毕业论文—孙玉骞

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1、2011分类号:单位代码:10452临汧大学理学院毕业论文(设计)Ni-cu[的制备及光学性质的研宄姓名孙玉骞学号200707410213年级2007专业物理学系(院)理学院指导教师石绍华2011年5月4口摘要椭偏测量的棊本原理是起偏器产生的线偏振光经取向一定的1/4波片后成为特殊的椭關偏振光,把它投射到待测样品表面反射出来的将是线偏振光。根据偏振光在反射前后的状态变化(包括振幅和相位的变化),便可测定样品表面的许多光学特性。关键词:椭偏法;Ni-Cu膜;真空镀膜ABSTRACTThemeasurementofthebasicprincipleisapolarizationoflightthr

2、oughtheorientationofthe1/4afterwaveofaparticularsphereofthepolarizationoflight,andputitontothesurfaceofthetestsamplesofreflectionslinewillbepolarization.Accordingtothepolarizationoflightatthebackofthestatechanges(includingamplitudeandphasechange),itcandeterminethesamples.Keywords:Partialmethod;Membr

3、aneofNi-Cu;Vacuumcoating1弓IW51.1真空镀膜技术51.1.1真空镀膜技术51.2常用的真空镀膜技术简介51.1.3真空蒸发镀膜技术中真空度对蒸发的影响51.1.4真空蒸发镀膜中应注意的几个问题71.2薄膜材料71.2.1薄膜材料发展71.2.2薄膜的应用81.3椭偏法81.3.1椭偏法的简单介绍81.3.2椭偏法的基本原理81.3.3椭偏法的发展与应用92实验92.1实验原理91.1椭偏法基本原理92.1.2光度法的基本理论112.2实验装置132.3薄膜样品制备过程132.4实验内容142.5实验结果与分析143相17参考文献18翻191引言1.1真空镀膜技术1.

4、1.1真空镀膜技术早在一个多世纪以前,人们从辉光放电管壁上就观察到了溅射的金属薄膜。根据这一现象,后来逐步发展起真空镀膜的方法。真空镀膜技术,在现代工业和科学方面有着广泛的应用。例如,光学仪器上的各种反射膜,增透膜,滤光片等,都是真空镀膜的产物;电子器件中用的薄膜电阻,特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造;硬质保护膜可使各种经常磨损的器件表面硬化,大大增强耐磨程度;磁性薄膜具有记忆功能,在电子计算机中用作存储记录介质而片有重要地位......。因此,真空镀膜技术目前正在向各个重要的科学领域中延仲,引起了人们广泛的注意⑴。1.1.2常用的真空镀膜技术简介真空镀膜中常用的方法

5、是真空蒸发和离子溅射。真空蒸发镀膜是在一定真空度下,把要蒸发的材料加热到一定温度,使大量分子或原子蒸发和升华,并直接淀积在基片上形成薄膜。离子溅射镀膜是利用气体放电产生的正离子在电场的作用下高速轰击作为阴极的靶,使靶材中的分子或原子逸出而淀积到被镀工件的表面,形成所需要的薄膜。真空蒸发踱膜最常用的是电阻加热法。其优点是加热源的结构简单,造价低廉,操作方便;缺点是不适合用于难熔金属和耐高温的介质材料。此外还有电子束加热法,它是利用聚焦电子束直接对被轰击材料加热,电子束的动能变成热能,使材料蒸发。阴极溅射技术与真空蒸发技术有所不同。充有稀薄气体的放电管的两极上加有直流电压时,开始只有很小的电流,即

6、只有少数电子和离子形成电流。随着电压升高,电子和离子的能量变大,与气体分子碰撩使之电离,产生更多的离子。正离子在电场中以很高的速度轰击阴极靶,使靶的中性原子溅射出来,穿过工作空间而淀积到基片上[2]。1.1.3真空蒸发镀膜技术中真空度对蒸发的影响同体物质在常温和常压下,蒸发量极微。蒸发离开阀体表面的分子因周围气体压强高又易于回到该物质中去,如果将同体材料放置于真空中,由于周围气体压强很低,将该物质加热至熔化温度,被加热材料的分子易1引言1.1真空镀膜技术1.1.1真空镀膜技术早在一个多世纪以前,人们从辉光放电管壁上就观察到了溅射的金属薄膜。根据这一现象,后来逐步发展起真空镀膜的方法。真空镀膜技

7、术,在现代工业和科学方面有着广泛的应用。例如,光学仪器上的各种反射膜,增透膜,滤光片等,都是真空镀膜的产物;电子器件中用的薄膜电阻,特别是平面型晶体管和超大规模集成电路也有赖于薄膜技术来制造;硬质保护膜可使各种经常磨损的器件表面硬化,大大增强耐磨程度;磁性薄膜具有记忆功能,在电子计算机中用作存储记录介质而片有重要地位......。因此,真空镀膜技术目前正在向各个重要的科学领域中延仲,引起了人们广泛

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