gbt 15717-1995 真空金属镀层厚度测试方法电阻法

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1、中华人民共和国国家标准真空金属镀层厚度测试方法电阻法GB/T15717-1995Testmethodforvacuum-depositedmetalthickness-Electricresistancemethod1主顾内容与适用范围本标准规定了绝缘软基材表面的真空金属镀层厚度的测试方法本标准适用于绝缘软基材表面的真空金属镀层厚度的测量。2引用标准GB2918塑料试样状态调节和试验的标准环境3试验原理及装置3.1试验原理试样金属镀层为一段金属导体，依据欧姆定律测量规定长度和宽度试样的金属镀层电阻值，以方块

2、电阻表示金属镀层的厚度或直接计算其厚度。3.2试验铸ii真空金属镀层厚度测量装置结构示意图1一直流电桥;2-导线,3-M量头r4--浏量头连接板，5一被测样品:6橡胶板国家技术监督局1995一10一18批准1996一04一01实施GB/T15717-1995本试验使用真空金属镀层厚度测量装置，电阻测量误差不大于士1%，其结构如图所示。装置的测量宽度不小于100mm，两测量头间的距离精度为士。.10mm,4试样及制备4.1试样尺寸:长度不小于300mm，宽度为100士。.10mm。试样数量不少于五片。4.2试

3、样表面应光滑平整，无折痕、污物、溅射点、划伤笋缺陷。注:试样宽度窄于100m-时，以实际尺寸作为试样宽度。试验步骤将金属镀层测量仪与试样放置在GB2918规定的23士2"C.45%-55%RH环境中，放置4h后测52-一5.2每次测量前用无水乙醉擦拭仪器的测量头。5-3将试样平放在测量仪的橡胶板上，使测量头与金属镀层接触良好。5.4每次测量前仪器必须校零。5.5测量试样的电阻值。试验结果的计算和表示6.1金属镀层的方块电阻。/口一誉。·。(1)式中日/口—方块电阻，n;a-被测量金属镀层的电阻值，n;又—试

4、样有效长度与宽度的比值。取5次试验结果的平均值，保留三位有效数字。6.2金属镀层厚度d=⋯(2)习/口式中:d一一金属镀层厚度，MM4N—电141率，10-'S2"mm'/mm;0/口一一方块电阻，n。取5次试验结果的平均值，保留三位有效数字。63金属镀层的均匀度口/口。.，一d2/口m川丹=X100(3)习/厂1..-式中:S—金属镀层的均匀度，%;刀/口m。:—最大方块电阻值，n;0/口mln一一最小方块电阻值，d2,口/口、—方块电阻平均值，n。试验结果保留二位有效数字。注:①真空金属镀层的厚度可以用

5、厚度值表示，也可以用方块电阻值表示②电阻率单位从。·mm,/m换算为103ft·mm}/mmo7试验报告试验报告应包括以下内容Gs/'r15717-1995备产品标准名称、代号;阮样品名称、规格、型号、等级;C金属镀层的方块电阻、金属镀层厚度和均匀度已试验环境;么试验人员及日期;L其他有必要说明的事项等。附加说明:本标准由中国包装总公司提出。本标准由全国包装标准化技术委员会归口。本标准由国家包装产品质量监督检验中心(济南)、青州铝箔纸总厂负责起草本标准主要起草人袁化传、王兴东、刘法国、郁玉生、徐连水