导电制造高纯水设备的玻璃用水相关资料分享.doc

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1、导电制造高纯水设备的玻璃用水相关资料分享多年来，我国的高纯水设备在不断地发展壮大，但是和国外相比还是有很大的差距。如果使用去离子水，那么情况将会被大为改善，是我国很多行业提高产品质量的，赶超世界先进水平的重要手段之一。这一点，我们在实践中，在诸如化工、生物、喷涂、表面处理、制药、食品、电子等行业都得到了很好的验证。设备的技术特点电去离子(EDI)技术是一种将电渗析和离子交换有机结合在一起的脱盐新工艺，英文名称electrodeionization,缩写EDI,该工艺过程取电渗析和离子交换两者之长，弥补对方Z短，即利用

2、离子交换深度脱盐來克服电渗析极化而脱盐不彻底，又利用电渗析极化而发生水电离产生H+和011-实现树脂自再生来克服树脂失效后通过化学药剂再生的缺陷。因而EDI技术是一种完美的除盐工艺。设备技术的先进性资源共享來源于莱特莱德海口高纯水设备工程公司不需化学再生药剂，生产过程无任何污染，属清洁生产;不需停机再生，连续生产水质稳定的高纯水（15〜18MQ•cm）;运行稳定可靠，维护简单、运行费用低；占地血积小，节约场地建设费用。设备的主要作用和适用范围EDI的作用是精除盐。在使用R0渗透水脱除97〜99%离子的前提下，EDI可

3、直接将反渗透产水提纯到纯水、高纯水、超纯水的标准，而无需使用离子交换混床，其产水的电阻率最高可达18MQ•cm。EDI设备在对水质要求较高的行业中具有广泛的应用市场。在电子工业、科研实验室、检验分析行业常用EDI制取18MQ・cm以上的超纯水，在精细化工、发电、电镀行业常用EDI制取15MQ・cm以上的高纯水，在医院和制药行业常用EDI制取5MQ•cm以上的纯化水，在食品饮料行业应用EDI制取0.5MQ•cm以上的初纯水等。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路成品、半成品用超纯水。超纯材料和超纯化学试剂勾兑用超纯水

4、。实验室和中试车间川超纯水。汽车、家电表面抛光处理。光电子产品。其他高科技精微产品。设备的工作原理EDI电去离子膜堆同吋进行以下三个主要过程：1）在纯水室中，阴、阳混合离子交换树脂上的0H-和H+离子对水中电解质离子的离子交换过程；2）在外电场作用下，纯水室水中电解质离子通过离子交换膜被迁移到浓水室的电渗析过程；3）电渗析的极化及交换树脂本身的水解作用所产生的11+和011-对交换树脂的再生过程。这三个过程同时发生，相互促进，从而实现了EDI连续不断地生产高电阻率的超纯水的日标。水中通常含有五种杂质：A、电解质包括带

5、电粒子，常见的阳离子有［比Na+.K+.NII4+.Mg2+.Ca2+.Fe3+・Cu2+・Mn2+.A13+等;阴离子有F—・Cl-N03-.HC03-.S042-.P043-.II2P04-.IISiO3-B、有机物质,如:有机酸、农药、姪类、醇类和酯类等；C、颗粒物；D、微生物;E、溶解气体，包括：N2、02、C12、H2S、CO、C02、CI14等；所谓去离子水、超纯水、高纯水、深度净化水，就是要去掉这些杂质。杂质去的越彻底，水质也就越纯净。净化水生产工艺：1•阳床+阴床（水质可以做到0.2MQ.cm以上即5

6、us/cm以下,25°C）2•阳床+阴床+混床（水质可以做到1OMQ.cm以上即0.1ns/cm以下,25°C）3•阳床+阴床+混床+抛光混床冰质可做到18MQ.cm即0.055口s/cm,25°C）4.R0反渗透（水质可以做到0.2MQ.cm以上即5us/cm以5.RO反渗透+混床（水质可以做到10MQ.cm以上即0・1us/cm以下,25°C）6.R0反渗透+混床+抛光混床（水质可以做到18MQ.cm即0.5Us/cm,25°C）7.R0反渗透+EDI（水质可以做到15MQ.cm以上即0.066us/cm以下,2

7、5°C）8.R0反渗透+EDI+抛光混床（水质可以做到18MQ.cm即0.05口s/cm,25°C）9.二级RO+EDI（水质可做到17MQ・cm以上即0.058us/cm以下,25°C）10.・二级RO+EDI+抛光混床（水质18MQ.cm即0.055us/cm,25°C,水质稳定）