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时间:2020-09-13
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1、第3章场效应管及其放大电路结型场效应管金属-氧化物-半导体场效应管场效应管放大电路半导体三极管(场效应管)图片半导体三极管图片场效应管【FET——FieldEffectTransistor】双极型三极管场效应管BJTFET电流控制的元件(iB→iC)电压控制的元件(vGS→iD)利用基极的小电流控制集电极的大电流实现放大作用。利用电场效应来控制输出电流。对照两种形式的三极管:功耗低集成度高(单位面积上容纳的门电路数量远大于双极型三极管)输入阻抗大(107~1012)热稳定性好(与环境温度关系不大)抗干
2、扰能力强缺点:速度低。FET的特点:体积小,重量轻,价格低,寿命长;FET的分类:根据结构不同,可分为:结型场效应管(JFET——JunctiontypeFieldEffectTransistor)金属-氧化物-半导体场效应管(MOSFET——MetalOxide-SemiconductortypeFieldEffectTransistor)N沟道P沟道P沟道N沟道N沟道P沟道增强型耗尽型3.1结型场效应管(JFET)N沟道结型场效应管符号:栅极【Gate】漏极【Drain】源极【Source】NP+P
3、+3.1.1JFET的结构#符号中的箭头方向!三个极:源极(s)、栅极(g)、漏极(d),对应于晶体管的e、b、c;P沟道结型场效应管符号:箭头:P→N栅极【Gate】漏极【Drain】源极【Source】PN+N+当N沟道JFET工作时,需:vGSvDS+-dgs在栅极和源极间加一个负电压(vGS<0),使栅极与N沟道间的PN结反偏(注意与BJT的不同!!)夹断若vDS为一固定正值,则iD将受vGS的控制,│vGS│↑时,沟道电阻↑,iD↓。vDS=0时vGS对导电沟道的控制作用:此时,vGS变化虽然
4、导电沟道随之变化,但漏极电流iD总是等于0。1、低频互导(跨导)gmUDS为定值时,漏极电流的微小变化ΔiD与对应的输入电压变化量ΔuGS之比。该参数相当于BJT的电流放大倍数β。2、夹断电压UGS(off)在漏源电压UDS为定值时,当ID小到近于零的UGS值,即UGS≤uGS(off)时,截止;UGS>uGS(off)时,导通。3、饱和漏电流IDSS在uGS=0,时的漏极电流。通常令uGS=0,uDS=10V时,测得的iD即为IDSS。场效应管的主要参数vGSvDS+-dgsuGS=0VuGS=-1V
5、3.1.2JFET的特性曲线输出特性曲线恒流区的特点:△iD/△vGS=gm≈常数即:△iD=gm△vGS(放大原理)①可变电阻区②恒流区、饱和区、线性放大区③截止区④击穿区可变电阻区恒流区截止区击穿区截止区、恒流区、可变电阻区,对应于晶体管的截止区、放大区、饱和区。UGS(off)只要给出IDSS和UGS(off)就可以把转移特性中的其他点近似计算出来。转移特性曲线可表示为:3.2金属-氧化物-半导体(绝缘栅型)场效应管MOSFETP沟道N沟道N沟道P沟道增强型耗尽型分类:增强型:指UGS=0时,没有
6、导电沟道,即iD=0,而必须依靠栅源电压UGS的作用,才形成感生沟道的FET。耗尽型:指UGS=0时,也会存在导电沟道,iD≠0的FET。符号:3.2.1.N沟道增强型MOSFET结构SiO2绝缘层铝电极半导体定义:开启电压(UT)——刚刚产生沟道所需的栅源电压UGS。N沟道增强型MOS管的基本特性:uGS<UT,管子截止,uGS>UT,管子导通。uGS越大,沟道越宽,在相同的漏源电压uDS作用下,漏极电流ID越大。在栅极下方的SiO2层中掺入了大量的金属正离子。所以当uGS=0时,这些正离子已经感应出
7、反型层,形成了沟道。符号3.2.2N沟道耗尽型MOSFET可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流绝缘栅场效应管N沟道增强型P沟道增强型各种FET的比较与使用注意事项绝缘栅场效应管N沟道耗尽型P沟道耗尽型结型场效应管N沟道耗尽型P沟道耗尽型思考:1、JEFT的栅极与沟道间的PN结在一般作为放大器件工作时,能用正向偏置吗?BJT的发射结呢?答:JEFT的栅极与沟道间的PN结在一般作为放大器件工作时,不可以用正向偏置。因为当JFET正偏时,其PN结都处于正偏状态,沟道两侧的耗尽层消失,对DS沟道失去了
8、控制作用,所以失去放大作用。BJT的发射结要求正偏。2、图示符号各表示哪种沟道的JEFT?其箭头方向代表什么?答:图(a)为N沟道,(b)为P沟道场效应管。箭头方向代表正偏方向3.4场效应管放大电路(1)静态:适当的静态工作点,使场效应管工作在恒流区,场效应管的偏置电路相对简单。(2)动态:能为交流信号提供通路。组成原则:静态分析:估算法、图解法。动态分析:微变等效电路法。分析方法:例分压式偏置电路下图中,设漏极电源VDD=18V,VGS(
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