电子束直写系统和平板电容式反应离子刻蚀机RIESI591价格.docx

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2、源。4.射频角度可以任意调整,蚀刻可以根据需要做垂直,斜面等等加工形状。5.基板直接加装在直接冷却装置上,所以可以在低温环境下蚀刻。6.配置公转自转传输机构,使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。7.机台设计使用自动化的操作流程,所以可以有非常友好的使用生产过程。标题:台式等离子表面处理系统和小型等离子增强PECVD沉积设备价格库号:JX价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:离子蚀刻机10-M/NS-5:适合小规模量产使用和实验室研究基片尺寸直径6英寸X1片样品台直接冷却,单独冷却离子源10cm考夫曼离子源电源可更换为国内电源离子蚀刻机主要优点:1.干式制程的微细加工装置

3、,使得在薄膜磁头,半导体元件,MRsensor等领域的开发研究及量产得以广泛应用。2.物理蚀刻的特性,无论使用什么材料都可以用来加工,所以各种领域都可以被广泛应用。3.配置使用美国考夫曼公司原装制造的离子源。4.射频角度可以任意调整,蚀刻可以根据需要做垂直,斜面等等加工形状。5.基板直接加装在直接冷却装置上,所以可以在低温环境下蚀刻。6.配置公转自转传输机构,使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。7.机台设计使用自动化的操作流程,所以可以有非常友好的使用生产过程。标题:台式光刻机和电子束直写系统价格库号:JX价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:仪器简介:在过去的几年中,

4、半导体器件和IC生产等微电子技术已发展到深亚微米阶段及纳米阶段。为了追求晶片更高的运算速度与更高的效能,三十多年来,半导体产业遵循著摩尔定律(Moore’sLaw):每十八个月单一晶片上电晶体的数量倍增,持续地朝微小化努力。为继续摩尔定律,在此期间,与微电子领域相关的微/纳加工技术得到了飞速发展,科学家提出各种解决方案如:图形曝光(光刻)技术、材料刻蚀技术、薄膜生成技术等。其中,图形曝光技术(微影术)是微电子制造技术发展的主要推动者,正是由于曝光图形的分辨率和套刻精度的不断提高,促使集成电路集成度不断提高和制备成本持续降低。电子束曝光系统(electronbeamlithog

5、raphy,EBL)是一种利用电子束在工件面上扫描直接产生图形的装置。由于SEM、STEM及FIB的工作方式与电子束曝光机十分相近,美国JCNabityLithographySystems公司成功研发了基于改造商品SEM、STEM或FIB的电子束曝光装置(NanometerPatt标题:离子刻蚀机和等离子处理系统价格库号:JX价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:离子蚀刻机20-M/NS-8NS适合中等规模量产使用的离子刻蚀机基片尺寸直径3英寸X8片直径4英寸X6片基台直接冷却样品台20cm考夫曼离子源电源可更换为国内电源离子蚀刻机主要优点:1.干式制程的微细加工装置,使得

6、在薄膜磁头,半导体元件,MRsensor等领域的开发研究及量产得以广泛应用。2.物理蚀刻的特性,无论使用什么材料都可以用来加工,所以各种领域都可以被广泛应用。3.配置使用美国考夫曼公司原装制造的离子源。4.射频角度可以任意调整,蚀刻可以根据需要做垂直,斜面等等加工形状。5.基板直接加装在直接冷却装置上,所以可以在低温环境下蚀刻。6.配置公转自转传输机构,使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。7.机台设计使用自动化的操作流程,所以可以有非常友好的使用生产过程。标题:纳米压印和台式原子层沉积系统价格库号:JX价格:百度搜【润联网】查询主要技术参数:传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃

7、掩模板需要由专业供应商提供,但是在研发环境中,掩模板的设计通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法,克服了这一问题。与通过物理掩模板进行光照的传统工艺不同,激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关,在光刻胶上直接曝光绘出所要的图案,无需掩膜工序。绝大多数利用电子束刻蚀制造的器件只有很小的一部分结构需要用到电子束刻蚀的高分辨率,而大部分曝光时间都浪费在了如电极连接等大面积结构的生成上。Applications应用领域:电子/半导体器件(Microelectronic/Semico

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