高钴低镍合金电沉积工艺-论文.pdf

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1、赣罄第10期烈Vlo1．31No．10高钴低镍合金电沉积工艺雷华山水，田志斌，詹益腾(广州三孚新材料科技有限公司，广东广州510663)摘要：介绍了一种氨基磺酸盐镀钴镍合金工艺，镀液组成为：bycurrentdensity．butslightlybythemassratioofCotoNi．Co(NH2SO3)2’4H20450，Ni(NH2SO3)2‘4H20150g，L，NiC12‘6H20Theelectrodepositi0nofCNialloycoatingfollowsanomalous18g／L，H3BO335L，十二

2、烷基硫酸钠(K12)0．04egL，丁二酸codepositionmechanism．Theadditivesdevelopedhavegood二己酯磺酸钠(MA80)0．08g／L，苯亚磺酸钠0．4edL，羟甲基磺effectiveness．TheCo_Nialloycoatingsobtainedfeaturefine酸钠0．25g／L。用扫描电镜及能谱考察了阴极电流密度和镀液中crystallization。goodductility，smoothsurface，nobrittlenessCo／Ni质量比对钻镍合金镀层微观形貌

3、及化学成分的影响，用表orpinhole，andgoodhigh-temperatureresistance．面张力仪测试了湿润剂(即Kl2和MA80)对镀液界面张力的影Keywords：cobalt-nickelalloy；sulfamate；electroplating；响，用极化曲线测量法分析了柔软剂(即苯亚磺酸钠和羟甲基磺additive；composition；morphology；thermalresistance酸钠)对镀液性能的影响，并研究了Co-Ni合金镀层的热稳定First．author’Saddress：Gua

4、ngzhouSanfuNewMaterials性。结果表明，电流密度对合金镀层成分的影响较大，镀液中TechnologyCo．，Ltd．，Guangzhou510663，C：hinaCo／Ni质量比对镀层形貌的影响较小，Co-Ni合金遵循异常共沉积规律，所开发的添加剂效果良好。所得Co-Ni合金镀层结晶l前言细致、韧性好，平整而无脆性及针孔，高温耐热性艮好。关键词：钴—镍合金；氨基磺酸盐；电镀；添加剂；成分；形貌；现代化工业的发展对材料表面性能的要求越来越耐热性高，单一的金属镀层已不能很好地满足要求，已经有中图分类号：TQ153．2

5、文献标志码：A向合金化方向发展的趋势。与Ni-Co合金镀层相比，文章编号：1004—227X(2012)10—0019—03Co-Ni合金镀层因钴含量高而具有许多优良的物理、ElectrOdepOsitiOnprocessofhighcobalt-lownickel化学及机械性能，比如高温耐磨，抗拉强度高，高温alloy／／LEIHua—shan*．TIANZhi．bin．ZHANYi-teng下具有较高的硬度，抗热疲劳及热腐蚀性能好，受热Abstract：AsulfamateCo—Nialloyplatingprocesswasi

6、ntroduced．ThebathiScomposedofCo(NH，SO312·4H2O后表面易陶瓷化等，因此被广泛地用作装饰性及功能450g／L，Ni(NH2SO3)2’4H20150g／L，NiC126H2018g／L，性镀层材料，在电铸模具、炼钢连铸机结晶器等领域H3BO335g／L，sodiumdodecylsulfate(K12)0．04g／L，sodium有广阔的应用前景⋯，近年来引起了越来越多的学者关dihexylsulfosuccinate0．08g／L．sodiumbenzenesulfinate注。本文主要讨论

7、工艺参数对氨基磺酸盐体系电镀O．04g／L．andsodiumhydroxymethanesulfonate0．25g／L．Co-Ni合金工艺及镀层性能的影响。TheeffectsofcathodiccurrentdensityandCo．to．Nimassratioinbathonmicroscopicmorphologyandchemica12实验compositionofCo—Nialloycoatingwerestudiedbyscanning2．1镀液组成及工艺条件electronmicroscopyandenergy—d

8、ispersivespectroscopy．Theeffectsofwettingagentsi．e．K，andMA80oninterfacial采用赫尔槽试验法，试片为标准的赫尔槽黄铜片，所tensionofthebathweret