无裂纹镀铬和双层硬铬涂层的比较

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1、无裂纹镀铬和双层硬铬涂层的比较在这项研究中,标准的单层无裂纹镀铬和双层和无裂纹硬铬涂层制备使用直流电(DC)和脉冲电流(PC)低碳钢基体上电镀过程。研究了涂层的显微组织、显微硬度和耐蚀性的观点。涂层的腐蚀抗性相比已经通过电化学极化在3.5%氯化钠溶液和标准盐雾试验。腐蚀测试前后的显微结构的表征测试是通过光学显微镜(OM)、扫描电镜(SEM)。硬铬的微观裂纹密度、显微组织、利用脉冲电流电沉积可能是有限的。无裂纹硬铬涂层,它由PC-electroplating沉积,是优良的耐腐蚀性能。双涂层的厚度比与无裂口子层和硬铬表

2、面涂层厚,也分别由PC-和DC-electroplating流程标准镀铬浴。标准硬铬涂层沉积到DC-electroplating已经锈渍的表面和边缘。无裂纹子层的涂料在耐腐蚀涂料表现出非常好的业绩,没有腐蚀产物的表面和边缘样本。在3.5%氯化钠溶液由DC-electroplatingCr-deposited低于标准。所有的涂料钝化在3.5%氯化钠溶液和盐雾测试环境。此外,双层涂料,涂层之间的比率的75%无裂纹层(破碎硬顶层25%)显示最好的耐腐蚀性能。►微裂纹可以通过使用脉冲电流电沉积中删除。►裂口硬铬涂层是优良的

3、耐腐蚀性能。►双涂层制备PC-和DC-electroplating流程。►双涂层表现出优异的耐腐蚀的结果。►在生理盐水环境中所有的涂料钝化。1，双层铬工艺及流程同一镀液两种镀槽中电沉积制备乳白/光亮双层铬镀层。工艺流程为：前处理─装挂─入槽─镀乳白耐蚀铬─镀光亮耐磨铬─出槽─清洗─除氢─抛光─检验。镀液组成为：CRO3200-250G/L，H2SO42.2-2.6G/CR3+离子2.0-3.5G/。先在60-65°C、15-25A/DM2下施镀30分钟得到乳白铬镀层，随后在55-60°C40-50A/DM2镀90分

4、钟，即得乳白/光亮双层铬镀层。双层铬镀层的孔隙率比单层光亮铬镀层小，二者显微硬度相近，耐磨性优越。实际生产应用表明，双层铬镀层的耐蚀性优于单层光亮铬镀层。得到的铬为乳白色，无光泽。乳白铬镀层孔隙很少，耐蚀性好，但硬度稍低，不能作为最终硬铬层。而光亮耐磨铬层的显微硬度为600-900HV，完全满足零件硬化层的硬度要求，同时镀层光亮，满足产品外观要求。2，无裂纹镀铬工艺项目最佳铬酸200-350G/L硫酸2-3DW-032脉冲催化剂1-3％（体积）。DW-032镀铬添加剂10-20ml/l三价铬1-6g/l金属污染物<

5、5.0克/升氯化物<20PPM●板微裂纹，无裂纹和多相存款在同一镀槽的能力。双层铬必须在两槽●存款厚度可达0.100“每边是可能的。双层铬必须大于0.3即三丝●硬度70RC具有出色的亮度和耐磨性。底硬度低，长时间不耐磨●耐腐蚀500小时的盐雾小于0.002“存款。96小时●极低的存款压力和高沉积率。沉积率低●优异的附着力，多相位存款无边界线。附着力一般工艺规范：铬酐：250-300g/l最佳值280硫酸：1.8-2.5g/l三价铬：2.5-5g/l添加剂A(DW-032A)：10-20ml/l添加剂B(DW-032

6、B)：10g/l无氟抑雾剂C（DW-026）:0.05~0.15ml/l温度：45-59°注意温度不要过高电流密度：35-90A/dm2电流效率：30-35KAH消耗A50ml/lB0.25-0.5g/l无氟抑雾剂C0.01ml/l100kg铬酐需加入A3-5kg，B0.5-1kgC100ml