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时间:2020-04-14
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1、CMOS工艺器件结构CMOS工艺中常用的元器件MOSFET(hvorlv)PMOSNMOSNMOS_dnwNMOS_nativeRESISTORCAPACITANCEDIODEBIPOLARINDUCTOR一、MOSFETNmos版图Nmos剖面图NMOSFET版图和结构一、MOSFETNmos_na版图Nmos_na剖面图NMOS_NA版图和结构一、MOSFETNmos_dnw版图Nmos_dnw剖面图NMOS_dnw版图和结构一、MOSFETPmos版图Pmos剖面图PMOSFET版图和结构二、RESISTORPolyresistor版图Polyresistor剖面图
2、Polyresistor版图和结构二、RESISTORnwellresistor版图nwellresistor剖面图nwellresistor版图和结构二、RESISTOR普通polyresistor版图扩散电阻版图Othersresistor版图和结构三、CAPACITANCEMIMcap版图MIM版图和结构三、CAPACITANCEMOMcap版图MOM版图和结构三、CAPACITANCEVARcap版图VARACTOR版图和结构VARcap剖面图三、CAPACITANCEMOS管做电容示意图MOSCAP版图和结构四、DIODEDIODE版图PSD/NWELL版图和结
3、构DIODE剖面图四、DIODEDIODE版图PSD/NWELL版图和结构DIODE剖面图五、BIPOLAR(BJT)横向BJT(pnp)版图和结构DIODE版图及对应剖面图六、INDUCTORINDUCTOR版图和结构INDUCTOR版图目前基本能用到的都是metal做的inductor,务必选用PDK中cell,切勿修改。谢谢!
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