creo高级阵列实例解析

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1、Creo高級陣列實例解析Creo高級陣列實例解析簡介贊助網站一．陣列的定義  通過重複複製、改變某一個（或一組）特徵的指定尺寸，根據設定的變化規律和數量，自動生成一系列具有參數相關性的特徵(組）。在CREO ……Creo高級陣列實例解析正文贊助網站一．陣列的定義  通過重複複製、改變某一個（或一組）特徵的指定尺寸，根據設定的變化規律和數量，自動生成一系列具有參數相關性的特徵(組）。在CREO 軟體中，陣列的方式有以下八種：1.尺寸陣列：需選取特徵尺寸，並指定這些尺寸的增量變化以及陣列中特徵實體數。2.方向陣列：需選取平整面、線、軸來定義方向，同時也可以使用特徵尺寸增量來控制陣列實體的形狀及位

2、置的變化。3.軸陣列：通過圍繞一個選定的旋轉軸（基準軸等）創建特徵副本的陣列方式。4.填充陣列：指定的物體表面或部分表面區域，生成均勻的陣列。5.表陣列：使用表格的方式設定陣列特徵的空間尺寸和本身尺寸。6.參考陣列：藉助已有的陣列實現新陣列的方法，參考陣列操作對象必須與已有陣列的源實體有定位尺寸關係。7.曲線陣列;指定陣列成員間距離或成員個數，來沿著草繪曲線創建其陣列特徵。8.點陣列：通過創建基準點或草繪幾何點來創建其陣列特徵。溫馨提示：1.陣列特徵不能直接使用【刪除】命令來刪除，因為這樣會連你的原始特徵也一起刪掉，如果要保留原始特徵，請使用【刪除陣列】命令來刪除2.陣列預覽中的黑點代表要進

3、行陣列的位置，單擊黑點將其變成白點，表示此位置不需要陣列。3.若陣列的特徵有多個，需將這些特徵編組，然後再進行陣列二．CREO 軟體陣列操作界面三．需要使用關係來控制陣列時，你會用到以下符號  memb_v- 指定方向中的關係驅動最終尺寸  memb_i- 指定方向中的關係驅動增量  lead_v-leader 值(選擇尺寸確定方向)  idx1-陣列實例索引在第一方向(代表當前實例特徵在陣列中的位置，其值從  0 開始，第一方向第一個實例特徵idx1=0,第五個實例特徵idx1=4）  idx2-陣列實例索引在第二方向(同上，只是方向不同而已）  不能在同一關係中使用memb_v 和mem

4、b_i，這些符號所代表的含義我將會在下面的這些實例中詳細說明。四．實例解析1.隨形陣列解析：陣列成員的高度隨曲線的波動而變化，技巧就在於草繪特徵截面時讓其與曲線連繫起來。A.先草繪一條曲線B.選擇拉伸工具，在原草繪平面中繪製矩形截面C.直接陣列拉抻特徵即可。剛才上面講到的是到曲線，下面這種則是到面面，操作更簡單。解析：直接拉伸到選定曲面，然後陣列即可，這裡就不做詳細說明了，只要注意一下草繪截面與參考基準的位置尺寸。　2.方向陣列及軸陣列  相信很多朋友都見到過此題，現在我就重點講解如何陣列完成上圖的台階。解析：整個樓梯台階呈360 度旋轉，高度從圓柱最使低位置到最高位置，題目解法很多，無論解

5、法多少，思路都一樣，一個旋轉角度和一個高度變化。方法一：軸陣列+高度尺寸增量（注意此高度尺寸必須為位置尺寸，如果你選擇樓梯板的厚度作為高度尺寸增量，那麼每一級台階厚度為疊加尺寸，這種效果相對於圖片上的來還是比較現實，但我們要的是圖片效果）在這裡，我新建的一個基準面，然後在基準面上繪製台階，最後再使用軸陣列，通過陣列基準面的位置尺寸來控制台階高度變化，完成如下圖（建議將創建基準面的工作放在拉伸台階的特徵內完成）方法二:方向陣列+角度尺寸增量（還是一樣，角度尺寸必須是位置尺寸,方能完成上圖效果)d152 是一個角度定位尺寸，其值為360*5/100=18 度（100 為圓柱的高度，5 是台階的高

6、度）如下圖所示。在使用陣列尺寸的時候，我們必須清楚知道自己陣列的尺寸是位置尺寸的還是形狀尺寸，位置尺寸只控制陣列后成員位置的變化，而形狀尺寸則會改變成員的原始外形。3.關係陣列（尺寸陣列）  關係陣列是本次陣列教程中的重點，以下講解內容都是比較常見的，包含尺寸陣列、數字陣列、行為建模中刻度的陣列以及字元串陣列。A.尺寸陣列（關係應用）解析：此題是兩個方向陣列，  第一方向特徵呈波形曲線排布且圓柱直徑由大到小，高度由低到高。第二方向特徵呈直線均勻排布，無論直徑大小，高度都一樣再看下圖第一方向的尺寸A.控制圓柱呈曲線排布的尺寸1（初始值為50），這裡需要用到參數B.控制圓柱直徑變化的尺寸3(初始

7、值為30）C.控制圓柱高度變化的尺寸4（初始值為20）D 控制圓柱第一方向間距大小的尺寸2（初始值為40）第二方向的尺寸A.控制圓柱在第二方向間距大小的尺寸1（初始值為50）選中尺寸1，勾選【按關係定義增量】輸入關係式memb_v=lead_v+25*sin(45*idx1)現在我們一起來看一下這個關係式的意思。Memb_v 前面有記載是關係驅動最終尺寸的參數符號，lead_v 是導引尺寸參數符號，就是你選取