搪玻璃设备制造质量艺规定2.doc

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1、搪玻璃设备制造质量工艺规定QI01-17-02一、搪玻璃工艺1内容与适用范围1.1本规程规定了在金属基体表面上烧制搪玻璃釉层的工艺程序及要求，适用于搪玻璃设备(配件)的予处理及涂搪烧成工艺。1.2配件包括：填料箱、放料阀、搅拌器、温度计套管等。2依据标准GB25025-2010搪玻璃设备技术条件GB/T7987〜7990糖玻璃设备试验方法3工艺流程图3.1搪玻璃过程质量控制程序图4搪玻璃基体技术要求4.1搪玻璃设备金属基体制造内表而基本要求。4.1.1搪玻璃设备金属基体制造中应避免表面的损伤，需搪玻璃面不得有不利于搪玻璃的瑕疵，否则应进行修磨，修磨范围的斜度不小于1：

2、5修磨深度应不大于0.5mm,否则应于补焊。4.1.2搪玻璃件金属基体焊接接头，要遵守搪玻璃面优先对齐的原则,焊接接头对口错边量W(10%8+1)mm且不大于3mm。4.1.3擔玻璃基体糖玻璃面的焊缝应平滑过度至母材，不允许有夹渣、气孔、咬边、未焊透等缺陷。4.2搪玻璃件金属基体表而处理及要求421搪玻璃件金属基体在搪玻璃前应对其需搪玻璃面顺次进行修磨、预烧和喷砂（丸）处理。4.2.2修磨金属基体需搪玻璃面应进行手工和机械修磨，焊缝余高应修磨平整，转角部位应修磨至圆弧过渡；修磨后的金属基体的搪玻璃面应平滑，无裂纹、气孔、夹杂、分层、电弧灼烧伤等缺陷和其它影响，搪玻璃层

3、质量的瑕疵，在修磨屮金属基体表面如出现4.1.1的情况，应按该条的要求进行补焊。4.3预烧耍求：金属基体受热均匀适度，防止变形和极度氧化，消除焊接应力，适合喷砂，搪玻璃涂层烧成工艺。4.3.1准备合适的烧架，清除铁胎内的异物。4.3.2烧架必须摆平放止，间距适当，予浇件与烧架吻合方可入炉。罐盖应单个扣在平架上进行，严禁多件乱垒一起予烧。433予烧温度780-900°C，时间依据工件品种规格等因素，区别对待。原则上应达到各部位红热基本一致，能生成较均匀的氧化层。4.3.4岀炉后，要待适度冷却再行吊运，以防变形。4.4喷砂（丸）正理4.4.1金属基体搪玻璃面喷砂（丸）处理

4、的质量，应符合GB/T8923中喷射或抛射除锈的Sa3级或手工和动力工具除锈的St3级要求。442罐身外部的上接环以上、下接环以下也要进行简单的喷砂处理。4.4.3表面处理完毕后，糖玻璃面应禁止水、油和有机物等的污染，禁止用手触摸，并应及时进行搪玻璃。4.5釉桨的调制与喷涂4.5.1釉桨的调制应按照搪玻璃釉生产企业提供的说明书进行，釉浆调制好后，应防止污染，并在使用过程中保持均匀的悬浮状态。452釉浆喷涂用的压缩空气应干燥、洁净。严禁油、水及灰尘的混入。喷涂时压缩空气的压力应保持稳定。4.5.3釉浆喷涂层应均匀，凸面部位宜薄，厚度应逐遍增加。4.5.4喷涂后的糖玻璃釉

5、层应充分干燥，干燥后釉层不得有裂纹、起皮、粉瘤、明显的皱纹等缺陷，应防止水、油、汗迹和有机物等污染。4.6烧成4.6.1烧成炉和烧成支架应满足搪烧工艺的要求。4.6.1.1根据不同产品和不同的深层情况，适当掌握烧成温度和时间。461.2钢板底釉烧成温度：900-940°C4.6.1.3铸铁底釉烧成温度：880-920°C4.6.1.4面釉的烧成温度：840〜920°C4.6.2每烧成一扁应对搪玻璃而进行检查，发现针孔、裂纹、喑泡、鱼鳞爆、发沸、变形等缺陷时应分析原因并及时处理，无法局部修复的缺陷应复搪，重大缺陷的正理及复搪应记入质量档案。4.6.3烧成过程屮应随时对搪

6、玻璃层厚度及工作的形位公差进行测量与控制。464搪玻璃件烧成完成后，应保证搪玻璃层的均匀、光滑和充分融合，其最终质量应符合GB25025-2010第9章的要求。