响,并对H的掺杂行为进行了详细的分析。此外,本文分别在大气环境和湿热环境(模拟薄膜太阳能电池的IEC1646测试标准)中对所制得的ZAO:H薄膜进行了电学性能稳定性测试
9、,分析了基底温度和H2流量对电学性能薄膜稳定性的影响。研究表明,H2流量对薄膜结构和性能的影响与基底温度有很大关系。其中,基底温度为100℃时,H2流量的增加使薄膜(001)取向增强;基底温度为150℃和200℃时,适量的H2使得薄膜(002)取向增强,晶粒增大,致密度提高;基底温度为250℃时,H2对薄膜质量影响不大。基底温度较低时,薄膜的电阻率随着H2流量的增加而下降,相应的载流子浓度和迁移率上升,薄膜在可见光区的平均透光率高于80%,表现出良好的光电性能。退火处理后,ZAO薄膜的电阻率降低,ZAO:H薄膜的电阻率反而升高。
10、在80℃,湿度为80%的湿热环境中暴露720小时后,ZAO和ZAO:H薄膜电阻率均随暴露时间的增加而升高,且远大于暴露在大气中的上升幅度。同时发现,基底温度的升高和H2流量的增加可以有效的提高薄膜在大气和湿热环境中的稳定性。综合实验结果,可以认为H不仅可以促进处于间隙位置的A13+取代晶格处的Zn2+,同时还会掺入到薄膜中并扮演施主的角色。其中,基底温度较低时,掺入薄膜的H会占据ZnO晶格中的BC∥位置以Hi的形式存在,在退火的过程中,Hi会向薄膜外扩散导致载流子浓度的下降,随着基底温度的升高,部分的Hi会与薄膜中的氧空位m)生
11、成热稳定较高的Ho。关键词:ZAO薄膜,射频磁控溅射,H掺杂,真空退火,稳定性第1I页武汉科技大学硕士学位论文AbstraetTransparentconductingoxides(TCO)arewidelyusedinflatpaneldisplays,solarcells,touchscreens,lightemittingdiodes,andlow·emissivitywindowsduetoitslowresistivityandllightransparency.A1-dopedZnO(ZAO)thinfilmsexh
12、ibitconsiderableelectricalandopticalpropertieswithlowmaterialcost,non—toxicityandstabilityinhydrogenplasma,andthustheyareregarded淞a
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