龙岗礁滩气藏气井垢污分析及堵塞机理研究-论文.pdf

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1、。o，ILANDGASFIELDDEVELO靴PMEN期TfI油涠号亏田开发反il49龙岗礁滩气藏气井垢污分析及堵塞机理研究董正亮’，陈大钧侯绪林。刘丹宇。冯丹阳1．西南石油大学化学化工学院，四川成都610500；2．四川盐业地质钻井大队，四川自贡643000；3，西南油气田川中油气矿，~q)ll遂宁629000摘要：针对四川盆地龙岗礁滩气藏在气井开发后期出现大量黑色固体和膏状垢污堵塞管串和储层，造成气井产量和压力急剧降低、酸化有效期缩短的现状，开展了堵塞机理分析。在堵塞物成分分析的基础上，结合XRD衍射仪分析，通过扫描电镜的微观形貌分析观察垢污组分之间的结合关系和组合状态，找出井

2、下固体颗粒、残酸、油溶性外加剂和铁元素是影响堵塞物的主要因素。在模拟井况条件下对上述因素进行控制变量分析，以研究各因素对堵塞物形成的主要作用，探明该类气井的堵塞机理，即在高温高压条件下，入井液中油溶性组分与井下沉积的炭黑和硫等固体颗粒通过乳化、吸附作用形成高黏乳状液，同时残酸等入井液外加剂的高分子聚合物通过架桥吸附作用捕获井下固体颗粒形成凝胶体，二者综合作用使得井下出现大量黑色胶状堵塞物，并据此提出垢污防治建议。关键词：龙岗礁滩气藏；堵塞机理；模拟井况；微观形貌D01：10．3969／j．issn．1006—5539．2014．02．014O前言得出堵塞物的主要化学成分含有较多矿物

3、油、脂肪酸近年来，我国四川盆地一些气矿部分气井堵塞日益严及其酯类物质、硅油、酰胺类聚合物等有机组分，并重，尤其在气井开发中后期，井下管串普遍存在不同程度含有炭黑、单质硫、硫化亚铁、二硫化亚铁、二氧化的结垢现象，垢污形态多为白色或黑色的固体或膏状物，硅、矿物盐等无机组分。有机组分中，矿物油主要来影响气井正常生产和修井作业EI-2]。龙岗礁滩气藏属高自入井液，如工作液中油溶性缓蚀剂CT2—19、解堵剂温、高压、高含硫气藏，目前已有部分气井出现了不同程CT4—12A等，其中解堵剂CT4—12A主要成分即为烃类度的堵塞，井下管串中存在大量黑色黏稠糊状垢污，在龙油，且向地层注入量较大；脂肪酸

4、及其酯类物质主要来岗001—1井、龙岗001—3井和龙岗001—8—1等井都出现了自缓蚀剂CT2—19、CT2—19B和胶凝剂CT2—4等外加剂测压遇阻并带出黑色黏稠糊状垢污的问题，气井产量、中酰胺类化合物在高温下的分解产物，此外，解堵剂压力快速下降，酸化解堵有效期缩短。针对川中油气矿CT4—12A也含有少量脂肪酸及其酯类物质；硅油主要龙岗礁滩气藏的堵塞现状，结合堵塞物成分、形貌分析，来自消泡剂FG一2A；酰胺类聚合物主要来自缓蚀剂和采用井下模拟分析的方法，展开龙岗礁滩气藏堵塞机理胶凝剂。无机组分几乎均含有炭黑，它主要来自地层研究，为解决该类堵塞问题提供思路与方法。沥青等重油或重烃

5、的分解；单质硫主要来自井底硫沉积；硫化亚铁和二硫化亚铁主要来自含铁矿物黄铁矿1堵塞物主要成分与微观形貌分析的酸溶蚀和井下管线腐蚀的产物及其高温高压条件下的通过红外光谱、气相色谱、光电子能谱等分析手段次生物；二氧化硅为地层颗粒物；矿物盐主要为硅酸盐、收稿日期：2013—05—20作者简介：董正亮(1985一)，男，湖北黄冈人，硕士研究生，主要从事井下工作液研究。64ll2o14年4月原因是：解堵剂选择不当，解堵时间不适宜，作业方法5Anti—CorrosiveAgentinSourGasFieldlJJ．Natural[Gas不恰当，加注途径不正确。andOil，2011，29(4)

6、：65—67．c)若要使有机解堵工艺在沙坪场气田推广应用，[3]李相云．重庆气矿天东26并有机解堵完工总结报告[R]．需注意选择适合的解堵剂，并结合气井井身结构和人井成都：孚吉科技有限责任公司，2008．液加注年限，以选择合适的解堵方式和加注途径。LiXiangyun．OrganicRemovingBlockagesReportofTiandong26WellinChongqingGasfieldlR]．Chegndu：FujiScienceandTechnologyLtd．，2008．[4]李相云．重庆气矿天东92井有机解堵完工总结报告[R]．参考文献：成都：孚吉科技有限责任公司

7、，2008．[1]周静，范小松，戚杰．解除气井有机沉积物堵塞用的LiXiangyun．OrganicRemovingBlockagesReportof解堵剂JD-3[J]．油田化学，2002，19(4)：309-310．Tiandong92WellinChongqingGasfieldlRJ．Che~ldu：ZhouJing，FanXiaosong，QiJie．BlockageRelievingAgentfujiScienceandTechnologyLtd．，200