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时间:2020-10-04
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1、第五章光电检测器与光接收机5.1光电检测器5.2光电检测器的特性指标5.3光接收机5.4光接收机的噪声5.5光接收机的灵敏度5.1光电检测器5.1.1PIN光电二极管PIN(PositiveIntrinsicNegative)工作原理在PN结中间掺入一层浓度很低的N型半导体,就可以增大耗尽区的宽度,达到减小扩散运动的影响,提高响应速度的目的。PIN光电二极管工作原理由于这一掺入层的掺杂浓度低,近乎本征半导体,故称I层,因此这种结构称为PIN光电二极管。I层较厚,几乎占尽了整个耗尽区。绝大部分的入射光在I层内被吸收并产生大量的电子——空穴对。在I层两侧是掺
2、杂浓度很高的P型和N型半导体,P层和N层很薄,吸收入射光的比例很小。因而光产生电流中漂移分量占了主导地位,这就大大加快了响应速度。PIN光电二极管工作原理通过插入I层,增大耗尽区宽度达到了减小扩散分量的目的,但是过大的耗尽区宽度将延长光生载流子在耗尽区内的漂移时间,反而导致响应变慢,因此耗尽区宽度要合理选择。通过控制耗尽区的宽度可以改变PIN光电二极管的响应速度。§5-1-1PIN光电二极管1.PN结的特性在PN结上加反向偏压(P接-,N接+),并在入射光的照射下,可以产生与入射光强度成正比的光生电流。因此,反向偏压下的PN结就是一种最基本的PN光电二极
3、管。通过对这种光电二极管的改进,可以获得性能更为优异的能在实际光通信系统中使用的PIN光电二极管和APD雪崩光电二极管。§5-1-1PIN光电二极管2.PIN光电二极管结构与工作原理PIN是在普通的光电二极管(PD--PhotoDiode)的P区和N区之间增加本征区(I区),由于I区具有较高的电阻,因此外加反向偏压基本上降落在I区。当光子入射到达I区时,由于光子被吸收而产生电子--空穴对(光生载流子),在高电场作用下,电子--空穴分别高速向相反方向运动(电子向N区,空穴向P区),从而在外加负载上形成光电流。§5-1-1PIN光电二极管3.目前国产PIN光
4、电二极管的水平(1)Si-PIN响应光谱范围:0.8-0.9mm响应度R:0.6-0.8(mA/mW)量子效率h:80%响应时间:tr<1ns(tr脉冲前沿)工作电压:-15V暗电流:Id<1nA§5-1-1PIN光电二极管3.目前国产PIN光电二极管的水平(续)(2)Ge-PIN(用于1.3mm光纤通信系统)响应光谱范围:1.3mm响应度R:0.5-0.7(mA/mW)量子效率h:70%响应时间:tr<1nS(tr脉冲前沿)工作电压:-5V~-10V暗电流:Id~0.2mA§5-1-1PIN光电二极管3.目前国产PIN光电二极管的水平(续)(3)InG
5、aAs-PIN(用于1.3mm或1.5mm光纤通信系统)响应光谱范围:1.3mm或1.5mm响应度R:0.5-0.7(mA/mW)量子效率h:60%响应时间:tr<1nS(tr脉冲前沿)工作电压:-5V暗电流:Id~3nA图5.1PIN光电二极管的结构PIN(PositiveIntrinsicNegative)PIN光电二极管(PINPD)的结构如图5.1.2雪崩光电二极管雪崩光电二极管应用光生载流子在其耗尽区(高场区)内的碰撞电离效应而获得光生电流的雪崩倍增。1.雪崩光电二极管的结构常用的APD结构包括拉通型APD和保护环型APD,如图5.2所示。由于
6、要实现电流放大作用需要很高的电场,因此只能在图中所示的高场区发生雪崩倍增效应。§5-1-2APD雪崩光电二极管APD(AvalanchePhotoDiode)1.APD结构及工作原理APD是具有内部增益的光电二极管,它在PIN的结构上增加了倍增层P层,构成P+/I/P/N+结构。在本征区I(吸收层)吸收光子产生载流子(电子-空穴对)进入倍增层,在高电场的作用下(与晶格原子)发生碰撞电离,产生新的载流子,此种作用在倍增区内循环持续发生,以致造成载流子的雪崩倍增,从而在外部负载中产生更大的光电流。图5.2APD的结构APD结构示意图§5-1-2APD雪崩光电
7、二极管对比:PIN光电二极管是一种无信号增益的器件,一个光子最多只能产生一对电子-空穴对;APD光电二极管可以像光电倍增管那样在APD内部得到放大,一个光子可以产生多对电子-空穴对,从而使APD可以具有高的响应度。§5-1-2APD雪崩光电二极管2.APD的主要性能参数(以Si-APD为例)(1)雪崩电压VB(2)倍增因子M*(3)增益-带宽乘积(4)响应度(灵敏度)(5)暗电流(6)量子效率§5-1-2APD雪崩光电二极管(1)雪崩电压VB雪崩电压VB:当雪崩光电二极管产生自持雪崩时的电压称为雪崩电压。电压与电流的关系如图所示。其中电流开始剧增时对应的
8、电压为VB,VB值因材料、器件结构不同而不同。(2)倍增因子MM是雪崩倍增时测得
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