史上最全的半导体材料工艺设备汇总样本.docx

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1、资料内容仅供您学习参考，如有不当或者侵权，请联系改正或者删除。小编为您解读半导体生产过程中的主要设备概况。1、单晶炉资料内容仅供您学习参考，如有不当或者侵权，请联系改正或者删除。设备名称:单晶炉。设备功能:熔融半导体材料,拉单晶,为后续半导体器件制造,提供单晶体的半导体晶坯。主要企业(品牌):国际:德国PVATePlaAG公司、日本Ferrotec公司、美国QUANTUMDESIGN公司、德国Gero公司、美国KAYEX公司。国内:北京京运通、七星华创、北京京仪世纪、河北晶龙阳光、西安理工晶科、常州华盛天龙、上海汉虹、西安华德、中国电子科技集团第四十八所、

2、上海申和热磁、上虞晶盛、晋江耐资料内容仅供您学习参考，如有不当或者侵权，请联系改正或者删除。特克、宁夏晶阳、常州江南、合肥科晶材料技术有限公司、沈阳科仪公司。2、气相外延炉设备名称:气相外延炉。设备功能:为气相外延生长提供特定的工艺环境,实现在单晶上,资料内容仅供您学习参考，如有不当或者侵权，请联系改正或者删除。生长与单晶晶相具有对应关系的薄层晶体,为单晶沉底实现功能化做基础准备。气相外延即化学气相沉积的一种特殊工艺,其生长薄层的晶体结构是单晶衬底的延续,而且与衬底的晶向保持对应的关系。主要企业(品牌):国际:美国CVDEquipment公司、美国GT公司

3、、法国Soitec公司、法国AS公司、美国ProtoFlex公司、美国科特·莱思科(KurtJ.Lesker)公司、美国AppliedMaterials公司。国内:中国电子科技集团第四十八所、青岛赛瑞达、合肥科晶材料技术有限公司、北京金盛微纳、济南力冠电子科技有限公司。资料内容仅供您学习参考，如有不当或者侵权，请联系改正或者删除。3、分子束外延系统(MBE,MolecularBeamEpitaxySystem)设备名称:分子束外延系统。设备功能:分子束外延系统,提供在沉底表面按特定生长薄膜的工艺设备;分子束外延工艺,是一种制备单晶薄膜的技术,

4、它是在适当的衬底与合适的条件下,沿衬底材料晶轴方向逐层生长薄膜。主要企业(品牌):国际:法国Riber公司、美国Veeco公司、芬兰DCAInstrumen