薄膜材料与薄膜技术教学大纲

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1、《薄膜材料与薄膜技术》课程教学大纲一、《材料制备技术》课程说明（一）课程代码：08131103（二）课程英文名称：ThinFilmMaterialsandThinfilmTechnology（三）开课对象：物理系材料物理专业（四）课程性质：本课程是材料物理专业的一门专业选修课。（五）教学目的本课程主要介绍薄膜材料的制备及特性。通过学习既可以掌握一些薄膜物理的基本知识，同时也能了解该领域内当前的一些前沿研究进展，开阔眼界，这些都有利于学生将来更好的投入科研工作中去。（六）教学内容：本课程主要论述薄膜的制造技术与薄

2、膜物理的基础内容。其中系统介绍了各种成膜技术的基本原理与方法，包括蒸发镀膜、溅射镀膜、离子镀、化学气相沉积、溶液制膜技术以及膜厚的测量与监控等。同时介绍了薄膜的形成，薄膜的结构与缺陷，薄膜的电学性质、力学性质、半导体特性、磁学性质以及超导性质等。（七）学时数、学分数及学时数具体分配学时数：36学分数：2学时数具体分配：教学内容讲授实验/实践合计第一章真空技术基础44第二章真空蒸发镀膜法44第三章溅射镀膜44第四章离子镀膜22第五章化学气相沉积44第六章溶液镀膜法44第七章薄膜的形成44第八章薄膜的结构与缺陷55

3、第九章薄膜的性质55合计3636（八）教学方式：课堂教学（九）考核方式和成绩记载说明：考核方式为考试。严格考核学生出勤情况，达到学籍管理规定的旷课量取消考试资格，综合成绩根据出勤情况、平时成绩和期末成绩评定，出勤情况占20％，平时成绩占20％，期末成绩占60％。二、讲授大纲与各章的基本要求第一章真空技术基础教学要点：通过本章的教学使学生初步了解真空的基本知识，掌握获取一定程度的真空状态的方法及测量手段。教学时数：4教学内容：第一节：真空的基本知识第二节：稀薄气体的基本性质第三节：真空的获得第四节：真空的测量考核

4、要求：1．真空的基本知识（识记）2．稀薄气体的基本性质（领会）3．真空的获得（领会）4．真空的测量（识记）第二章真空蒸发镀膜法教学要点：了解真空蒸发镀膜的基本原理，了解蒸发特性以及相应的膜厚分布特点，了解膜厚和沉积速率的测量与监控方法。教学时数：4教学内容：第一节：真空蒸发原理第二节：蒸发源的蒸发特性及膜厚分布第三节：蒸发源的类型第四节：合金及化合物的蒸发第五节：膜厚和沉积速率的测量与监控考核要求：1．真空蒸发基本原理（领会）2．蒸发源的特性及膜厚分布（识记）3．蒸发源的类型（识记）4．膜厚和沉积速率的测量与监

5、控（领会）5．合金及化合物的蒸发（领会）第三章溅射镀膜教学要点：了解溅射法制备纳米薄膜的基本原理，掌握溅射法制备的特点，熟悉溅射镀膜的几种基本类型，了解溅射镀膜的厚度分布特点，明确如何控制厚度均匀性指标。教学时数：4教学内容：第一节：溅射镀膜的特点第二节：溅射的基本原理第三节：溅射镀膜类型第四节：溅射镀膜的厚度均匀性考核要求：1．溅射镀膜的特点（识记）2．溅射的基本原理（领会）3．溅射镀膜类型（识记）4．溅射镀膜的厚度均匀性（领会）第四章离子镀膜教学要点：介绍离子镀的原理和基本特点，了解离子镀的几种基本类型。教

6、学时数：2教学内容：第一节：离子镀原理第二节：离子镀的特点第三节：离子轰击的作用第四节：离子镀的类型考核要求：1．离子镀原理（领会）2．离子镀的特点和离子轰击的作用（识记）3．离子镀的类型（识记）第五章化学气相沉积教学要点：系统介绍化学气相沉积法制备纳米薄膜的基本原理和基本特点，介绍几种常见的化学气相沉积方法。教学时数：4教学内容：第一节：化学气相沉积的基本原理第二节：化学气相沉积的特点第三节：CVD方法简介第四节：低压化学气相沉积第五节：等离子体化学气相沉积第六节：其他化学气相沉积法考核要求：1．化学气相沉积

7、的基本原理（领会）2．化学气相沉积的特点（识记）3．几种常见的化学气相沉积方法（领会）第六章溶液镀膜法教学要点：介绍溶液镀膜法的基本原理和特点，介绍几种溶液镀膜的方法。教学时数：4教学内容：第一节：化学反应沉积第二节：阳极氧化法第三节：电镀法第四节：LB膜的制备考核要求：1．化学反应沉积（识记）2．阳极氧化法（领会）3．电镀法（领会）4．LB膜的制备（识记）第七章薄膜的形成教学要点：介绍薄膜的形成过程以及相应的生长模式，介绍两种薄膜形成过程的计算机模拟方法。教学时数：4教学内容：第一节：凝结过程第二节：核形成与

8、生长第三节：薄膜形成过程与生长模式第四节：溅射薄膜的形成过程第五节：薄膜的外延生长第六节：薄膜形成过程的计算机模拟考核要求：1．薄膜形成过程与生长模式（领会）2．薄膜形成过程的计算机模拟（领会）第八章薄膜的结构与缺陷教学要点：了解薄膜的结构特点，了解薄膜结构与组分的分析方法。教学时数：5教学内容：第一节：薄膜的结构第二节：薄膜的缺陷第三节：薄膜结构与组分的分析方法考核要求：1．薄膜的结