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1、第34卷第3期真空科学与技术学报2014年3月CHINESEJOURNALOFVACUUMSCIENCEANDTECHNOLOGY不同调制比NbSiN/VN多层膜微观结构、力学和摩擦性能研究鞠洪博喻利花许俊华(江苏科技大学先进焊接技术江苏省重点实验室镇江212003)SynthesisandCharacterizationofMicrostructuresandMechanicalPropertiesofNbSiN/VNMultilayerFilmsjuHongbo,YuLihua,XuJunhua(KeylaboratoryofAdvancedWeldingTechn
2、ologyofJiangsuProvince,JiangsuUniversityofScienceandTechnology,删212003,Ch/na)AbstractTheNbSiN/VNmulti—layerfilmsweredepositedbymulti—target,unbalancedreactivemagnetronsputter—ing.Theimpactsofthegrowthconditionsonthemicmstructuresandmechanicalpropertieswereevaluated.TheNbSiN/VNmulti—layer
3、filmswerecharacterizedwithX-mydifraction,scanningelectronmicroscopy,energydispersivespec—troscopy,andconventionalsurfaceprobes.Theresultsshowthatthefcc—andhcp—phasecoexisted,andthatthemodulationratioconsiderablyafectsthephase—structureandmechanicalpropertiesoftheNbSiN/VNmulti-layerfilms.
4、Forinstance,grownataratiorangingfrom5:1to5:3(1~3BillthickVNlayer),thefcc—phasedNbSiN/VNfilmswithaVN(1lO)pm—ferredgrowthorientationwereobserved,andatamtiorangingfrom5:5to5:10(5—10BinthickVNlayer),山ehcp—phasedNbSiN/VNfilmswithaNbSiN(101)preferentialgrowthorientationwereobserved.Moreover,as
5、theVNthicknessin—creased,thefrictioncoeficiemoftheNbSiN/VNfflmsagainstthe03surfacesdroppedalittleandthenbecameacon—stant;anditsmicro—hardnessalsodecreased.KeywordsRFreactivemagnetronsputtering,NbSiN/VNmulti—layersfilms,Miemstructure,Hardness,Frictionproperty摘要采用多靶共焦射频磁控溅射制备不同调制比的NbSiN/VN
6、多层膜。利用x射线衍射、扫描电镜、能量色散谱、纳米压痕仪及摩擦试验机对薄膜的成分、相结构、力学及摩擦性能进行分析。结果表明,NKSiN/VN多层膜为fcc与hcp混合结构,NbSiN/VN多层膜的显微硬度随VN调制层厚度的增加而逐渐降低,室温条件下,以Al203为摩擦副的NKSiN/VN多层膜平均摩擦系数受调制比影响显著,随VN层厚度的增加,多层膜平均摩擦系数先降低后保持稳定。关键词射频磁控溅射NbSiN/VN多层膜相结构力学性能平均摩擦系数中图分类号:TG174.444文献标识码:Adoi:10.3~9/j.ism.1672—7126.2014.03.09过渡族金属氮
7、化物薄膜现已被广泛的应用在诸有效手段l_1,4J,例如TM.X—N薄膜(卟I表示过渡族金如刀具加工等工业领域。但是,随着工业加工技术属,x表示、si等元素)能够体现出比TMN更为优的迅猛发展,对刀具薄膜提出了更高的性能要求(这异的力学和热稳定性能。Veprek等l_5]报道称TiSiN些性能如高速高温、高精度、高可靠性、长寿命等)。薄膜有着比金刚石更为优异的力学性能,其硬度可因此,如何提升薄膜材料的上述性能是摆在国内外以高达80~105GPa。从而引发了国内外学者研究科学家和工程师面前的一个严峻挑战llI3]。TM.Si.N体系的热潮。尽
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