多晶铸锭方坩埚喷涂及烧结-作业关键过程CTQ.docx

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1、多晶铸锭方坩埚喷涂及烧结作业关键过程CTQ一、工序说明本工序是在坩埚内壁涂上氮化硅并烧结使粉状氮化硅形成致密层，防止高温下硅料和坩埚（SiO2）发生反应，增强氮化硅在坩埚上的附着力。形成的致密层抗冷热的冲击能力非常强，有效的转移铸锭工艺过程产生的热应力。最后卸锭时方便坩埚的脱落。烧结是使材料获得预期的显微结构以使材料性能充分发挥的关键工序。二、工艺流程图领取坩埚坩埚检查坩埚就位涂料准备喷枪准备涂层检验坩埚喷涂坩埚烧结三、所用设备序号设备类型名称型号备注1主坩埚旋转加热器陕西咸阳华光HGZ-112主坩埚烘箱陕西咸阳华光HGZ-12-123主喷枪SATA4主气枪Prevost5主电子天平称0.0

2、1g天津德安特6主点温计Nicety7主强力搅拌机JB-300上海标马8辅运输小车飞腾不锈钢四、工艺原辅料序号分类名称描述1主坩埚长、宽：873-882mm高：415-420mm底部壁厚：18.5-22.5mm侧壁厚：14.5-18.5mm2主氮化硅0.375kg/个3辅纯水1600ml/个4辅塑料桶5辅磨石6辅量筒5000ml/3000ml7辅瓷勺8辅铁夹9辅细沙网80目10辅百洁布11辅壁纸刀12辅烧杯13检测工具盒尺5m14检测工具钢尺1m15检测工具电筒强力电光筒五、环境标准温度：20-27℃相对湿度：小于50%六、工艺控制点序号控制点标准检测方法备注1喷涂前坩埚清洁个人防护必须穿防

3、护服，戴过滤面罩和橡胶手套目视防止人体吸入氮化硅粉尘清除粉尘用专用气枪压力在20-30psi对坩埚均匀地吹洗，吹洗高度为5-15cm无粉尘及无洁物污染坩埚清除不洁物用磨石将合格范围内的凹凸打磨掉，用百洁布擦拭脏污洁净的压缩空气必须经除水和除油的干净和干燥的吹洗坩埚前先吹洗纸板2坩埚外包装包装箱方形纸箱，完好无破损，没有被浸泡过目视按原材料标准检验防震标示剂未出现红色包装箱内防震防震纸板没有破损3坩埚外观石英坩埚内外表面清洁度无沾污目视不能清洁干净的退库处理坩埚内外裂纹不允许有任何裂纹目视、千分表测量、无水乙醇不符合外观标准的退库处理外表面四壁和底部瑕疵不能大于3mm宽，2mm深。直径1-4m

4、m，深度1-2mm的小孔个数不能超过5个坩埚内表面无肉眼可见直径大于2mm的黑点不允许有开放的气泡和因气泡造成凸出的点不得有任何孔洞和气泡和凹痕等缺损4坩埚喷涂喷涂一个坩埚氮化硅与DI水配比为375g：1600ml电子称称量、量筒、点温计生产员工严格按喷涂标准操作搅拌时间电流4档高速搅拌10min，电流3档低速搅拌10min，喷涂中保持中低速搅拌喷涂时喷枪与坩埚距离为25-30cm，喷枪压力为20-30psi,喷枪与坩埚喷涂面角度90±20°喷涂前坩埚预热20-30min，喷涂使用德国氮化硅要求喷涂时温度为55-70℃，日本氮化硅温度要求45-60℃。喷涂时长50-70min5坩埚烧结烘箱内

5、坩埚之间间距3-5cm直角尺测量、温度表烧结工艺未经工艺工程师许可不得随意更改升温阶段升温约8小时，达到最高温度1095℃恒温阶段保持1095度恒温约3小时冷却阶段关闭加热器，随炉冷却，当温度下降到350℃以下时，可打开炉腔，冷却时间为约25小时坩埚烘箱升起温度350℃烧结后坩埚不产生裂纹，不产生析晶白点目视产生裂纹的禁止使用6氮化硅包装包装桶无变形、破损、开封，塑料密封袋无损坏、破裂目视参考原材料检验标准颜色白色气味略带氨水气味闻形状颗粒粉末，无结块目视纯度≥98%参考厂家技术标准七、半成品标准涂层均匀，显示淡黄色，无明显的颜色变化，无白点、白片，无气泡，无脱落及爆皮现象，无裂纹。八、目前

6、运行工艺氮化硅375gDI水1600ml喷涂前高速搅拌10min喷涂前低速搅拌10min喷涂中低速搅拌持续搅拌滤网80目喷枪与干锅内壁距离25-30cm喷枪压力20-30psi喷涂温度（日本氮化硅）45-60℃喷涂温度（德国氮化硅）55-70℃干锅预热20-30min喷涂时长50-70min清洗后坩埚保持加热100℃，一小时以上第一步温度及时间235℃/一小时第二步温度及时间368℃/一小时第三步温度及时间501℃/一小时第四步温度及时间634℃/一小时第五步温度及时间767℃/一小时第六步温度及时间900℃/一小时第七步温度及时间1000℃/一小时第八步温度及时间1095℃/一小时第九步温

7、度及时间1095℃/保温三小时第十步温度及时间0℃/15min升起烘箱温度350℃搬运：俩人戴手套、双手托底搬运，避免磕碰。