PET表面镀SiOx薄膜的研究进展及应用.pdf

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1、现代塑料加工应用20l2年第24卷第2期MoDERNPLASTICSPRoCESSINGANDAPPLICATIoNSPET表面镀SiOz薄膜的研究进展及应用李春伟曹奇张义张志力。(1．东北林业大学，黑龙江哈尔滨，150040；2．陕西威能检验咨询有限公司，陕西西安，710000)摘要：综述了采用磁控溅射技术和等离子体增强化学气相沉积技术制备SiO／聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜的研究进展，探讨了SiO／PET薄膜阻隔作用机理，此外还阐述了SiO／PET薄膜的应用状况。关键词：氧化硅薄膜聚对苯二甲酸乙二醇醣磁控溅射高阻隔Re

2、searchDevelopmentandApplicatiOnOn0fSiOFilmsonPETSubstrateLiChunweiCaoQiZhangYiZhangZhili(1．NortheastForestryUniversity，Harbin，Heilongjiang，150040；2．ShanxiFor—EnergyInspection&ConsulationCo．，Ltd．，Xian，Shanxi，710O00)Abstract：TheresearchdevelopmentofSiO／polyethylenetere

3、phthalate(PET)filmpreparedbymagnetronsputteringandplasmaenhancedchemicalvapordepositiontech—niquearereviewed，thebarriermechanismofSiO／PETfilmiSdiscussed．Inaddition，theapplicationstatusofSiO／PETfilmisalsoelaborated．Keywords：siliconoxide；film；polyethyleneterephthalate；

4、magnetronsputtering；highbarrier聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)具有优良的物很高表面迁移性，因而有较好的成膜性能，薄膜致理化学性能和回收再生等优点，因此被广泛应用。密度高，对基片的附着力较好。磁控溅射还有其在PET表面镀SiO(z在l～2之间)薄膜是指以他优点，如设备简单、操作方便、控制也不太难。PET基材，在高真空条件下通过物理气相沉积或在溅射镀膜过程中，只要保持工作气压和溅射功化学气相沉积的方法在塑料薄膜表面沉积生成致率恒定，基本上即可获得稳定的沉积速率，沉积速密均匀、结合牢固的高阻隔Si0薄膜，

5、从而可起率相对较低是其最大缺点。用单元素靶材溅射并到增加PET阻隔性能的效果。目前，该复合薄膜导入反应气体进行的反应称为反应溅射。反应磁是一种广受关注的高阻隔包装材料。以下将对国控溅射中调节沉积工艺参数，可以制备化学配比内外该领域的相关工作进行综述。或非化学配比的化合物薄膜，从而达到通过调节薄膜的组成来调控薄膜特性的目的[1]。磁控溅射1磁控溅射技术收稿日期：2011-10-17；修改稿收到日期；2012—02—01磁控溅射是1种高速、低温溅射技术，该方法作者简介：李春伟，讲师，研究方向为包装印刷材料与技术。E-mail：lcw

6、nefu@126．corn。沉积速率高，功率效率高，沉积基材温度低，可以基金资助：中央高校基本科研业务费专项资金制备任意物质的薄膜。在成膜过程中，基体表面(DL10BB11)；东北林业大学工程技术学院大学生创新性实同时受到载能粒子的高速轰击，使成膜粒子具有验项目(CX2011-18)。李春伟等．聚酯表面镀SiO薄膜的研究进展及应用法与其他镀膜方法相比，具有膜层与基材的结合力强和膜层纯度高、致密、均匀等优点。2等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术国外对利用磁控射频反应溅射沉积法制备SiO薄膜进行了大量的研究，研究的内容主要P

7、ECVD既包括了化学气相沉积技术，又有集中在制备工艺参数对SiO／PET复合膜结辉光放电的增强作用。在PECVD过程中，除了构、化学组成的影响，重点考察了复合膜的阻隔有热化学反应外，还存在着极其复杂的等离子体性能。Satoru1wamori等人[2利用直流反应磁化学反应用：f激发化学气相沉积的等离子体控溅射的方法，在12，25m厚的PET表面上有：射频等离子体、直流等离子体、脉冲等离子体制备了SiO薄膜，研究发现当反应时通入O和微波等离子体以及电子回旋共振等离子体等。量较高，该薄膜的阻隔氧气性能较差。射频磁控PECVD技术可以将

8、反应物中的气体分子激发溅射的方式也是通常使用的1种制备方法。M．离化，降低反应所需要的温度，加速反应物在基C．Lin等人[3]采用射频磁控溅射的方法，以单质材表面的扩散作用，提高成膜速率，对基材以及硅为靶材，0。为反应气体，在PET基材上制备沉积的膜层表面具有溅