挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数

挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数

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时间:2018-02-25

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1、挤压研磨抛光的基本原理与特点以及工艺参数属于磨料流动加工过程,不但可以进行光整加工还可以去毛刺,效果非常好。一、基本原理将含有磨料的油泥状黏弹性高分子介质组成的黏弹性抛光剂,用一定的压力挤过被加工表面,实现磨粒对表面的微切削加工,去除表面微观不平的工艺方法。是一种微磨削或刮削的工艺方法。二、特点1、适用范围广;2、抛光效果好;如线切割表面,抛光后尺寸精度达0.01-0.0025mm,表面粗糙度达0.04-0.05μm。3、抛光效率高。抛光余量微0.01-0.1mm则需要几分钟或十几分钟。三、黏弹性研磨抛光剂和设备这种抛光剂称为黏性磨料抛光机多为立式对置活塞式

2、,通过两活塞的运动使抛光剂上下流动。挤压研磨抛光的夹具必须具备以下作用:①定位和夹紧作用;②容纳和引导研磨抛光剂通过零件需要抛光的部位;③阻止和保证研磨抛光剂不流过不需要加工的部位。必须根据加工零件的形状和尺寸、研磨抛光的需要合理进行研磨夹具的设计。如图7-16为常用夹具形式。四、工艺参数(1)磨料的种类、粒度和研磨抛光剂中的含量根据加工零件材料的类型和要求决定。(2)研磨抛光剂的黏度完全是抛光采用高黏度,有去毛刺或倒圆性质的选用中等黏度的研磨抛光剂。(3)挤压压力根据机床能力,有低到高,一般机床能力为700-2000kPa(4)速度或流量在机床范围内选取,

3、一般为7-225L/min参考资料:http://www.momo35.com/qiye/index.html

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