纳米颗粒弥散强化铜基复合材料的显微组织与性能.pdf

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1、第26卷第3期上海工程技术大学学报Vo1．26NO．32012年9月JOuRNAIOFSHANGHAIUNIVERSITY0FENGINEERINGSCIENCESept．2()12文章编号：1009—444X(2012)03—025904纳米颗粒弥散强化铜基复合材料的显微组织与性能付云龙，龚红英，宋克星(1．上海工程技术大学材料工程学院，上海201620；2．河南科技大学材料科学与工程学院，洛阳471003)摘要：采用粉末冶金的方法，以Al0。，SiO。，SiC和MgO等纳米颗粒为增强相，制备出4种不同颗粒的纳米复

2、合材料，研究了各增强相对复合材料显微组织与性能的影响．结果表明：在相同的质量分数(叫)和制备工艺下，不同弥散相颗粒的弥散强化铜合金显微组织不同，铜基体上大体均匀地分布着细小的弥散相颗粒，但部分区域仍存在偏聚现象．4种复合材料的电导率相近，抗拉强度方面Cu／Alo。与Cu／SiO的性能要略好于Cu／SiC与Cu／MgO．关键词：弥散强化；微观组织；抗拉强度；电导率中图分类号：TB333文献标志码：AMicrostructureandPropertiesofDispersionStrengthenedCopperMatr

3、ixCompositesbyNan0particlesFUYunlong1，GONGHongying1。SONGKexing2(1．CollegeofMaterialsEngineering，ShanghaiUniversityofEngineeringScience，Shanghai20l620，China；2．SchoolofMaterialsScienceandEngineering，HenanUniversityofScienceandTechnology，Luoyang47101)3，China)Abstr

4、act：ReinforcedbetweendifferentparticletypeswithA12O3，SiO2，SiCandMgOnanoparticles，fournanocompositeswerepreparedbypowdermetallurgymethod．Effectsofstrengtheningphasesonthemicrostructureandpropertiesofthecompositeswereinvestigated．Theresultshowsthatpreparinginthes

5、amewayandwiththesamemassfraction，microstructuresofdispersionstrengthenedcopperalloyswithdifferentdispersionparticlesaredifferent，minutedispersionparticulatesarerevealeduniformdistributiononthesurfaceofcoppermatrix，andphasesegregationisinvestigatedinpartialregio

6、ns．ElectricalconductivitiesoffourcompositesaresimilarandtensilestrengthpropertiesofCu／A12O3andCu／SiO2arebetterthanCu／SiCandCu／MgO．Keywords：dispersionstrengthening；mierostructure；tensilestrength；electricalconductivity高强度电导铜基复合材料是一类具有优良综的电导性、热导性，又具有较高的强度和优越的高合性能的

7、新型结构功能一体化材料，它既具有优良温性能．工业发达国家早在2()世纪6()年代就开始收稿日期：2()1202—22基金项目：国家自然科学基金资助项目(51075122U1034002)；河南省科技创新杰出青年基金资助项目(094100510()05)；洛阳市科技攻关资助项目(0903041A)；上海工程技术大学研究生科研创新资助项目(A一2503—12一()1K169)作者简介：付云龙(1988一)，男，在读硕士，研究方向为塑件成型过程及优化．Email：fuyunlong0715@126．corn第3期付云龙，等

8、：纳米颗粒弥散强化铜基复合材料的显微组织与性能比较可知：当增强相含量(质量分数，全文同)铜约为98％．为1％时，铜基体中的颗粒分布基本均匀，但仍有分析图3可知：烧结后试样的电导率不高，一定的团聚现象，导致其性能变差．究其原因，纳米Alo，弥散强化铜合金较其他种类的弥散强化铜颗粒比表面积大、表面活性高，很容易团聚，并且它合金的电导率低，主要由于A