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时间:2017-12-08
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1、洁净与空谪技术CC&AC第4期半导体工厂废水氨氮处理的运行控制和工艺优化上海华虹一NEC电子有限公司动力部曹军华摘要介绍生化法对半导体工厂废水中的氨氮进行处理的系统,主要对运行控制进行重点探讨,且对工艺优化提出初步设想。关键词氨氮排水;生化系统;硝化;脱氮;活性污泥法;溶解氧TheOperationControlandProcessOptimizationofAmmonia-NitrogenTreatmentforWasteWaterfromSemiconductorFactoryCaoJunhuaAbstractThebiochemictechniquewasexpl~n
2、edfortreatmentinwastewaterammoniaandnitrogenfromsemiconductorfactory,emphasizedonprobeofoperationcontrol,withprimaryideasonprocessoptimization.KeywordsAmmonia—nitrogenwastewater;Biochemicaltreatment;Nitration;Nitrogen;Activatedsludgeprocess;Dis—solvedoxygen0引言亚硝化反应:Mj+1.5O2i+2H+20半导体芯片制造一般
3、都有较高浓度的氨氮废水硝化反应:2+o.5Q2NO;排放;这些废水如不加以控制地排放,排水中的氨硝化总反应:NH:+2D2—岈+2H+H20氮会使水体产生富营养化,使藻类大量繁殖,这些反硝化反应:2~oi+3HⅣ2个+2H2O+20H一藻类消耗了大量的溶解氧,并产生腥臭和有毒有害2NO;+10H个O+20H一物质,从而造成河流中鱼虾的灭绝。由于藻类的大从以上的反应式可以看出,硝化反应需在好量繁殖和死亡,后续还会造成湖泊水体的沼泽化,氧的环境下进行,而反硝化反应需在厌氧的环境中其至退化,使人类可资利用的淡水资源减少。囚此进行。做好半导体芯片工厂的氨氮废水处理意义重大。比较典型
4、的半导体芯片工厂氨氮废水处理流程排水处理系统的前期设计固然重要,而维持如图1所示,处理系统中各单位设备或构筑物功能系统的长久活力,并加以优化改善,稳定运行,节和特点主要如下所述:能降耗,更需要技术人员长期的关注和思考。目前在工程中主要的氨氮废水处理方法为吹脱法和生化法。本文仅就生化处理氨氮排水的运行控制管理和系统优化进行探讨。1生化法处理氨氮拿的工艺系统生化法处理氨氮,主要由硝化和反硝化(脱图1氨氮废水处理流程示意氮)两个过程组成,反应方程式如下:’(1)脱氮池与传统氨氮生物处理系统相比,曹军华,男,1975年7月生,人学本科,T程师由于半导体芯片工厂的氨氮废水中一般含有较
5、高201206上海市浦东新区金桥出口加工区川桥路1188号浓度的硝酸根【NO;】,因此一般会在流程始端设13817167517置脱氮槽首先进行脱氮处理,以降低后续硝化池的E—mail:caojunhua@hhnec.tomNO;一Ⅳ负荷。原水和返回的循环污泥在脱氮池的收稿日期:2O13—04—262013年入口处进入,并同时补充碳源和磷源。与后端的的N,从泥水混合液中充分吹脱出来。避免后端生硝化池相比脱氮池密闭性好,池顶除了少数几个管物沉淀池的污泥膨胀现象。为充足的曝气是这里唯道接口外基本全封闭避免空气与液体的接触,维持一需要考虑的,再曝气池无药剂添加、无污泥循脱氮槽的厌氧
6、环境。环。脱氮池还安装有搅拌机,对原水,污泥,药(5)生物沉淀池可囚地制宜设计为方形或圆剂等进行充分混合。搅拌机需设置减速器降低到较形,与传统生化处理系统相比无需有太大变化。小的转速,一般维持在10rpm以内,这样可以在安置刮泥机用来将池底的淤泥进行平整,并不断汇确保混合质量的基础上,避免空气的卷入。脱氮池流到中央的集泥坑。值得运行管理人员关注的是对内的溶解氧应维持在0.5ppm以内。应的排泥泵,在排泥泵的出口设置两路管道,将污(2)硝化池是氨氮处理的主要单元,硝酸菌泥分别排到系统初始端和排泥侧,并通过自动阀门和亚硝酸菌在此繁衍生存,硝化反应在池中不断进控制,这样不仅能节省
7、投资,降低运行费用,同时行。硝化池构造上与传统推流式的曝气池相似,但也便于管理。除了设置在线式DO计之外,还必须安装在线式pH尽管有前端再曝气池的保护,但是即使在氨计。由于硝化反应会不断降低硝化池内的pH值,氮去除率没有任何问题的情况下,有时在曝气池仍为维持活性需始终保持pH的监测,并应自动控制会出现浮泥和污泥膨胀现象。污泥膨胀确实是让运注入碱来维持pH值。碱注入点设置在硝化池的始行管理人员困扰的问题,有时它只是引起视觉上的端较好,而pH计安装在靠近硝化池行程的中间部位不快,从数据上分析对处理质量没有任何影响。诱较
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