高含硫气田元素硫沉积及其腐蚀-论文.pdf

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1、天然气工业2O13年9月高含硫气田元素硫沉积及其腐蚀范舟李洪川刘建仪欧阳旭鲁柳利。1.西南石油大学材料科学与工程学院2.“油气藏地质及开发工程”国家重点实验室·西南石油大学3.中国石油』If庆钻探工程公司地质勘探开发研究院范舟等.高含硫气田元素硫沉积及其腐蚀.天然气工业,2013,33(9):102—109.摘要高含硫气田在开发和维护过程中容易出现硫沉积并l发严重硫腐蚀,由此造成的管道堵塞、管道腐蚀穿孔、设备损毁失效都会严重影响油气田的正常生产。为此,分析了高含硫气田中元素硫的来源:①烃类硫酸盐的热化学反应;②高温高压下Hs的缩聚反应;③硫烷的分解;④离子多硫化物的分解;⑤氧

2、气对Hs的氧化;⑥溶解在液态烃中的元素硫。阐述了硫沉积的发生机理:元素硫能溶解在酸性气体中,主要是溶解在硫化氢中。剖析了硫腐蚀机理:包括以元素硫的水解为基础的催化机理、水解机理、电化学机理和直接反应机理。探讨了硫腐蚀的影响因素:温度、压力、氯离子、硫的存在形式和流速等。最后建议:针对硫沉积区的特殊环境,开展多介质多相混合流体中管线的硫腐蚀机理研究,并建立其腐蚀模型。该研究成果可为高含硫油气田的安全有效开发提供参考。关键词含硫气田元素硫硫沉积硫腐蚀影响因素腐蚀模型D0I:10.3787/j.issn.1000—0976.2013.09.018Theelementalsulfur

3、depositionanditscorrosioninhighsulfurgasfieldsFanZhou,LiHongchuan,LiuJianyi,OuYangXu,LuLiuli。(1.SchoolofMaterialsScienceandEngineering,SouthwestPetroleumUniversity,Chengdu,Sichuan610500,China;2.StateKeyLaboratoryofOil&GasReservoirGeologyandExploitation∥SouthwestPetro—leumUniversity,Chengdu,

4、Sichuan610500,China;3.GeologicalExplorationandDevelopmentResearchInstitute,ChuanqingDrillingEngineeringCo.,Ltd.,CNPC,Chengdu,Sichuan610051,China)NATUR.GASIND.VOIUME33,ISSUE9,pp.102—109,9/25/2013.(ISSN1000—0976;InChinese)Abstract:SulfurdepositionresultinginserioussulfurcorrosioneasilyOccursi

5、nthedevelopmentandproductionofahighsulfurgasfield,andthesevereconsequencessuchaspipeblockage,pipepiecing,damagetoorfailuresofequipments,andsoon,willinevitablyimpedethenormaloperationofthefield.Inviewofthis,theoriginsoftheelementalsulfurinsuchahigh—sulfurgasfieldwerefirstanalyzedasfollows:a.

6、thethermalchemicalreactionamongthehydrocarbonsulfate;b.thepolycondensationofH2Sunderhightemperatureandhighpressure;c.thedecompositionofsulfanes;d.thedecompositionofionpolysulphide;e.theoxidationofH2Sbyoxygen;f.theelementalsulfurdissolvedintheliquidhydrocarbon.Then,themechanismofsulfurdeposi

7、tionwasexplained:theelementalsulfurwilldissolveinsourgases,especiallyintheH2Ssolution.Onthisbasis,themechanismofsulfurcorrosionwasalsoanalyzed,includinghydrolysis—basedcatalyticmechanism,hydrolysismechanism,electrochemistrymechanism,anddirectresponsemech

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