隔热膜工艺参数的优化

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1、差所对应的时间间隔为△一一开关电源特性改进的途径,、〕、‘,,二因此与相差均为提高输入级单相整流桥及滤波电容的耐压值,,它们的基频最大波宽为因而三个电流迭加调整开关变压器的变比及其它电路参数使开关电,其结合成只有很小部分重合相加减果至少在很少源可直接由线电压有效值供电而正常工,,。的重合部分产生抵消而主要部分彼此独立互不干作在工程中采用不需地线的三角形接法在工程中。。人、,扰因此地线中的总电流》实际上所需电源的数量较大往往不能保证三对线,甲。甲。,,且总有关系间安装的开关电源数量一样多造成负载不平衡各因,,。此对于存在阐值电压的用

2、电器在星形接法线电流不一样大,,,,,中即使三相负载平衡地线中电流也不为零域值采用每台电源均为三角形接法输入不要地线越高,地线电流相对越大这是最为直接的途径。通过使用三相整流桥,高耐压,,造成电流频率变高的原因电解电容使用大电流高耐压的开关管并对原电路由前。,面讨论的开关电源工作原理及其电路要求作一系列的调整便可实现目前该原理实验已通,,要,,可知为了保证输出直流电压的稳定求输入级的过可直接用三相交流输入电源输出电压输入交流电经整流滤波后的电压保持相直流电压,电流可达。但目前的改进还是初步,,、对的稳定交流电的电压必须在高于某一阂

3、值即的要达到实用还需在工艺和电路元件等方面作进,,后才能将电流输入开关电源而开关电源白身的一步改进和调整。功率限制千瓦级以下又决定了阐值较高在开关电源输入级采用有源补偿技术。该方案以上,,,因此输入电流的波形较窄造成了输入电流的主要思想是在整流以后的初级电级不加大电容“”,,,的频率被提高在工程中采用形接法时电线中器滤波而采用一些有源补偿电路使,因对应三相的电流不能同时互相抵消而地线中电的交流电在零附近便开始对开关电源的初级输入电。,,流的有效值较大反过来这给我们一个重要的提流整流整流后的直流电具有从零值到峰值的大幅示,,则,若在

4、工程中继续采用现有的开关电源地线的度变化经有源补偿电路后变成较稳定的二级直流,截面积必须为相线的三倍以上才能确保供电线路的电供给后面的电路进行处理最后向外输出稳定的,。。,,安全且地线必须搭接良好低压直流电目前国内外对这方面展开了研究但都尚未有结果。隔热膜工艺参数的优化曾长义王贵义杨作贵雷林春石刚关键词隔热膜卷绕式磁控溅射,、、本文所讲的隔热膜主要用于建筑玻璃可方便需要优化的参数主要有抽气速度本底真空,、、,、、、二、地贴于玻璃表面起到隔热透光防爆节能的作用工作真空工作电流走膜速度靶表面的而且成本低廉。克服了传统镀膜玻璃成本高,不

5、防爆磁场强度。而需要解决的问题如下。。,的缺点真空问题在初期的实验中我们遇到了真,,隔热膜生产装置是利用闲置镀膜设备改造而成空问题即镀膜一开始真空就迅速下降而且走膜速,,,,。的主要改进了溅射靶添加了能以恒定线速度镀膜度越大真空下降越快直至熄弧我们认为这是膜。,,的卷绕机构的放气所致放气原因主要有二个问题一是膜在被在实验中存在着真空、磁场、镀层厚度等问题需镀时由于温升等原因放气二是膜层间所夹气体随。,,。,要解决并且需要优化隔热膜工艺参数为此我们走膜而放出我们首先想到增加抽气速率但由于设。,只·一’,进行了一系列实验备所限能增加至

6、尚不能使平衡膜©1994-2008ChinaAcademicJournalElectronicPublishingHouse.Allrightsreserved.http://www.cnki.net。,在工作中的放气于是我们采用了在真空室内放置与卫生工程研究所测试测试结果表明其性能优于,。。屏蔽罩屏蔽一部分受镀面积的方法减少放气实践美国公司的同类产品·一‘证明采用这种方法能在走膜速度小于的情况下维持相对稳定的工作真空。。左磁场问题对初期实验样品的检测我们发现左,——其在水平方向的镀层均匀性较差两端镀层较中问那,。一明显偏薄即膜两

7、端的沉积速率偏低解决的方法有刀一一二种一是改变磁场位形增加靶两端的溅射速率磁。,场位形改变前后的示意图见图二是增加靶长使,一靶的两端进一步向外延伸让膜置于靶中段即粒子流较集中和均匀的范围,由于受真空室尺寸的局限,一靶的加长余地不多。实践证明同时采用这两种方法能使镀层均匀性达到要求。镀层厚度问题。镀层偏厚会影响膜的透光性,。能而偏薄又会影响隔热性能镀层厚度在走膜速度万及磁场参数确定后主要由工作电流决定。而工作一厂二一一一夕认一一二、一电压应保持在方能维持所需的异常辉二。,光放电经过一段时间的实验我们发现工作电流在一之间可以得到镀层厚

8、度适中的合格膜经过一年时间的实验、探索和优化,我们已得到·一’,一组较成功的参数又一,一一’,,一火·一‘,一‘。图改变前磁场位形一一一一示意图改变后磁场位形,,示意图年月日在优化后的参数下镀膜取样,送成都西物所检测结果如下紫外光透射率小于,,,在