特种设备检验检测 暗室处理技术.pdf

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1、暗室处理是射线照相检测的一道重要工序，被射线曝光的带有潜影的胶片经过暗室处理后变为带有可见影像的底片。底片质量的好坏与暗室工作的技术水平以及操作正确与否密切相关。暗室处理分为手工处理和自动洗片机处理。暗室布置知识1、足够的空间，不宜过小、过窄。2、暗室应分干区、湿区。干区：摆放胶片、暗袋、增感屏等器材并用来装片、切片湿区：显影、定影、水洗、干燥等操作3、器材摆放位置合理，易于操作。4、暗室要完全遮光，进口处设过渡区或双重门。5、暗室附近如有射线源，应注意屏蔽。6、暗室应有通风换气设备和排水系统以及温湿度控制设施。7、地面及工作台应保持干燥、清洁

2、。Ø补充：Ø墙面：为绿色或褐色，防止反射光过强。天花板和墙壁上部为白色或浅黄色，可以反射安全光线，起到间接照明作用，墙壁做防腐蚀处理。Ø传片窗：便于传递暗盒。机房侧的箱门要有防X线措施。Ø窗：两层内层：遮光窗，常为百叶窗，内设窗帘。外层：普通玻璃窗。手工冲洗的暗室简图如下:暗室常用器材有安全灯、温度计、天平、洗片槽、烘干箱等。有的配备自动洗片机。1、安全灯--用于胶片冲洗过程中的照明不同种类胶片具有不同的感光波长范围。工业用射线胶片对可见光的蓝色部分最敏感，对红色和橙色不敏感。因此用于射线胶片处理的安全灯一般采用暗红色和暗橙色。安全灯的测试：2

3、0×100mm未感光胶片条，分阶段照射20mm/次，1min/次共5次，冲洗后观察，无明显差别为安全。2、温度计--用于配液和显影操作时测量药液温度量程大于50℃，刻度为1℃或0．5℃的酒精玻璃温度计，也可使用半导体温度计。（温度计需要校准）3、天平--用于配液时称量药品可采用称量精度为0．1g的托盘天平。天平使用后应及时清洁，以防腐蚀造成称量失准。（砝码需要校准）胶片手工处理可分为盘式和槽式两种方式，其中盘式处理易产生伪缺陷，所以目前多采用槽式处理。洗片槽用不锈钢或塑料制成，其深度应超过底片长度20％以上，使用时应将药液装满槽，并随时用盖将槽盖好

4、，以减少药液氧化。槽应定期清洗，保持清洁。配液注意事项1、容器使用玻璃、搪瓷、不锈钢或塑料制品，切忌使用铜、铁、铝制品，因铜、铁等金属离子对显影剂的氧化有催化作用。2、配液使用蒸馏水、去离子水、煮沸后冷却水或自来水。井水及河水应降低硬度后使用。3、配置显影液水温一般在30～50℃，温度不宜太高，太高会促使某些药品氧化，太低有些药品不易溶解。配置定影液水温可升至60～70℃，因硫代硫酸钠溶解会吸收大量热量。配液注意事项4、配液时应按配方的规定次序进行，不可改变或颠倒顺序。显影药液配置时，由于米吐尔不能溶于亚硫酸钠溶液，因此应先加入，然后加入亚硫酸钠

5、，其他药品都应在亚硫酸钠后加入。定影液配置时，亚硫酸钠必须在加酸前溶解以防止硫代硫酸钠分解；硫酸铝钾必须在加酸后溶解，以防止水解产生氢氧化铝沉淀。5、配液时应不停的搅拌，以加速溶解。搅拌应沿一个方向进行。6、配液时宜先取总体积的3/4的水量，待全部药品溶解后再加水至所要求体积，配置好的药液应静置24小时后使用。胶片处理程序：胶片手工处理分为显影、停显、定影、水洗、干燥五个步骤。胶片处理的操作要点1、显影温度对底片质量影响很大，必须严格控制。2、胶片放入显影液前应在清水中预浸一下，以避免显影不均匀。3、显影时的搅动：最初30s不间断搅动，以后每隔30

6、s搅动一次。4、停显时应不间断搅动。5、停显温度最好与显影温度相同。停显温度过高会导致“网纹”、“褶皱”等缺陷。6、定影时间应为通透时间的2倍。通透时间指胶片放入定影液开始到乳剂的乳白色消失为止的时间。7、水洗应使用清洁的流水飘洗，水洗不充分的底片长期保存后会发生变色现象。胶片处理的操作要点8、水洗水温应适当控制，水温高时水洗效率也高，但药膜高度膨胀易产生划伤、药膜脱落等缺陷。9、底片干燥应选择没有灰尘的地方进行，因为湿底片极易吸附空气中的尘埃。10、热风干燥能缩短干燥时间，但如温度过高易产生干燥不均的条纹。11、水洗后的底片表面附有许多水滴，如不

7、除去会因干燥不均产生水迹，可用湿海绵擦去水滴，或浸入脱水剂溶液，使水从底片表面快速流尽。胶片处理的操作要点如图所示：胶片系统：胶片、增感屏和冲洗条件。胶片处理条件：包括胶片处理的药液配方、处理程序、工艺参数、场地器材等条件。控制胶片处理条件的方法：采用参考值法。即，由胶片制造商提供“预先曝光的胶片测试片”，用户以本单位的处理设备、化学处理剂和方法冲洗测试片，测出灰雾限制D0、速度系数SX、对比度系数CX，与胶片制造商提供的鉴定证书进行比较。显影液组成：显影剂、保护剂、促进剂和抑制剂四种成分，有时还加入坚膜剂和水质净化剂。1.显影剂的作用：将已感光

8、的卤化银还原为金属银，常用的显影剂有米吐尔、菲尼酮、对苯二酚。①米吐尔－易溶于水，不易溶于亚硫酸钠溶液，因此