纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc

纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc

ID:51387281

大小:824.00 KB

页数:26页

时间:2020-03-23

纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc_第1页
纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc_第2页
纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc_第3页
纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc_第4页
纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc_第5页
资源描述:

《纯手工 制造 CPU 详细 过程.doc》由会员上传分享,免费在线阅读,更多相关内容在工程资料-天天文库

1、纯手工制造CPU详细过程看了上面的牛人纯手工制造CPU,你会不会觉得原來制造CPU也不过如此,但你仔细浏览完下面的文章,你应该会对之前的想法有所改观:众所周知,CPU是计算机的心脏,是完成各种运算和控制的核心,也是决定计算机性能的最重要的部件。在任何电子设备上都可以找到微芯片的身影,不过也有人不屑一顾,认为处理器这东西没什么技术含量,不过是一堆沙子的聚合而匕。是么?Intel就公布了人量图文资料,详细展示了从沙子到芯片的全过程,简单与否一看便知。简单地说,处理器的制造过程可以人致分为沙子原料(石英)、硅锭、晶圆、光刻(平版印刷)、蚀刻、离子注入、金属沉积、

2、金属层、互连、晶圆测试与切割、核心封装、等级测试、包装上市等诸多步骤,而且每一步里边又包含更多细致的过程。下边就图文结合,一步一步看看:CPU制造:第一阶段图文肓播:沙子:硅是地壳内第二丰富的元素,而脱氧后的沙子(尤其是石英)最多包含25%的硅元素,以二氧化硅(Si02)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。J(intel)泡泡网PCPOP.COM硅熔炼:12英寸/:300烹米晶圆级,下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电子级硅(EGS),平均每一百力个硅原子屮最多只有一个杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到人晶体的,最后得到的就

3、是硅锭(Ingot)。单晶硅锭:整体基本呈圆柱形,重约100千克,硅纯度99.9999%。第-•阶段合影步骤图CPC制造:第二阶段图文肓播:硅锭切割:横向切割成圆形的单个硅片,也就是我们常说的晶圆(Wafer)。顺便说,这下知道为什么晶圆都是圆形的了吧?晶圆:切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕,表面其至可以当镜子。事实上,Intel自己并不生产这种晶圆,而是从第三方半导体企业那里直接购买成品,然后利用白、的生产线进一•步加工,比如现在主流的45nmHKMG(高K金属栅极)。值得一提的是,Intel公司创立之初使用的晶圆尺寸只有2英寸/50亳米。第二阶段

4、合影步骤图CPU制造:第二阶段图文肓播:光刻胶(PhotoResist):图小蓝色部分就是在晶圆旋转过程小浇上去的光刻胶液体,类似制作传统胶片的那种。晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、非常平。光刻一:光刻胶层随后透过掩模(Mask)被曝光在紫外线(UV)之下,变得可溶,期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一-刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成微处理器的每一层电路图案。一般來说,在晶圆上得到的电路图案是掩模上图案的四分之一。泡泡网PCPORCOM光刻二:由此进入50-200纳米尺寸的晶体管级别。一•块晶圆上可

5、以切割岀数百个处理器,不过从这里开始把视野缩小到其屮一个上,展示如何制作晶体管等部件。晶体管相当于开关,控制着电流的方向。现在的晶体管已经如此之小,一个针头上就能放下大约3000Jj个。第三阶段合彫步骤图CPU制造:第四阶段图文口•播:溶解光刻胶:光刻过程小曝光在紫外线下的光刻胶被溶解掉,清除后留下的图案和掩模上的一致。蚀刻:使用化学物质溶解掉暴露出來的晶圆部分,而剩下的光刻胶保护着不应该蚀刻的部分。(intel)泡泡网PCPOP.COM清除光刻胶:蚀刻完成后,光刻胶的使命宣告完成,全部清除后就可以看到设计好的电路图案。第四阶段合影步骤图CPU制造:第讥阶

6、段图文玄播:光刻胶:再次浇上光刻胶(蓝色部分),然后光刻,并洗掉曝光的部分,剩下的光刻胶还是用来保护不会离子注入的那部分材料。离子注入(IonImplantation):在真空系统屮,用经过加速的、要掺杂的原子的离子照射(注入)固体材料,从而在被注入的区域形成特殊的注入层,并改变这些区域的硅的导电性。经过电场加速后,注入的离子流的速度可以超过30力千米每小时。intei)泡泡网PCPOP.COM清除光刻胶:离子注入完成后,光刻胶也被清除,而注入区域(绿色部分)也已掺杂,注入了不同的原子。注意这时候的绿色和之前已经有所不同。第直阶段合影步骤图CPU制造:第六

7、阶段图文玄播:晶体管就绪:至此,晶体管匕经基木完成。在绝缘材(品红色)上蚀刻出三个孔洞,并填充铜,以便和其它晶体管互连。电镀:在晶圆上电镀一层硫酸铜,将铜离子沉淀到晶体管上。铜离子会从正极(阳极)走向负极(阴极)。铜层:电镀完成后,铜离子沉积在晶圆表面,形成一个薄薄的铜层。(intel)泡泡网PCPOP.COM第六阶段合影步骤图CPU制造:第七阶段图文肓播:抛光:将多余的铜抛光掉,也就是磨光晶圆表血。(intep泡泡网PCPOP.COM金属层:晶体管级别,六个晶体管的组合,人约500纳米。在不同晶体管之间形成复合互连金属层,具体布局取决于相应处理器所需要的

8、不同功能性。芯片表血看起來异常平滑,但事实上可能包含20多层复杂的

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文

此文档下载收益归作者所有

当前文档最多预览五页,下载文档查看全文
温馨提示:
1. 部分包含数学公式或PPT动画的文件,查看预览时可能会显示错乱或异常,文件下载后无此问题,请放心下载。
2. 本文档由用户上传,版权归属用户,天天文库负责整理代发布。如果您对本文档版权有争议请及时联系客服。
3. 下载前请仔细阅读文档内容,确认文档内容符合您的需求后进行下载,若出现内容与标题不符可向本站投诉处理。
4. 下载文档时可能由于网络波动等原因无法下载或下载错误,付费完成后未能成功下载的用户请联系客服处理。