集成电路布图设计权

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1、集成电路布图设计权　　一九四七年二月二十三日，在美国的贝尔实验室，巴丁、布拉顿和肖克莱发明了世界上第一只晶体管。在当时，谁也不曾料到，这小小晶体管的发明竟然拉开了二十世纪后半叶新技术革命的序幕。五十年代，人们发明了平面工艺，很快制出了集成电路。在此后三十多年的时间里，集成电路以令人瞠目的速度迅猛发展，集成规模由小规模发展到中规模，继而又发展为大‘规模、超大规模。今天，人们已可在一块9.74X20.28平方毫米的硅片上集成1.4亿个元件（64MDRAM的集成度）。技术的进步大大地拓宽了集成电路的应用领域；发挥着巨大的作用，因此，世界各国都投

2、入了大量人力、物力研究和开发集成电路技术。与此同时，也有一些厂商以各种方式获取他人的技术，利用他人的技术成果牟取暴利。正是在这样一种情形下，集成电路酌法律保护问题开始受到有关各界以及发的关注，为此，一些工业发达国家相继颁布关保护集成电路保护的法律，保护集成电成为世界的共识。我国对集成电路知识产，保护一直采取积极的态度，为集成电路同护制度作出了重要的贡献，并已在一九八九年五月通过的世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权条约》文本上签字。集成电路的知识产权保护问题已摆在了我们面前，有必要文进行认真的研究。　　一、集成电路布图设计的概念　　集

3、成电路的布图设计是指一种体现了集成电路中各种电子元件的配置方式的图形。集成电路的设计过程通常分为两个部分：版图设计和工艺。所谓版图设计是将电子线路中的各个元器件及其相互连线转化为一层或多层的平面图形，将这些多层图形按一定的顺序逐次排列构成三维图形结构；这种图形结构即为布图设计。制造集成电路就是把这种图形结构通过特定的工艺方法，“固化”在硅片之中，使之实现一定的电子功能。所以，集成电路是根据要实现的功能而设计的。不同的功能对应不同的布图设计。从这个意义上说，对布图设计的保护也就实现了对集成电路的保护。　　集成电路作为一种工业产品，应当受到专

4、利法的保护。但是，人们在实践中发现，由于集成电路本身的特性，大部分集成电路产品不能达到专利法所要求的创造性高度，所以得不到专利法的保护。于是，在一九七九年，美国众议院议员爱德华（Edask.现形式因受诸多客观因素的限制，却是有限的或者非任意的。　　首先，布图设计图形的形状及其大小受着集成电路参数要求的限制。如果要求集成电路具有较高的击穿电压，设计人在完成布图设计时就必须将晶体管的基区图形设计为圆形，以克服结面曲率半径较小处电场过于集中的影响。对于用于功率放大的集成电路，其功放管图形的面积必须较大，使之得以承受大电流的冲击。　　其次，布图设

5、计还受着生产工艺水平的限制。为了提高集成电路的集成度或者追求高频特性，常常需将集成电路中各元件的面积减小。这样，布图设计的线条宽度也相对较细。目前国。外已达到亚微米的数量级。但如果将线条设计得太细，以致工艺难度太大将会大大地降低集成电路成品率和可靠性，这是极不经济的；同样地，如果一味，地追求功率参数，将芯片面积增大，也会降低集成电路的成品率。　　此外，布图设计还受着一些物理定律以及材料类及其特性等多种因素的限制。比如，晶体管可能因为基区自偏压效应而导致发射极间的电位不等。为克服基区自偏压效应，则需在加上均压图形。　　虽然从理论上讲，突破这

6、些限制条件的图形也可以受到著作权的保护，但由于布图设计的价值仅仅体现在工业生产中，所以对那些完全没有实用价值的、由设计人自由挥洒出来的所谓“布图设计”实施保护是没有任何意义的。这些图形不是真正意义上的布图设计，称其为一种“抽象作品”或许更为恰当。布图设计在表现形式的有限性方面，与工业产权客体相似。　　三、布图设计权的特性　　从上面的分析可知，集成电路布图设计有其自身的特征，并同时兼备著作权客体和工业产权客体的特性。在立法保护布图设计、规定创作人的布图设计权时，应当考虑这一特点。　　首先，布图设计权应具备知识产权的共同特性，即专有性；时间性

7、和地域性。布图设计具有无形性，同一布图设计可能同时为多数人占有或使用。为保障布图设计创作人的利益，布图设计权应当是一项专有权利。另一方面，布图设计的价值毕竟是通过其工业应用才得以实现。仅就一特定的布图设计而言，使用它的人越多，为社会创造的价值就越大。如果布图设计权在时间上是无限的，则不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路技术的发展。所以布图设计权应有一定时间期限。当然，对时间期限的具体规定应当既考虑公共利益，又照顾到创作人的个人权益。只有找到二者的平衡点，才是利益分配的最佳状态。地域性作为知识产权的共性之一，同样为布图设计权所具备

8、，在世界知识产权组织的《关于集成电路的知识产权条约》第三条；第四条和第五条的内容都涉地域问题，这实际上肯定了布图设计权的地域性。　　其次，布图设计权还具有其独特的个性。下面将其分别与著作权和工