使用tfcalc编辑膜系的方法

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1、使用TFCalc编辑膜系的方法（简易操作步骤）假设我们要设计一个反射率>99.9%高反膜系（波长10600nm）：条件：（1）基底材料：GaAs（2）膜料：ZnSe，YF3具体步骤：1．点击TFCalc图标进入其操作界面：图中弹出对话框，要求输入要编辑的文件名。因为我们是要新编膜系，则点击“取消”按钮，则只显示如下界面：图中自左到右的菜单名称中文意思分别是：“文件”、“编辑”、“修改”、“运行”、“结果”、“杂项”和“帮助”。点击其中的任何一项将弹出其包含的菜单内容。2．点击第一项“File”，弹出如下菜单项：左图中的中文

2、意思自上到下分别是：l新建膜系文件l重新打开膜系文件l关闭膜系文件l保存膜系文件l以其他的文件名保存膜系文件l恢复原始文件l打印膜系l打印设置l退出TFCalcl关于TFCalc3．点击第一项“NewCoating”弹出如下“编辑环境对话框”：上图左边图中英文对应的中文意思分别是：Angle角度IncidentMedium入射介质Substrate基底FrontLayer基底前面BackLayer基底后面ExitMedium出射介质在上图的右边框内分别输入：ReferenceWavelength(参考波长)：1580Ill

3、uminate（光源）：WHITE（白光）Incidentangle（入射角）：0.0Incidentmedium（入射介质）：AIR（空气）Substrate（基底）GaAs（砷化镓）Thickness（厚度）mm1（一般不考虑基底材料的厚度）Exitmedium（出射介质）GaAs（如果是透视膜系，则出射介质一般是空气）Detector（探测器）：IDEA(理想探测器)FirstSurface（第一面）Front注：光源、基底材料、探测器应该分别在Illuminate、substrate、detector库中存在。这些

4、库可以增减。4．点击下面的“AnalysisParameters”（分析参数）按钮，弹出下面的对话框：因为本例我们考虑是入射角为0的条件，因此选中第一项的圆形无线电按钮------Rangeofwavelengths（波长范围）（nm），其他的均不选。点击OK按钮，返回上一层对话框，再点击OK按钮，显示如下的反射率与波长的关系曲线图（该图显示的没有镀膜情况下，基底材料的反射率）：图上方的英文字符列出了该图成立的环境条件。现在我们可以进入下一步具体的膜系结果设计，一般高反膜系的结构是(HL)^sH，其中s是大于0的正整数。5

5、．点击“Modify”菜单，弹出如下菜单选项：左边菜单项从上到下对应的中文意思是：l环境l膜堆公式l前面层l后面层l组l单一目标l连续目标l注释l可变材料l环境l材料l基底l光源l探测器l分布6．编辑膜系，有2种方法可以编辑膜系，下面我们分别介绍：（1）使用膜堆公式（a）选择“StackFomula”，弹出如下膜堆公式窗口：图中的英文意思如下：Entertheformula.Thesubstrateistheleftofthefirstlayer：输入公式，基底在第一层的左边；Material（材料）：后面框内输入材料名称

6、Thickness：厚度：后面框内输入厚度值（四分之一波长数），该值最好为大于0的正整数Optimize（优化）：后面的框内输入“yes”或“No”Group（组）：后面的框内输入1下面的3个按钮的意思是：GenerateLayers：生成膜系，完成后点击该按钮将生成膜系中间是取消Clearformula：清除公式。点击该按钮将不保存已经输入的膜堆公式，否则将下次进入该对话框将出现上次输入的膜堆公式输入膜堆公式，选择H（高折射率材料）和L(低折射率材料)等参数后的对话框如下：如上图所示，膜堆公式为(HL)^8H，省略了G，

7、完整的应该是G(HL)^8H，意思是：GHLHLHLHLHLHLHLHLH厚度选择“7”是因为我们在环境对话框中将参考波长选择为1580nm（已经调好波长值），最好是10600能整除的数，此地我们设为7，，7×1580nm比较接近10600nm。如果发现不合适可以调整该值。点击“generatelayers”按钮，生成膜系(b)选择“modify”菜单中的第三项“Layer-Front”，弹出如下窗口：图中显示的是我们刚刚生成的膜系，用鼠标点击图下方滑动框的空白处，可以看到该膜系一共17层。图中的英文意思是：Layer：层

8、；Material：膜料；QWOT：四分之一波长数；Thickness(nm)：厚度（该厚度为物理厚度，与QWOT是相关的，二者的关系：n*d=，式中，n是膜层的折射率，d是膜层的物理厚度，λ是参考波长，N是QWOT。例如我们来计算第一层：d===1150.74nm，与实际结果有偏差，可能是折射率数据或