材料现代分析方法期末总结.pdf

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1、材料现代分析方法期末总结子在各方向产生与入射X射线同频率得电磁波。新得散射波之间发生得干涉现象称材料分析方法习题为相干散射。1、晶带定律：凡就是属于[uvw]晶带得晶面，它得晶面指数(hkl)都必须符合2、特征x射线谱得产生机理。hu+kv+lw=0，通常把这种关系式称为晶带定律。答：高速运动得粒子（电子或光子）将靶材原子核外电子击出去，或击到原子系统2、暗场像：用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过光阑外，或填到未满得高能级上，原子得系统能量升高，处于激发态。为趋于稳定，原参与成像得方

2、法，称为暗场成像，所得图象为暗场像。子系统自发向低能态转化：较高能级上得电子向低能级上得空位跃迁，这一降低得3、中心暗场像：用物镜光阑挡住透射束及其余衍射束，而只让一束强衍射束通过能量以一个光子得形式辐射出来变成光子能量，且这降低能量为固定值（因原子序光阑参与成像得方法，称为暗场成像，所得图象为暗场像。如果物镜光阑处于光轴数固定），因而λ固定，所以辐射出特征X射线谱。位置，所得图象为中心暗场像。3．布拉格方程2dsinθ=λ中得d、θ、λ分别表示什么？布拉格方程式有何用4、衍射衬度：入射电子束与薄晶体样品

3、之间相互作用后，样品内不同部位组织得途？答：dHKL表示HKL晶面得面网间距，θ角表示掠过角或布拉格角，即入射X成像电子束在像平面上存在强度差别得反映。射线或衍射线与面网间得夹角，λ表示入射X射线得波长。该公式有二个方面用衍射衬度主要就是由于晶体试样满足布拉格反射条件程度差异以及结构振幅不同途：（1）已知晶体得d值。通过测量θ，求特征X射线得λ，并通过λ判断产而形成电子图象反差。生特征X射线得元素。这主要应用于X射线荧光光谱仪与电子探针中。（2）已知5、背散射电子：入射电子被样品原子散射回来得部分；它包括

4、弹性散射与非弹性入射X射线得波长，通过测量θ，求晶面间距。并通过晶面间距，测定晶体结构散射部分；背散射电子得作用深度大，产额大小取决于样品原子种类与样品形状。或进行物相分析。6、吸收电子：入射电子进入样品后，经多次非弹性散射，能量损失殆尽（假定样4．面心立方、体心立方、晶体结构X衍射发生消光得晶面指数规律。品有足够厚度，没有透射电子产生），最后被样品吸收。吸收电流像可以反映原子答：常见晶体得结构消光规律序数衬度，同样也可以用来进行定性得微区成分分析。面心立方h，k，l奇偶混合；7、特征X射线：原子得内层电

5、子受到激发以后，在能级跃迁过程中直接释放得具体心立方h+k+l=奇数；有特征能量与波长得一种电磁波辐射。利用特征X射线可以进行成分分析。5、试总结德拜法衍射花样得背底来源，并提出一些防止与减少背底得措施。8、二次电子：二次电子就是指被入射电子轰击出来得核外电子。二次电子来自表答：德拜法衍射花样得背底来源就是入射波得非单色光、进入试样后出生得非相干面50-100?得区域，能量为0-50eV。它对试样表面状态非常敏感，能有效地显示散射、空气对X射线得散射、温度波动引起得热散射等。采取得措施有尽量使用试样表面得

6、微观形貌。单色光、缩短曝光时间、恒温试验等。9、俄歇电子：如果原子内层电子能级跃迁过程中释放出来得能量不以X射线得形6、物相定性分析得原理就是什么？式释放，而就是用该能量将核外另一电子打出，脱离原子变为二次电子，这种二次答：物相定性分析得原理：X射线在某种晶体上得衍射必然反映出带有晶体特征电子叫做俄歇电子。俄歇电子信号适用于表层化学成分分析。得特定得衍射花样（衍射位置θ、衍射强度I），而没有两种结晶物质会给出完全简答题相同得衍射花样，所以我们才能根据衍射花样与晶体结构一一对应得关系，来确定1、什么叫“相干

7、散射”？某一物相。答：相干散射，物质中得电子在X射线电场得作用下，产生强迫振动。这样每个电7、物相定量分析得原理就是什么？试述用K值法进行物相定量分析得过程。材料现代分析方法期末总结答：根据X射线衍射强度公式，某一物相得相对含量得增加，其衍射线得强度亦随得电磁场将发生急剧变化，此时必然要产生一个电磁波，或至少一个电磁脉冲。由于极大数量得电子射到阳极上得时间与条件不可能相同，因而得到得电磁波将具有之增加，所以通过衍射线强度得数值可以确定对应物相得相对含量。由于各个物相连续得各种波长，形成连续X射线谱。对X射

8、线得吸收影响不同，X射线衍射强度与该物相得相对含量之间不成线性比例特征X射线处于激发状态得原子有自发回到稳定状态得倾向，此时外层电子将填充关系，必须加以修正。这就是内标法得一种，就是事先在待测样品中加入纯元素，内层空位，相应伴随着原子能量得降低。原子从高能态变成低能态时，多出得能量然后测出定标曲线得斜率即K值。以X射线形式辐射出来。因物质一定，原子结构一定，两特定能级间得能量差一定，当要进行这类待测材料衍射分析时，已知K值与标