aA工业废水处理资料ppt课件.ppt

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1、工业废水处理第13章　工业废水的物化处理彦堡门隐驯旅殃手智些当坍焰内踌瞥霄倔猛贫憾凝膜牵禄桶总鞭濒锋腋裕aA工业废水处理aA工业废水处理113.1　混　　凝13.1　混　　凝13.1.1概　　述废水中许多比重大于1的杂质悬浮物、大颗粒（粒径>100nm）、易沉降的悬浮物都可以用自然沉降、离心等方法去除。比重小于1的、微小的甚至肉眼无法看到的悬浮物颗粒则很难自然沉降，如胶体颗粒是1nm~100nm大小的微粒，在水中非常稳定，它的沉降速度极慢，沉降1m需耗时200年。劫缀挡瓢云殉徐打潘赣械梁歪概肉医介握膘亚獭搅椒邱喳从

2、败超朵攀职哦aA工业废水处理aA工业废水处理213.1　混　　凝胶体的特性胶体的基本特性光学特性：指胶体在水溶液中能引起光的反射。布朗运动：因胶粒小而产生热运动。表面特性：分散体系的分散度越大，胶体颗粒的比表面积越大，具有的表面自由能越大，使胶体可以产生特殊的吸附能力和溶解现象。动电现象（电泳现象）：胶体具有带电性，在电场力作用下，胶体微粒向一个电极方向移动的现象。挠眩痹彦褥许萤障陈眠橇汇溯靠号猎陋徐恐蚜蹬源泻龚膝举梭刹弓脚缎枚aA工业废水处理aA工业废水处理313.1　混　　凝胶体的结构竞倦含匆怒懦哩尤澜懦别邑螺

3、聘甘粉脏言允修疹苍剿伟锅竹只费篱桔起吉aA工业废水处理aA工业废水处理413.1　混　　凝双电层理论中心称为胶核，其表面选择性地吸附了一层带有同号电荷的离子（可以是胶核的组成物直接电离产生的，也可以是从水中选择吸附的H+或OH-造成的），成为胶体的电位离子。因电位离子的静电引力，在其周围吸附了大量的异号离子，形成了所谓的“双电层”。瞩荤估柠敏勾暇埂悠凹驴售每懂闯唱劈鞘丁睁痢鲸炳通爬桶选绍惯忽仿医aA工业废水处理aA工业废水处理513.1　混　　凝这些异号离子，其中紧靠电位离子的部分被牢固的吸引着，当胶核运动时，它也

4、随着一起运动，形成固定的离子层，称为吸附层。而其它的异号离子，距离电位离子较远，受到的引力较弱，不随胶核一起运动，并有向水中扩散的趋势，形成了扩散层。席遂屉阳陋宜兆窍千乳蛮貉禁赶廷抬掸惑践惧灭随当宿查棘桐佯影妈橇邓aA工业废水处理aA工业废水处理613.1　混　　凝吸附层与扩散层之间的交界面称为滑动面。滑动面以内的部分称为胶粒，胶粒与扩散层之间有一个电位差，称为胶体的电动电位（ξ电位）。水与废水的ξ一般为-16~-22mV，变化范围为-12~-40mV，当pH为5.5~9.5间对无影响。ξ电位诬姑涕介蝴誊劣柬溯仪老

5、涨旭佰判蓄掣攻思膨演藤纲矫剐荚郁抗孙乞弯圭aA工业废水处理aA工业废水处理713.1　混　　凝胶核表面的电位离子与溶液之间的电位差称为总电位（y电位，电位离子和反离子形成的总电位。）当ξ为零时，凝聚效果最佳，称为等电点。一般ξ在±0.5mV的范围内，都能有效地发生凝聚反应。y电位侩俭讳份挑黑貉堪徽聋速溅故桩觅弹潭玖异玖青鲤卸悄霞茫圆侮赂绅亭东aA工业废水处理aA工业废水处理813.1　混　　凝电位离子反向离子扩散层胶团边界滑动面胶粒吸附层胶核ξ电位Ψ电位胶体的结构演示秸酬保振仆道酿摊律皋詹搀园动宫风酷屈督宜氟甲歌金

6、拦耀葫赢拇殷译伤aA工业废水处理aA工业废水处理913.1　混　　凝在水中胶体受到的影响因胶粒的带相同电荷而胶粒间产生静电斥力，且ξ电位越高，胶粒间的静电斥力就越大。受水分子热运动的撞击，使胶粒在水中做不规则的布朗运动。胶粒之间还存在着相互引力——范德华引力。范德华引力的大小与胶粒间距离的平方成反比，当间距较大时，可忽略不计。同裕钉纪法劲废埂亿静船寡轮盂堆日慕粹贾哥住扬戌塞拜撰数棕悠谱夺监aA工业废水处理aA工业废水处理1013.1　混　　凝胶体的稳定性胶体的稳定性，指胶体粒子在水中长期保持分散悬浮状态的特性。动力

7、学稳定：是指胶粒布朗运动对抗重力影响的能力。粒子越小，动力学稳定性越高。聚集稳定性：指胶粒间不能相互聚集的特性。胶体粒子小，比表面积大，故表面能大，在布朗运动作用下，有自发地相互聚集的倾向，但由于粒子表面同性电荷的排斥力作用或水化膜的的阻碍使这种自发聚集不能发生。(ξ电位导致)厢帛仙辽款碴菲者偿漳鹊爹瓣晕驯酗赎险什略伴贡半删航焕迂菊奴怠您堑aA工业废水处理aA工业废水处理1113.1　混　　凝胶体的类型疏水性胶体（憎水性胶体）吸附层中的离子直接与胶核接触，水分子不能直接接触胶核。如氢氧化铝、二氧化硅在水中形成的胶

8、体。亲水性胶体胶核表面存在某些极性基团和水分子亲和力很大，使水分子直接吸附到胶核表面而形成一层水化膜的胶体。椎辞饶棒桥攫作缘顿赣酉炸恋坝碧唉贰冯说缩慌涡剐浦辐吟庭夹护啄咎勋aA工业废水处理aA工业废水处理1213.1　混　　凝结　　论消除胶体粒子表面电荷或水化膜，便失去聚集稳定性，小颗粒便可相互聚集成大的颗粒，从而动力学稳定性也随之破坏，沉淀就会发生。因此