专利预警分析实务与应用ppt课件.ppt

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1、专利预警分析实务与应用2021/9/191什么时候做专利预警?怎么做专利预警?2021/9/192目录一、立项前的专利预警分析二、研发中的专利预警分析三、研发后的专利预警分析四、市场化中的专利预警分析五、企业日常经营的专利预警分析六、专利风险应对策略简介2021/9/193一、立项前的专利预警分析二、研发中的专利预警分析三、研发后的专利预警分析四、市场化中的专利预警分析五、企业日常经营的专利预警分析六、专利风险应对策略简介2021/9/1942500万元科研费付东流某研究院准备开发一项环保技术,并在原国家科委立项,前后共投入科研经费250

2、0万元。历时3年自行研制成功了,准备大力推广该项技术、并想申请专利时,才发现日本一公司早在1988年已有相同的技术、并已在中国申请了专利。后果:钱白花了;时间、人力、物力浪费;无法实施案例12021/9/195我国科研现状我国的科研项目重复率达到40%以上。973、863项目都不能避免。中药领域,我国中药新药研发有90%是重复研究。缺乏商业规划,未充分了解技术现状,盲目上项目人力、物力、时间和科技经费经受着巨大的浪费。2021/9/196立项前,一定要进行深入的查新预警。依据项目预期的创新成果进行专利文献检索,根据检索结果分析项目技术的新

3、颖性、创造性和侵权可能性,提出查新预警报告。一方面帮助决策者判断该领域技术现状和竞争对手的技术动态,确定项目是否立项,是否要调整研发目标和技术路线。另一方面通过对该领域过去的技术发展情况和当前发展状况的分析,预测技术领域可能的发展趋势,确保项目研发的新颖性和可行性。2021/9/197钢笔鹅毛笔蘸水笔2021/9/198专利技术路线示例——切削加工刀具1971年-1980年1991年-2000年1981年-1990年2001年-2005年2006年-2010年DE2142601A山特维克1970-11-25单层碳化物涂层SE7706706

4、A山特维克1977-6-26k-Al2O3涂层DE2253745A山特维克1971-11-12双层涂层,底层为碳化物,外层为氧化铝/锆EP6534A1978-6-22STELLRAMSA五层涂层,至少两层分别为碳化物、氮化物涂层JP14615279A1979-11-12东芝图格莱涂层中氮元素呈梯度分布GB2095702A肯纳金属1981-3-27涂层成分为碳氮化物US4714660A1985-12-23FANSTEELINC,碳氧铝钛涂层US5391422A1990-10-5住友电工四氮化三硅基底涂敷金刚石或类金刚石涂层SE8403429

5、A1984-6-27桑德拉德有限公司多层金刚石涂层US5075181A1989-5-5肯纳金属PVD多层涂层JP15168281A1981-9-25三菱金属具有软涂层减小磨损增加韧性US5585176A1993-11-30肯纳金属金刚石涂层US5478634A1992-10-12住友电工具有立方晶体结构的多层涂层JP2000144427A1998-11-5日立工具双层涂层,含?-氧化铝涂层EP659903A11993-12-23山特维克,?-氧化铝涂层刀体的方法及刀体JP22144998A1998-8-5三菱材料含钛软涂层CN132179

6、0A2000-4-28大连理工大学电弧离子镀沉积氮化钛铌超硬质梯度薄膜SE200502747A2005-12-14山特维克PVD沉积AlxTi1-xN涂层EP1696051A12005-2-25山特维克MTCVD沉积的TiCxNy层和?-Al2O3层EP1726686-A12005-5-26日立工具A,B层交替形成多层US31162805A2004-12-22山特维克Al含量层梯度分布SE0202632A2002-9-4山高刀具PVD涂敷AlN纳米涂层WO2008043606A12006-10-10欧瑞康康贸易股份公司,PVD沉积多元氧化

7、物混晶层,晶格具有刚玉结构CN1927579A山东大学2006-9-29自润滑复合软涂层刀具表面为MoS2软涂层EP07117460A2006-10-18山特维克PVD和PECVD涂敷组分A金属氧化物和组分B金属氧化物纳米复合层JP2009101462A2007-10-23三菱材料,CVD底层为TiCrCN的等轴晶粒,上层为Al2O3涂层US2009226274A12009-9-8山高刀具(Al,Cr)2O3层具有纤维织构EP2310549A12008-7-9欧瑞康贸易股份有限公司涂层成分为AluCr1-u-v-wSivTawCNBOUS

8、2011135898A12009-12-4山特维克Si的含量呈梯度分布超多层,达300层US20110171444A1US38070299A1998-2-4OSG双层交替形成多层,每层为AlT

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