雪崩光电二极管的特性.doc

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1、雪崩光电二极管的介绍及等效电路模拟摘要PN结有单向导电性,正向电阻小,反向电阻很大。当反向电压增大到一定数值时,反向电流突然增加。就是反向电击穿。它分雪崩击穿和齐纳击穿(隧道击穿)。雪崩击穿是PN结反向电压增大到一数值时,载流子倍增就像雪崩一样,增加得多而快,利用这个特性制作的二极管就是雪崩二极管。雪崩击穿是在电场作用下,载流子能量增大,不断与晶体原子相碰,使共价键中的电子激发形成自由电子-空穴对。新产生的载流子又通过碰撞产生自由电子-空穴对,这就是倍增效应。1生2,2生4,像雪崩一样增加载流子。物理12张常龙雪崩光电二极管的介绍及等效电路模拟[文档副标题]二〇一

2、五年十月辽宁科技大学理学院辽宁省鞍山市千山中路185号雪崩光电二极管的介绍及等效电路模拟摘要:PN结有单向导电性,正向电阻小,反向电阻很大。当反向电压增大到一定数值时,反向电流突然增加。就是反向电击穿。它分雪崩击穿和齐纳击穿(隧道击穿)。雪崩击穿是PN结反向电压增大到一数值时,载流子倍增就像雪崩一样,增加得多而快,利用这个特性制作的二极管就是雪崩二极管。雪崩击穿是在电场作用下,载流子能量增大,不断与晶体原子相碰,使共价键中的电子激发形成自由电子-空穴对。新产生的载流子又通过碰撞产生自由电子-空穴对,这就是倍增效应。1生2,2生4,像雪崩一样增加载流子。关键词:雪崩

3、二极管等效电路1.雪崩二极管的介绍雪崩光电二极管是一种p-n结型的光检测二极管,其中利用了载流子的雪崩倍增效应来放大光电信号以提高检测的灵敏度。其基本结构常常采用容易产生雪崩倍增效应的Read二极管结构(即N+PIP+型结构,P+一面接收光),工作时加较大的反向偏压,使得其达到雪崩倍增状态;它的光吸收区与倍增区基本一致(是存在有高电场的P区和I区)。P-N结加合适的高反向偏压,使耗尽层中光生载流子受到强电场的加速作用获得足够高的动能,它们与晶格碰撞电离产生新的电子一空穴对,这些载流子又不断引起新的碰撞电离,造成载流子的雪崩倍增,得到电流增益。在0.6~0.9μm波

4、段,硅APD具有接近理想的性能。InGaAs(铟镓砷)/InP(铟磷)APD是长波长(1.3μn,1.55μm)波段光纤通信比较理想的光检测器。其优化结构如图所示,光的吸收层用InGaAs材料,它对1.3μm和1.55μn的光具有高的吸收系数,为了避免InGaAs同质结隧道击穿先于雪崩击穿,把雪崩区与吸收区分开,即P-N结做在InP窗口层内。鉴于InP材料中空穴离化系数大于电子离化系数,雪崩区选用n型InP,n-InP与n-InGaAs异质界面存在较大价带势垒,易造成光生空穴的陷落,在其间夹入带隙渐变的InGaAsP(铟镓砷磷)过渡区,形成SAGM(分别吸收、分级

5、和倍增)结构。在APD制造上,需要在器件表面加设保护环,以提高反向耐压性能;半导体材料以Si为优(广泛用于检测0.9um以下的光),但在检测1um以上的长波长光时则常用Ge和InGaAs(噪音和暗电流较大)。这种APD的缺点就是存在有隧道电流倍增的过程,这将产生较大的散粒噪音(降低p区掺杂,可减小隧道电流,但雪崩电压将要提高)。一种改进的结构是所谓SAM-APD:倍增区用较宽禁带宽度的材料(使得不吸收光),光吸收区用较窄禁带宽度的材料;这里由于采用了异质结,即可在不影响光吸收区的情况下来降低倍增区的掺杂浓度,使得其隧道电流得以减小(如果是突变异质结,因为ΔEv的存

6、在,将使光生空穴有所积累而影响到器件的响应速度,这时可在突变异质结的中间插入一层缓变层来减小ΔEv的影响)。2.主要特性主要特性①雪崩增益系数M(也叫倍增因子),对突变结式中V为反向偏压,VB为体雪崩击穿电压;n与材料、图1结构示意图器件结构及入射波长等有关,为常数,其值为1~3。②增益带宽积,增益较大且频率很高时,M(ω)·ω 式中ω为角频率;N为常数,它随离化系数比缓慢变化;W为耗尽区厚度;Vs为饱和速度;αn及αp分别为电子及空穴的离化系数,增益带宽积是个常数。要想得到高乘积,应选择大Vs,小W及小αn/αp(即电子、空穴离化系数差别要大,并使具有较高离化系

7、数的载流子注入到雪崩区)。③过剩噪声因子F,在倍增过程中,噪声电流比信号电流增长快,用F表示雪崩过程引起的噪声附加F≈Mx。式中x称过剩噪声指数。要选择合适的M值,才能获得最佳信噪比,使系统达到最高灵敏度。④温度特性,载流子离化系数随温度升高而下降,导致倍增因子减小、击穿电压升高。用击穿电压的温度系数卢描述APD的温度特性。β= 式中VB及VB0分别是温度为T及T0时的击穿电压。使用时要对工作点进行温控,要制造均匀的P-N结,以防局部结面被击穿。3.工作特性雪崩光电二极管为具有内增益的一种光生伏特器件,它利用光生载流子在强电场内的定向运动产生雪崩效应,以获得光电流

8、的增益。在

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