TiCn型4H-SiC氮氢等离子体处理与欧姆接触关系的研究.pdf

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1、??」。-'犬it裡大爱DALIANUNIVERSITYOFTECHNOLOGY工鹿硕士字位记文MASTERALDISSERTATION織T-iC/n型4HSiC氮氢等离子体处理与欧姆接触关系的研究集成电路工程工程领域作者姓名王德君教授指忌教师___答辩2015年6月日期—一专业学位硕士学位论文T-ie/n型4HSiC氮氢等离子体处理与欧姆接触关系的研究Inve-stiationoftheRelationshiBetweenHdroenNitroengpyggandT--tMixed

2、PlasmatreatmentiC/ntype4HSiCOhmicConacts作者姓名:新李工程领域:集成电路工程学号:31309001指导教师:王德君完成日期:2015年5月大遠理工犬旁DalianUniversityofTechnology大连理工大学学位论文独创性声明作者郑重声明:所呈交的学位论文,是本人在导师的指导下进行研究工作所取得的成果。尽我所知,除文中巳经注明引用内容和致谢的地方外,本论文不包含其他个人或集体巳经发表的研究成果,也不包含其他巳申请学位或其他用途使用过的成果一。与我同工作的

3、同志对本研究所做的贡献均巳在论文中做了明确的说明并表示了谢意。若有不实之处,本人愿意承担相关法律责任。>?学位论文题目/歲》1财feg;楊樣偷的會,:1气^对;;^作者签名:曰期:}oK年1>月?曰大连理工大学专业学位硕士学位论文摘要作为第三代半导体材料,SiC具有禁带宽度大、临界击穿场强高、载流子饱和漂移速度大、热导率高等优点,是制作高温、高压、高频、大功率器件的理想材料,而制作电阻率低且稳定的欧姆接触是Sic器件应用的前提。欧姆接触的质量与电极材料的种类和半导体表面态直接相关,表面处理可以起到调控Sic表面态的作用。本文选用Tie作

4、为接触电极,结合ECR氮氢等离子体表面处理技术,对表面处理参数与欧姆接触质量的关系进行了研究。Tie电阻率低且化学性质稳定,功函数为3.94eV,低于其他常用欧姆接触电极材料,是SiC欧姆接触的理想电极材料。本文用不同配比的氮氢等离子体处理SiC表面,光刻圆点电极图形,利用磁控溅射技术在SiC表面淀积Tic薄膜,通过剥离形成所需电极图形,最后将多个实验样品在不同温度下退火并进行电学测试,采用圆点传输线模型(CTLM)法计。计算结果表明无论是否经过氮氢等离子体处理算接触电阻率,Tie电极未经退火就能与退火可明显降低接触电阻率°SiC形成欧姆接触,,在400C

5、退火时欧姆接触电阻率达到最低°°C相比,600C时接触电阻率与400无明显变化,制备工艺满足低温退火需求。经过ECR氮氢等离子体表面处理的样品接触电阻率明显低于未经处理的样品,并且随着氣气流量的增加60sccee,欧姆接触电阻率降低,当氢气流量m,氮气流量12sm52时,本实验获得最低欧姆接触电阻率,为1.34xl(ri>cm。同时,在表面处理过程中,氮流量的增加降低了等离子体处理对时间的敏感程度,,处理过程中氮起到了减缓反应速率实验结果表明,,优化表面结构的作用氮流量的增加使实验可控性更强,实验结果更加可靠。本实验采用ECR氮氢等离子体处理Si

6、C表面,制备TiC/n型SiC欧姆接触,具有显著的优势,实验避免了高温退火,工艺难度大大降低,欧姆接触性能良好,接触特性稳定。-S:4HiCTie关键词;;氮氢等离子体处理欧姆接触;接触电阻率;--I大连理工大学专业学位硕士学位论文-NInvestiationoftheRlatiidroenitroenMixedgeonshpBetwwenHyggsmtmen--sPlaatreatandTiC/nte4HSiCOhmicContactypAbstractAsathirdgenerationofsemiconduc

7、torSiChasbeenknowntobeanidealmaterialin,fabricationofhightemperature,highvoltage,highfrequencyhighowerelectronicdevicespbecauseofitsroertiessuchaswidebandahihcriticalelectricfieldhihca

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