高功率脉冲磁控HPS宣传资料.doc

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1、一高功率脉冲磁控溅射简介高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)利用近兆瓦级的溅射功率，产生极高的离化率，膜层在附着力、硬度、耐磨性、表面形貌等方面均有极好的特性，是国内外磁控溅射领域研究的新热点。其相对具备了传统PVD技术不能兼顾的强附着力与膜层细致的优点，高功率脉冲磁控溅射的技术特点如图2所示。图1PVD技术的发展历程图2高功率脉冲磁控溅射的技术特点高功率脉冲磁控溅射可以在磁控溅射、轰击处理等方面有广泛的应用空间，应用范围及应用方式如图3、图4所示。图3高功率脉冲磁控溅射的应用范围图4高功率脉冲磁控溅射与电源二HPS系列电源技术特点与技术指

2、标高功率脉冲磁控溅射电源(HPS)因其高峰值功率、强电弧抑制、运行稳定性等要求，成为制约HIPIMS发展的重要因素。HPS的技术特点如图5所示，HPS电源的输出特性如图6所示。图5HPS电源技术特点(以HPS-2000D为例)图6HPS电源的输出特性我公司历时多年研发HPS电源具有宽的参数调节范围、高达兆瓦的瞬时功率输出、先进的触发方式、人性化的操作界面等特点。HPS电源的技术指标如图7所示。图7高功率脉冲磁控溅射电源技术指标三HPS系列电源的电弧抑制与薄膜特性高功率脉冲磁控溅射因其极高的峰值电流而容易进入电弧放电状态，电弧抑制成为该电源

3、的核心问题，图8为电弧抑制原理示意与膜层形貌对比图。图8HPS系列电源电弧抑制机制与膜层质量对比