电连接器接触特性的试验研究.pdf

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1、第１期机电元件Ｖｏｌ畅３３Ｎｏ畅１２０１３年２月ELECTROMECHANICALCOMPONENTSＦｅｂ畅２０１３工艺与材料JQX－14F继电器工艺研探王建宏（浙江利尔德继电器有限公司）摘要：继电器生产的成本、合格率是标志一个企业技术先进和管理有效性的指标。提高产品的合格率是一切工艺人员、管理人员的共同目标，是企业降低成本，获得较高利润的有效突破口，也是企业内部管理的核心内容。遗憾的是，由于企业的资源配置不可能完全获得德才兼备的优秀人员，许多技术和质量问题长期得不到解决，造成企业极大的隐形浪费，不利于或制约着企业进

2、步。关键词：继电器；工艺Ｄｏｉ：１０．３９６９／ｊ．ｉｓｓｎ．１０００－６１３３．２０１３．０１．００６中图分类号：ＴＮ７８４　　　　文献标识码：Ａ文章编号：１０００－６１３３（２０１３）０１－００２３－０３的现象普遍存在，加上用户的标准观念缺失，或实用1问题的提出主义的思想。目前，市场提供给用户的１４Ｆ产品中笔者长期在制造企业调查了解，ＪＱＸ－１４Ｆ继电有相当一部分是功能严重不足的产品。器成品率较低，技术人员总体感觉产品制造难度大。2JQX－14F产品结构特点ＪＱＸ－１４Ｆ从产品的结构来分，有欧姆龙和王利公司的两种结

3、构，俗称＂高壳＂和＂矮壳＂之分。目前，矮该产品是以基座为安装和定位唯一的结构特壳类由于其结构，普遍感觉好做，而高壳类难做。华点。因此，分析的切入点应以底座受力以后的物理东地区有相当规模的一家企业成品率仅为５７％。变化作为突破。确定这一观点，也是经过大量实验换言之，投料５万套，成品仅合格２．８５万套的制造效果不明显而得出的结论，且经过这样的分析并经水平。当然，这是建立在ＧＢ／Ｔ１５５１０控制用电磁继过各种实验，顺利地解决了大批量生产合格率达到电器可靠性试验通则，是建立在ＧＢ／Ｔ１４５９８．５电气９７％的喜人水平，按标准水

4、平来计算合格率达到９９％继电器第１５部分寿命试验、试验设备的特性规范原则上的。至于大量生产单位降低或不遵守国家标准图１　ＪＱＸ－１４Ｆ产品实物图图２　ＪＱＸ－１４Ｆ产品结构图收稿日期：２０１２－１１－１６２４机电元件２０１３年以上，并且生产效率提高了两倍之多。因此，可以得１１０℃的封胶是造成合格率底下主要原因，这就是该出结论，ＪＱＸ－１４Ｆ产品之所以感到不好做，是对问厂一直不用单组份工艺封胶的根本原因，也是该厂题产生的原因误判所致，即材料物理特征和相应策１４Ｆ不能用在波峰焊的生产厂家的主要原因。为了略不当导致的。提高合

5、格率，一直采用双组份封胶的工艺。该工艺达到合格率仅为５６％，再想尽办法使其合格率达到3现行工艺８０％。看来，封胶工艺是合格率不高的主要因素。对该产品来说，生产厂家所施加的工艺为：零件该公司也分别寻找了自称污染很小的胶进行对比实制造－－表面处理－－装配－－调试－－时效（机验，但改观不明显。技术条件如加上密封性的水试械、温度）－－检测－－封胶－－气密试验－－成条件，双组份胶不能使用，非单组份胶达不到密封要品验收－－入库。此工艺是继电器生产的标准工求。这已被反复试验和双组份胶的特点所证明，要艺。工艺的程序是对的，为何出现合格

6、率低的问题达到密封性能必须用单组份胶才能达到。呢？一般工艺人员忽视工序的研究，只是照搬标准4．4热变形对产品的配合产生的影响工艺流程。缺乏全工艺流程的适应性研究，不能及经过前两道工序的试验，参数变化不大，为什么时踢出不适应的工艺步骤，并进行工艺步骤优化处经过封胶以后，电器参数变化导致合格率下降？看理，从而导致质量问题长期存在，合格率低下，产品来，问题就发生在封胶之后。这个问题要从双组份不易做的呼声甚啸。现行工艺的产品成品验收后不封胶和单组份封胶两方面进行分析和实验。良品主要表现现象是：接触电阻变大，吸动值变小，ａ．双组

7、份封胶的影响达不到验收标准要求，从而大量报废。由于单组份封胶合格率仅为２８％，该公司长期采用双组份封胶工艺，而此工艺的严重缺陷是：水试4工艺研探和实验过程验１００％不合格。电器参数仅合格５６％。什么原因4．1加大励磁系统的效率呢？经试验分析，是由固化胶在凝固过程（８Ｈ）释放目前，ＪＱＸ－１４Ｆ线圈功率的配置有０．５Ｗ、０．的有机气体对壳内气质的污染。这种气质加重了触７Ｗ和Ｏ．９Ｗ三种。按照最低配置０．５Ｗ进行研探，点表面不导电膜的加厚，导致接触电阻的升高。另先对与磁路有关系的零部件进行精化处理，包括拍外，固化胶在固化过

8、程产生的应力，促使底座和壳体合角度、轭铁刀口角度、工作气隙、线径及动簧进行的挤压变形，这种挤压导致底座变形，破坏了调试后优化处理，并重点在调试工序增加复调工序和热时黄片的相对位置，导致接触压力下降，从而接触电阻效工艺步骤，加大励磁最有效和磁路输出稳定。升高。以上两点是常温封胶在１４Ｆ产品的突出反4．2对外壳底座进行除去有害气体的处