高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf

高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf

ID:53742356

大小:1.31 MB

页数:6页

时间:2020-04-22

高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf_第1页
高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf_第2页
高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf_第3页
高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf_第4页
高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf_第5页
资源描述:

《高Al组分AlGaN材料优化生长与组分研究-论文.pdf》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在应用文档-天天文库

1、电子·激光第23卷第9期2012年9月JournalofOptoelectronics·LaserVo1.23No.9September2012高组分AIGaN材料优化生长与组分研究冯雷,韩军,邢艳辉,邓旭光,汪加兴,范亚明,张宝顺。(1.北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京100124;2.中科院苏州纳米技术与纳米仿生研究所,江苏苏州215123)摘要:研究了金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)系统外延高Al组分较厚A1GaN薄膜材料的生长技术。实验发现,A1GaN/GaN结构中的A1GaN

2、材料的相分离现象可能是由于过低的生长V/Ill以及材料所受的张应力状态所致,而V/III过高时则会出现A1源的并人效率饱和。采用A1N过渡层技术,外延生长了表面无裂纹的45AI组分较厚(1O0~200nm)A1GaN薄膜材料。所得材料的Al组分与气相Al组分相同,(0002)面x射线衍射(XRD)双晶摇摆曲线半高宽(FWHM)为376arcsec,并发现A1N过渡层的质量影响着其上AIGaN材料的A1组分与晶体质量。实验观察到A1GaN材料的表面形貌随着样品中A1组分的增加从微坑主导模式逐步转变为微裂

3、主导模式,采用AlN过渡层可延缓这一转变。关键词:A1GaN;金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD);相分离;表面形貌;Al组分中图分类号:TN304.2文献标识码:A文章编号:1005—0086(2012)09—1754—06OptimizedgrowthandcompositioninvestigationofAIGaNmateri-als、)’,ithhigllAlcompositionFENGLei,HANJun1,XINGYan-hui,DENGXu-guang,WANGJia-xing,

4、FANYa-ming2,ZHANGBao-shun2(1_CollegeofElectronicInformationandControlEngineering,BeijingUniversityofTechnology,Beijing100124。China;2.SuzhouInstituteofNano-TechandNano-Bionics,ChineseAcademyofSciences,Suzhou215123,China)A~tract:ThegrowthtechnologyofAlGaN

5、filmwithhighA1compositionandlargethicknessisinvesti—gated.ThephaseseparationofA1GaNinA1GaN/GaNstructuremaybeduetothetoolowgrowthofV/IIandthetensilestress.Meanwhile,withultra-highV/III,theA1incorporationratecanbesaturated.ByadoptingA1Ninterlayer,no-crack

6、andthickAIGaNmaterialswith45A1compositionaregrown.TheA1compositionofthissampleisthesameasthatingasphaseandthewidthofhalfheightoftherockingcurveof(0002)planeis376”.ItisfOundthatA1compositionandcrystalqualityoftheA1GaNfilmareinfluencedbythequalityofAlNint

7、erlayer.ItisalsoseenthatastheA1compositionincreases.themot—phologyofA1GaNmaterialschangesfrommicropitmodetomicrocrackmode,whichcanberetardedbytheAlNinterlayer.Keywords:A1GaN;metal-organicchemicalvapordeposition;phaseseparation;surfacemorphology;A1compos

8、ition关注。随着GaN系材料外延生长设备、生长技术1引言以及工艺水平的发展与提高,多种基于A1GaInNⅢ族氮化物材料因其为宽禁带直接带隙半导材料体系的器件,如蓝光发光二极管(LED)、激光体,具有很高的电子饱和速率以及热导率,而受人器(LD)以及高电子迁移率晶体管(HEMT)已经*E-mail:ha~un@bjut.edu.cn收稿日期:2012—02—09修订日期:2012—05—30基金项目:国家自然科学基金(61006084)和北京市自然科学

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。