光敏二极管芯片制作流程.ppt

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1、OPTO产品介绍OPTO产品是什么？OPTO产品指的是车间生产的光敏二极管和光敏三极管，从命名上可以看出这种产品对光是非常敏感的，产品结构及制造工艺与普通的晶体管也有一定的区别，故电特性也是有其独特的地方。光敏二极管：英文为PHOTODIODE，简称为PDI，它是在反向电压作用下工作的,没有光照时,反向电流极其微弱,叫暗电流;有光照时,反向电流迅速增大到几十微安,称为光电流.光的强度越大,反向电流也越大.光的变化引起光电二极管电流变化,这就可以把光信号转换成电信号,成为光电传感器件。光敏三极管：英文为PHOTOTR

2、ANSISTOR，简称为PTR，它和普通三极管相似，也有电流放大作用，只是它的集电极电流不只是受基极电路和电流控制，同时也受光辐射的控制。PDI产品PROCESS（1）PROCESS명PDP01(PBF)STEPAUK-DCONDITION장비/RECIPESPEC.1'STOXIDATION(R)1050℃3'(O2)+70'(STEM)+1'(O2)18TUBE/#109TOX=5800~6800ÅP+PEPTIME:480"(BOE7:1)PLAPBFCOATING3M-31CP표면COATINGPBFCOA

3、TER/#09T=3800~4200ÅP+DIFFUSION(R)1000℃78'(N2/LO2=3/0.15)23TUBE/#720RS=15~21Ω/□LTO770℃15'(N2/WO2=0.5/3)24TUBE/#123P+DRIVE1020℃22TUBE/#753TOX=3400~4400Å5'(N2/O2)+35'(N2/WO2/HCL)+27'(N2/O2)RS=34~50Ω/□N+PEPWETEtchTIME:660"(BOE7:1)PLAN+DIFFUSION950℃15'(N2/O2)+13'35

4、"(POCl3)+5'N2/O2)A-1/14TUBE/#216RS=8~23Ω/□N+DRIVE900℃15'(N2/O2)+70'(ST)+5'N2/O2)13TUBE/#348TOX=4500~5500ÅRS=10~25Ω/□SINPEPTIME:480"(BOE7:1)PLAPECVDOXFORD/#06TSIN=1300~1500ÅCNTPEPWETEtchTIME:480"(BOE7:1)PLAMETALPUREALSPUTTER/#1Al=20000ÅMETALPEPALWETETCHPLASINTE

5、R450℃,25min,N216TUBE/#643BACKMETALBHF:CH3C00H=2:110초DIPT=1500±150ÅTemp.=250℃,진공도=1.3×10-4PaVES-2550/#01TCr=500±50ÅTAu=1000±100ÅPDI产品PROCESS（2）PROCESS명PDP05STEPAUK-DCONDITION장비/RECIPESPEC.1'STOXIDATION(R)1050℃5'(O2)+140'(STEM)+30'(O2)*Recipe확인18TUBE/#105TOX=720

6、0~8800ÅP+PEPWETEtchTIME:720"(BOE7:1)MPAPBFCOATING3M-31CP표면COATINGPBFCOATER/#09T=3800~4200ÅP+DIFFUSION(R)1000℃78'(N2/LO2=3/0.15)23TUBE/#720RS=15~21Ω/□LTO770℃15'(N2/WO2=0.5/3)24TUBE/#123P+DRIVE1020℃22TUBE/#769TOX=~1000Å5'(N2/O2)+70'(N2/O2)+5'(N2/O2)(Recipe확인)RS=

7、22~33Ω/□DEWETWETEtchTIME:70"(BOE7:1)WETPECVDSIN두께=1100ÅTarget중심치(출하조건감안두께설정)OXFORD/#____TSIN=1000~1150ÅCNTPEPWETEtchTIME:420"(BOE7:1)MPAMETALPUREAL,전처리조건15:1HF=10"SPUTTER/#1Al=20000ÅMETALPEPALWETETCHMPASINTER450℃,30min,N216TUBE/#645M/P*Manual측정_Manual측정Sheet에기

8、록CurveTracer규격참조BACKMETALBHF:CH3C00H=2:110초DIPT=1500±150ÅTemp.=250℃,진공도=1.3×10-4PaVES-2550/#01TCr=500±50ÅTAu=1000±100ÅEDS전수TEST_ProbeCardAUTOTESTERPGM규격참조PDI产品工艺流程(DS3-23)1’STOXIDE