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1、名稱：&(Y)三氧化二銘(Y2O3)使用電子槍蒸鍍，該材料性能隨膜厚而變化，在500nm時折射率在約為1・8。川作鋁保護膜其極受歡迎，特別相對於SOOOnm—12000nm區域高入射角而言。可用作眼鏡保護膜，且24小時暴露在濕氣中。--般為顆粒狀和片狀。透光範圍(nm)N(500nm)蒸發溫度(°C)蒸發源應川蒸汽成份250-80001.792300-2500電子槍防反膜名稱：二氧化鋪(CeO2使川高密度的錨舟皿(較早使川)蒸發，在200°C的基板上蒸著二氧化鋪，得到一個約為2.2的折射率，在大約3()()0nm有一吸收帶其折射率隨基板溫度的變化而發生顯著變化，在300
2、°C基板上500nm區域n=2.45,在波長短過400nm時有吸收，傳統方法蒸發缺乏緊密性，用氧離子助鍍可取得n=2.3(550nm)的低吸收性薄膜。一般為顆粒狀。還可用於增透膜和濾光片等。由于其热辐射较少，在PMMA上镀膜可以优先该材料做为高折射率材料.透光範圍(nm)N(500nm)蒸發溫度(°C)蒸發源應用雜氣排放量400-16000235約2000電子槍增透膜多名稱：氧化鎂(MgO)必須使用電子槍蒸發因該材料昇華，堅硬耐久且有良好的紫外線(UV)穿透性。250nmn=L86,190nmn=2.06,166nm時K值為0.1,n=2.65,可能川作紫外線薄膜材料。
3、Mg/MgF2膜堆從200nm—400nm區域透過性良好，但膜層被限制在60層以內(由於膜應力)500nm時環境溫度基板上得到n=1-70,而在30(TC基板上得到n二1・74。由於大氣CO2的干擾，MgO暴露表面形成一模糊的淺藍的散射表層，可成功使用傳統的MHL折射率3層AR膜(MgO/CeO2/MgF2)。名稱：硫化鋅(ZnS)折射率2.35,400—13000的透光範圍八具有良好的應力和良好的環境耐久性，ZnS在高溫蒸著時極易昇華，這樣在需要的膜層附著之前它先在基板上形成一無吸附性膜層，因此需要徹底清爐並且在最高溫度下烘乾，花數小時才能把鋅的不良效只消除。Hass
4、等人稱紫外線(UV)對ZnS有較大影響，由於紫外線在大氣中導致15—20nm厚的硫化鋅膜層完全轉變成氧化鋅(ZnO)。透光範圍(nm)N(550nm)蒸發溫度(°C)蒸發源應用方式400-140002451000-1100電子槍鉗鉅舟昇華應用：分光膜，泠光膜，裝飾膜，濾光片，高反膜，紅外膜，据国内光学厂资深老工程师讲，常年使川川ZNS的机器基本上五年后真空腔被腐蚀殆尽•尽管如此，在一些小作坊工厂因其易蒸发,低成本等原因仍被广泛使用，名稱：氟化錐(ThF4)260nm—12000nm以上的光譜區域，是一種優秀的低折射率材料,然而存在放射性，在可視光譜區n從1.52降到1.
5、38(lOOOnm區域)在短波長趨近於1-6,蒸發溫度比MgF2低一些，通常使用帶有凹罩的舟皿以免ThF4良性顆粒火星飛濺出去，而且形成的薄膜似乎比MgF2薄膜更加堅固。該膜在IR光譜區3000nm水帶幾乎沒有吸收，這意味著有望得到一個低的光譜移位以及更大的整體堅固性。在8000到12000nm完全沒有材料可替代。名稱：二氧化鉄(TiO2)TiO2由於它的高折射率和相對堅固性，人們喜歡把這種高折射率材料用於可見光和近紅外線區域，但是它本身又難以得到一個穩定的結果。TiO2,Ti3O5,Ti2O3,TiO及Ti,這些原材料氧一钛原子的模擬比率分別為：2.0,1.67,1.
6、5,1.0,0,後發現比率為1-67的材料比較穩定並且大約在550nm生成個重復性折射率為2.21的堅固的膜層，比率為2材料的第一層産主一個大約2.()6的折射率，後面的膜層折射率接近2-21o比率為1.0的材料需要7個膜層將折射率2.38降到2.21o這幾種膜料都無吸收性,幾乎每…個TiO2蒸著都遵循一個原則是：在可使用的光譜區內取得可以忽略的吸收性，這樣可以降低氧氣壓力的限制以及溫度和蒸著速度的限制。TiO2需要使用IAD助鍍，氧氣輸入口在擋板下面。Ti3O5比其它類型的氧化物貴一些，可是有很多人認為這種材料不穩定性的風險小•些。Pulker等人指出，最後的折射率與
7、無吸收性是隨著氧氣壓力和蒸著溫度而改變的，基板溫度高則得到高的折射率，例如，基板溫度為400°C時在500nm波長得到的折射為2-63,可是由於別的原因，高溫蒸著通常是不受歡迎的，而離子助鍍已成為一個普遍採用的方法其在低溫其至在室溫時就可以得到比較高的折射率，通常需要提供足夠的氧氣以避免（因為有吸收則降低透過率），但是可能也需要降低吸收而增大錨射損壞臨界值（LDT）。TiO2的折射率與真空度和蒸發速度有很大的關係，但是經過充分預熔和IAD助鍍可以解決這一難題，所以在可見光和近紅外線光譜區中，TiO2很受人們的歡迎。在IAD助鍍TiO2時，
