户外高压电气设备的防污闪课件.ppt

户外高压电气设备的防污闪课件.ppt

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1、户外高压电气设备的防污闪一、污闪及机理绝缘子在长期运行中,大气中的尘埃微粒、鸟类粪便等落在其表面,形成污秽层。在干燥气象条件下,污秽层电阻很大,绝缘子的绝缘性能不会降低。在雾、露、小雨、融冰、融雪等气象条件下,污秽层中的电解质湿润后,表面电导率增加,绝缘性能下降。污秽层中的灰分等可保持水分,使污秽层进一步受潮,从而溶解更多的电解质,造成绝缘子湿润表面的闪络放电,简称污闪。一、污闪及机理什么是污闪?污闪是指电气设备绝缘表面附着的污秽物在潮湿条件下,其可溶物质逐渐溶于水,在绝缘表面形成一层导电膜,使绝缘子的绝缘水平大大降低,在电场作用下出现的强烈放

2、电现象。一、污闪及机理绝缘子污闪放电的显著特点是闪络电压低,可能低到以下。标准绝缘子在干燥清洁状态下每片的闪络电压平均为,在潮湿状态下也有。污秽绝缘子的沿面放电过程与清洁表面完全不同,不再是一种单纯的空气间隙击穿现象,而是一种与因素有关的污秽表面气体电离、表面层发热和烘干,以及局部电弧发生、发展的热动力平衡过程。宏观上,可将污闪放电过程分为四个阶段:10KV75KV45KV电、热、化学一、污闪及机理1、绝缘子表面污秽积累2、在潮湿环境条件下污秽变湿润3、在表面泄露电流的热效应作用下出现干区,从而改变电压分布并引起局部电弧4、局部电弧的产生和发展

3、并导致沿面闪络一、污闪及机理因此,影响污闪的三大要素是:1、表面积污2、污层湿润3、电压作用一、污闪及机理表面积污:户外绝缘子在常年的挂网运行中会受到工业污秽或自然界盐碱、飞尘等污染,这些污秽物包含有SO2、NH2、NO3、Cl2等导电微粒,,使污层电导增大,绝缘电阻降低,泄漏电流增加,产生局部放电。7一、污闪及机理污层湿润:表面积污状态下,在大雨冲刷后,一般能将表层附着的污层冲刷掉,而大雾、细雨和溶雪天气空气湿度很大,绝缘子表面污垢吸潮,某些溶于水的物质发生分解,使表面电阻大大降低,从而放电电压下降,造成正常工作电压下的局部放电,最终发展成为

4、污闪。8二、电气设备防污闪方法针对影响污闪的三大因素,可以采取相应的防污闪措施。(一)针对污秽的防污闪措施清除运行中绝缘子表面沉积的污秽,能有效恢复绝缘子原有的绝缘水平,是一种基本的防污闪措施。随着电气设备电压等级的提高,人工清扫的局限性越来越明显,因此开发了以下清扫措施:二、电气设备防污闪方法1、带电气吹扫压缩空气清扫的动力机具主绝缘(一)针对污秽的防污闪措施橡胶绝缘管压缩后T凝露绝缘降低安全性降低停二、电气设备防污闪方法2、带电水清洗水水质表面积污量(一)针对污秽的防污闪措施用少冲洗方法环温、风向被冲洗设备及临近设备污闪二、电气设备防污闪方

5、法3、带电机械干清洗机具重量大力量小(一)针对污秽的防污闪措施受限易损效果差不能适用220KV及以上设备手枪电钻作为动力源二、电气设备防污闪方法(一)针对污秽的防污闪措施目前,国内电气设备的清扫绝大多数采用停电清扫和逢停必扫的措施,此种举措清扫不彻底,而且耗费巨大的人力和物力。开展带电清扫,才能做到应扫必扫、随时清扫,保证设备清洁如初,确保设备安全运行。但带电气吹清扫、带电水冲洗和带电机械干清扫等方法,在不同的程度上还存在一些问题。二、电气设备防污闪方法1、采用憎水涂料憎水涂料涂覆在绝缘子上,能使绝缘子表面从亲水性变为憎水性。水分在其表面凝聚成

6、水珠,而不致形成连续导电的水膜,限制了泄漏电流的增长,从而防止污秽闪络。(二)针对潮湿的防污闪措施14二、电气设备防污闪方法(二)针对潮湿的防污闪措施憎水涂料干性湿性RTV(室温硫化硅橡胶涂料)PRTV(持久性就地成型防污闪涂料)硅油硅脂1、采用憎水涂料二、电气设备防污闪方法(二)针对潮湿的防污闪措施1、采用憎水涂料室温硫化硅橡胶(RTV)根据使用工艺,可分为单组分RTV和双组分RTV,单组分RTV使用方便,但深部固化速度较慢;双组分RTV固化时不放热,吸缩率很小,不膨胀,无内应力,固化时在内部和表面同时进行,可以深部固化。室温硫化硅橡胶的使用

7、寿命为5年。二、电气设备防污闪方法(二)针对潮湿的防污闪措施1、采用憎水涂料持久性就地成型防污闪涂料(PRTV)保留了RTV室温硫化、能现场施工的特点,同时又具有合成绝缘子高温硫化硅橡胶性能的长期稳定性,使用寿命为10~15年。二、电气设备防污闪方法(二)针对潮湿的防污闪措施1、采用憎水涂料硅油防污闪涂料是二甲基硅油(简称硅油),他具有某些无机化合物的特点。硅油的使用有效期一般为3~6个月,实际使用寿命与当地气候和落灰量有关。落灰量大,绝缘子表面的硅油消失得比较快,其有效期相应缩短。硅脂涂料的基本性能与硅油相同,不同之处是他把硅油储藏在白炭黑粉

8、末里,有效期1年,长效硅脂涂料有效期可达3年。二、电气设备防污闪方法(二)针对潮湿的防污闪措施2、采用半导体釉半导体釉是在普通釉基础上添加10%~30

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