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时间:2020-03-19
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1、WUHANINSTITUTEOFTECHNOLOGY武汉职业技术学院毕业论文薄膜制造技术与工艺的研究学院:电子信息工程学院专业:光电子技术班级:12302姓名:学号:12013035指导老师:2014年11月17日摘要:根据太阳电池阵激光防护膜性能优化的需要,应用离子辅助电子束双源共蒸工艺方法制备了优化设计所需的特定折射率的薄膜材料并用于制备激光防护膜。测试结果显示:用该工艺方法制备的掺杂材料薄膜的折射率门=1.75,与优化设计所需数值相符;激光防护膜性能优良,太阳辐射能透过率提高6%以上,实现了对该激光防护膜性能的
2、进一步优化。为了使该双源共蒸方法适于大面积薄膜的制备,应用均匀性挡板技术来提高该方法制备大面积薄膜的膜厚均匀性,使制备的掺杂材料薄膜在口径为400mm时的不均匀性小于2.1%。该双源共蒸方法制备工艺简单、可靠,适于实际工程应用。薄膜性能测试结果与理论优化结果相符,达到预期优化F1标。关键词:薄膜材料;激光防护膜;折射率;掺杂;双源共蒸Abstract:Accordingtothesolarcellarraylaserprotectivefilmperformanceoptimization,applicationof
3、ionassistedbeamdoublesourcepreparationneededfortheoptimaldesignmethodsofsteamingprocessspecificrefractiveindexofthinfilmmaterialsandusedforthepreparationoflaserprotectivefilm.Testresultsshowthatusingtheprocessmethodofthepreparationofdopedmaterialsfilmrefractive
4、indexn=1.75,consistentwiththenumericaloptimizationdesign;Laserprotectivefilm,theexcellentperformaneeofsolarradiationtransmittaneeincreasedbymorethan6%,achievedtooptimizetheperformaneeofthelaserprotectivefilm.Inordertomakethedoublesourcewithsteamingmethodissuita
5、bleforthepreparationoflargeareaofthinfilm,applicationofuniformityofdampertechnologytoimprovethemethodpreparationoflargeareaoffilmthicknessuniformity,makepreparationofdopedmaterialthinfilmwhenthediameteris400mmtheinhomogeneityoflessthan%2.1.Thedual-sourcewereste
6、amingmethodpreparationtechnologyissimple,reliableandsuitableforengineeringapplication.Membraneperformancetestresultsandthetheoryofoptimizationresultsofthedesiredoptimizationgoal.KeyWords:Thinfilmmaterials;Laserprotectivefilm;Therefractiveindex.Doping;Dual-sourc
7、eweresteamed・1弓I言51・1光学薄膜简介51.1.1简介51.1.2特点51.1.3分类51.1.4制备61.1.5应用61.2光学薄膜的发展及分类、关键技术汇总72特定折射率材料的需求93.特定折射率材料的制备103.1以往掺杂材料制备103.2双源共蒸法113・3均匀性保证124•结果与讨论125结论14参考文献15致谢171引言1・1光学薄膜简介光学薄膜(opticalcoating)是由薄的分层介质构成的,通过界而传播光束的一类光学介质材料。光学薄膜的应用始于20世纪30年代。现代,光学薄膜已广
8、泛用于光学和光电子技术领域,制造各种光学仪器。1.1.1简介光学薄膜是涉及光在传播路径过稈•屮,附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层,通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性,以达到人们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或是光的偏振分离等各特殊形态的光。1.1.2特点光学薄膜的特点是:表而光滑,膜层Z间的界
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