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时间:2020-03-07
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1、、么W密级:啊妓术聲UniversitofScienceandTechnoloBeiiinsygy博纖i蓄论文论文题目:MPCVD高品质金刚石膜的制备与K-Ka波段微波介电性能研究学号:B20120225作者:刘艳青^专业名称:材料科学与工程2017年06月01日MPCVD高品质金刚石膜的制备与K-Ka波段微波介电性能研究AninvestigationonmicrowavedielectricpropertiesofMPCV
2、DhighualitdiamondfilmsinqytherangeofKandKaband研究生姓名:刘艳青指导教师姓名:巧化化北京科技大学材料科学与工程学院北京100083,中国DoctorDe呂reeCandidate:LiuYanqingSuervisor:TanWeizhonp吕gSchoolofMaterialsScienceandEnineeringgUniversityofScienceandTechnologyBeijing
3、30Xueyuan民oad,HaidianDistrictBeiin100083,PR.CHINAg.j測4公分类号密级::1UQ(,8UDC;单位代码:北京科技大網壬学位论文论文题目-Ka微波:MPCVD高品质金刚石膜的制备与K介电性能研究为雌青作者:唐伟‘忠教授北如科&人巧指导教师::单位指导小组成员;:单位单位;论文提交日期:2017年06月01日学位授予单位;北京科技大学致谢本论文工作是在导师唐伟忠教授的精私指导下
4、完成的。感谢唐老师在选?题、实验设计W及课题难点的攻破等方面的悉也指导;感谢老师对本文写作思路的指导及细也批阅;感谢老师对学生在校期间生活方面的关怀和帮助。唐老师深厚的学术功底一丝不苟的精神和、求真务实的科研态度、对待学术,使我受益匪浅平易近人的生活作风深深地教育和影响着我。在此向恩师表示崇高的敬意和衷屯的感谢!感谢北京科技大学吕反修教授、李成明教授在论文完成过程中给予的指、!导和建议,在此表示衷屯的感谢感谢实验室的诸位同口,他们营造的愉快的工作氛围和对论文工作的帮助将使我终身留恋,李义峰,,
5、,,。特别要感谢苏静杰T明辉鲁欣如李小龙姚鹏丽,,江卫,王歌,余建民,任惠,马云飞,赵华志高京卫龙等各位同口在学习期间的关也和帮助。感谢黑立富老师,魏俊俊老师,陈良贤师兄,刘金龙师兄,郭建超同学等在科研和生活上的关也和帮助!感谢河北省激光研究所(河北普莱斯曼金刚石科技有限公司)在课题完成过程中给予了大力支持,在此向郭辉经理和张平伟经理等各位工作人员表示衷也的感谢!一!,直W來对我的鼓励与支持最后,感谢我的家人,感谢父母感谢你们摘要为了满足微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)金刚石膜作为微波
6、介电材料的应用需求,本文从改变MPCVD生长参数制备不同品质的金刚石膜入手一,并同时设计和建立了台低损耗薄膜材料微波介电性能测试系统,继而探索了生长条件对金刚石膜品质和微波介电性能的影响,并对金刚石膜介电损耗的机制进行了讨论。论文首先采用弯顶式MPCVD装置在不同生长参数(包括甲持浓度、沉积温度)条件下,制备了不同品质的金刚石膜,并采用传统的表征方法对其进行初步的评价。另外,由于金刚石膜在制备过程中,在非故意和故意惨杂的情况下经常会嵌入氮杂质-m范,因此,本文继而研究了氮气浓度在040pp围内对
7、所制备的金刚石膜品质的影响。一为满足对金刚石膜介电性能进行系统测试的需求,设计并建立了台工作模式为TEo25GHz(K波段)的截止圆ii、空腔谐振频率为波导式低损耗薄膜微波介电性能测试装置,并对该装置的测试能力进行了验证。实验结果表-,该装置具有稳定80380明、准确测量厚度在1^1111么间金刚石膜介电性能的能力,%介电常数的测试误差约为1,损耗正切值的测试误差约7%。在截止圆波导式谐振腔微波介电性能测试装置成功建立的基础上,对不同生长参数所制备金刚石膜的微波介电性能进行了表征。结果表明,生长参
8、,但对介电损耗的影响较大24GHz数对金刚石膜介电常数的影响较小。在的’975C,甲掠浓3%测试频率下,温度为度为条件下所制备的金刚石膜具有较低的介电损耗。甲院浓度的增加、沉积温度的改变均会造成金刚石膜介电损耗增加。-与此同时,对氮
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