陶瓷制釉生产工艺流程 陶瓷微晶玻璃釉的制备工艺

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1、陶瓷制釉生产工艺流程陶瓷微晶玻璃釉的制备工艺11陶瓷制釉生产工艺流程陶瓷微晶玻璃釉的制备工艺11陶瓷制釉生产工艺流程陶瓷微晶玻璃釉的制备工艺11第27卷 第3期2006年7月华侨大学学报(自然科学版)JournalofHuaqiaoUniversity(NaturalScience)Vol.27 No.3Jul.2006文章编号 100025013(2006)0320266204陶瓷微晶玻璃釉的制备工艺俞平利 刘培德 张敬阳(华侨大学材料科学与工程学院,福建泉州362021)摘要 选择CaO2MgO2Al2

2、O32SiO2系统作为微晶玻璃釉的基本组成,研究微晶玻璃釉的制备工艺,并考察施釉方法、坯釉结合、添加少量粘土对工艺的影响.结果表明,求,当湿法施釉工艺可以达到釉面细腻光滑时,可以得到具有亚光效果的微晶釉;时,坯釉结合良好,机械敲击无法使坯釉分离.、微晶釉的显微结构和性能,对机械性能如硬度等会造成不利影响,.关键词 微晶玻璃釉,制备工艺,湿法施釉,,中图分类号 TQ171.73+3;TQ;TQ A()2Al32,无论从理论研究和工艺,〔1,2〕,相应的工艺研究也欠缺〔3〕.与单一的微,陶瓷微晶玻璃釉制备时可能

3、存在以下3个问题1(1)界面问题.坯釉结合状况直接影响制品的机械强度、热稳定性等性能,并可能影响玻璃的微晶化过程.(2)施釉问题.建筑陶瓷墙地砖采用干法施釉;而具有曲面的日用瓷和化学容器瓷,釉层较薄,最有利的施釉方法还是湿法上釉.(3)釉面性状.微晶化处理不能使釉熔融成为具流动性的粘滞熔体,釉面能否平滑如镜可能成为问题〔4〕.本文就以上问题进行初步研究.1 熔块制备及施釉工艺1.1 熔块制备选定CaO2MgO2Al2O32SiO2系统作为微晶玻璃釉的基本组成,配方组成(mol)如表1所示.制备表1中所列配方

4、的熔块,熔制温度1370℃11,保温2h,配合料熔透,无不透明物质.以上熔块的XRD分析结果表明为玻璃质,不含晶态物质(图略).由DTA曲线分析获得的温度参数,如表2所示.表中,玻璃表1 CaO2MgO2Al2O32SiO2系统微晶釉配方组成表序号R1R2R3R4R5R6R8R9K2O0.12550.12550.12540.12490.12520.12460.12560.1248Na2O0.12430.12510.12510.12510.12500.12600.12470.1255CaO0.64790.64

5、720.64820.64910.64830.64850.64820.6491MgO0.10230.10220.10120.10090.10140.10080.10140.1006Al2O30.07240.10060.10000.12510.12500.12510.15090.1503Fe2O30.00100.00110.00120.00130.00140.00150.00150.0015SiO21.50101.25141.99901.50241.99942.50121.74992.2507起始软化温度ts(

6、开始烧结)、玻璃转变温度tg(起始析晶)、晶化温度tp.由DTA温度参数分析可了解,本组熔块起始析晶温度与起始软化温度相距较远,有较宽的烧结温度范围(tg-ts≈90~ 收稿日期 2006201219作者简介 俞平利(19692),女,副研究员,主要从事硅酸盐材料的研究.E2mail:ypl@hqu.edu.cn 基金项目 福建省自然科学基金资助项目(D0210012)第3期              俞平利,等:陶瓷微晶玻璃釉的制备工艺267),有利于微晶玻璃的烧结.120℃1.2 施釉工艺(1)干法施釉

7、.选择烧结瓷坯作为序号)ts/(℃)tg/(℃11)tp/(℃表2 熔块DTA曲线分析所得温度参数R1-800858R2-808856R4709811848R5747840887R6763882929R8732837879基体,熔块粉体平铺并压实,平面光滑平整.由30℃升温至(tg-20)℃保温20min;再升温至(tg+30)℃,保温40min,然后自冷至室温.微晶化处理结果显示,釉层呈乳白色,釉面平滑滋润如玉,坯釉结合良好,在机械敲击下坯釉不发生分离.表1中各配方均可达到此效果.XRD分析表明,所有微晶

8、釉的主晶相都为单一的硅灰石.(2)湿法上釉.选择R1作为基础釉,分别添加质量分数为3%,5%,7%的高岭土,在研钵中手工研磨制备.选择烧结瓷坯作为基体,以湿法施釉,并干燥,釉面目视如绒面.由30℃升温至(tg-20)℃,保温30min;再升温至(tg+30)℃11,保温30min,然后自冷至室温.微晶化处理样品经XRD分析,主晶相仍为硅灰石,坯釉结合紧密,但釉面无镜面效果,呈现原有绒面状态.R1试样釉面硬度高,小

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